VET Energy-ko 8 hazbeteko P motako siliziozko oblea erdieroaleen aplikazio ugaritarako diseinatutako errendimendu handiko siliziozko olatua da, eguzki-zelulak, MEMS gailuak eta zirkuitu integratuak barne. Eroankortasun elektriko bikainagatik eta errendimendu koherenteagatik ezaguna da, ostia hau osagai elektroniko fidagarriak eta eraginkorrak ekoitzi nahi dituzten fabrikatzaileentzat hobetsitako aukera da. VET Energyk dopin maila zehatzak eta kalitate handiko gainazaleko akabera bermatzen ditu gailuak fabrikatzeko.
8 hazbeteko P motako siliziozko obleak hauek guztiz bateragarriak dira SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate bezalako hainbat materialrekin, eta Epi Wafer hazkuntzarako egokiak dira, erdieroaleen fabrikazio prozesu aurreratuetarako aldakortasuna bermatuz. Obleak goi-teknologiako beste material batzuekin batera erabil daitezke, hala nola Galio oxidoa Ga2O3 eta AlN Wafer, hurrengo belaunaldiko aplikazio elektronikoetarako aproposak bihurtuz. Diseinu sendoa kaseteetan oinarritutako sistemetan ere ezin hobeto egokitzen da, ekoizpenaren kudeaketa eraginkorra eta bolumen handikoa bermatuz.
VET Energyk bezeroei ostia soluzio pertsonalizatuak eskaintzen dizkie. Erresistentzia, oxigeno eduki, lodiera eta abar ezberdineko obleak pertsonaliza ditzakegu bezeroen behar zehatzen arabera. Horrez gain, laguntza tekniko profesionala eta salmenta osteko zerbitzua ere eskaintzen ditugu bezeroei produkzio prozesuan aurkitutako hainbat arazo konpontzen laguntzeko.
OTILA-ZEHAZTAPENAK
*n-Pm=n motako Pm-kalifikazioa, n-Ps=n motako Ps-maila, Sl=erdi isolatzailea
Elementua | 8-inch | 6-inch | 4-Hazbete | ||
nP | n-pm | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Branka (GF3YFCD)-Balio absolutua | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Warp (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR)-10mmx10mm | <2μm | ||||
Ostia Ertza | Alakatuz |
AZALERAKO AKABERA
*n-Pm=n motako Pm-kalifikazioa, n-Ps=n motako Ps-maila, Sl=erdi isolatzailea
Elementua | 8-inch | 6-inch | 4-Hazbete | ||
nP | n-pm | n-Ps | SI | SI | |
Azalera akabera | Alde bikoitzeko polanidura optikoa, Si- Face CMP | ||||
AzaleraZurtasuna | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Ertz Txipak | Ez dago onartzen (luzera eta zabalera ≥0,5 mm) | ||||
Koskak | Ez dago baimenduta | ||||
Marradurak (Si-Face) | Kopurua ≤5, metatua | Kopurua ≤5, metatua | Kopurua ≤5, metatua | ||
Pitzadurak | Ez dago baimenduta | ||||
Ertz-bazterketa | 3 mm |