PECVDrako grafito-substratu obleen euskarria

Grafito-substratu obleen euskarria PECVD-rako irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

VET Energy-ren grafito-substratu euskarria PECVD prozesu osoan zehar obleen lerrokadura eta egonkortasuna mantentzeko diseinatuta dago, kutsadura saihestuz eta kalte-arriskua gutxituz. Graphite Wafer Holder-ek plataforma seguru eta berdina eskaintzen du, obleak plasmara uniformeki jasaten direla bermatuz, koherente eta kalitate handiko deposiziorako. Eroankortasun termiko altuarekin eta aparteko indarrarekin, euskarri honek prozesuen eraginkortasun orokorra eta produktuaren errendimendua hobetzen laguntzen du.

Bidali mezu elektronikoa Deskargatu PDF moduan

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) prozesurako diseinatutako doitasun-eramailea da. Kalitate handiko grafito-substratu-euskarri hau purutasun handiko eta dentsitate handiko grafitozko materialez egina dago, tenperatura altuko erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia, dimentsio-egonkortasuna eta beste ezaugarri batzuk ditu. PECVD prozesurako laguntza-plataforma egonkorra eskain dezake eta filmaren deposizioaren uniformetasuna eta lautasuna bermatu dezake.

VET Energy PECVD prozesuko grafito obleen euskarri taulak ezaugarri hauek ditu:

▪Garbitasun handia:ezpurutasun-eduki oso baxua, filmaren kutsadura saihestu, filmaren kalitatea ziurtatu.

▪Dentsitate handia:dentsitate handiko, erresistentzia mekaniko handia, tenperatura altua eta presio handiko PECVD ingurunea jasan dezake.

▪Dimentsio-egonkortasun ona:tenperatura altuan dimentsio aldaketa txikia, prozesuaren egonkortasuna bermatuz.

▪Eroankortasun termiko bikaina:beroa modu eraginkorrean transferitu obleak gehiegi berotzea saihesteko.

▪Korrosioarekiko erresistentzia handia:Hainbat gas korrosiboren eta plasmaren higadurari aurre egin diezaioke.

▪Zerbitzu pertsonalizatua:Tamaina eta forma ezberdinetako grafitozko euskarri mahaiak bezeroen beharren arabera pertsonaliza daitezke.

Produktuaren Abantailak

▪Hobetu filmaren kalitatea:Ziurtatu filmaren deposizio uniformea eta hobetu filmaren kalitatea.

▪Ekipoen bizitza luzatzea:Korrosioarekiko erresistentzia bikaina, PECVD ekipoen zerbitzu-bizitza luzatu.

▪Produkzio kostuak murriztea:Kalitate handiko grafitozko erretiluak txatarra-tasa murriztu eta ekoizpen-kostuak murriztu ditzakete.

SGLren grafito materiala:

Parametro tipikoa: R6510
Aurkibidea	Proba estandarra	Balioa	Unitatea
Aleen batez besteko tamaina	ISO 13320	10	μm
Solte-dentsitatea	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Porositate irekia	DIN66133	10	%
Poroen tamaina ertainekoa	DIN66133	1.8	μm
Iragazkortasuna	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell gogortasuna HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Erresistentzia elektriko espezifikoa	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Flexio-indarra	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Konpresioaren indarra	DIN 51910	130	MPa
Young-en modulua	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Hedapen termikoa (20-200 ℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Eroankortasun termikoa (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Eraginkortasun handiko eguzki-zelulen fabrikaziorako bereziki diseinatuta dago, G12 tamaina handiko obleen prozesatzea onartzen duena. Eramailearen diseinu optimizatuak errendimendua nabarmen handitzen du, etekin-tasa handiagoak eta ekoizpen-kostuak txikiagoak ahalbidetuz.

Elementua	Mota	Zenbaki-ostia eramailea
PEVCD Grephite itsasontzia - 156 seriea	156-13 grephite itsasontzia	144
	156-19 grefito txalupa	216
	156-21 grephite itsasontzia	240
	156-23 grafitozko itsasontzia	308
PEVCD Grephite itsasontzia - 125 seriea	125-15 grefito txalupa	196
	125-19 grefito txalupa	252
	125-21 grphite itsasontzia	280