Isikupärastatud tooted Hiina ränisüsiniktiigel raud- ja mitteraudmetallisulamitele

Lühike kirjeldus:


Toote üksikasjad

Tootesildid

Keskendume ka asjade haldamise ja kvaliteedikontrolli programmi täiustamisele, et saaksime säilitada fantastilisi eeliseid ägedas konkurentsis personaliseeritud toodete Hiina räni- ja mitteraudmetallisulamite ettevõttes, et omandada järjepidev, kasumlik ja konstantne. konkurentsieelise saavutamise ning aktsionäridele ja töötajale lisanduva hinna pideva tõstmise kaudu.
Keskendume ka asjade haldamise ja kvaliteedikontrolli programmi täiustamisele, et suudaksime hoida fantastilist eelist ägeda konkurentsiga ettevõttes.Hiina ränidioksiidi grafiiditiigel, Grafiidi valutiigel, Meie ettevõte on seda tüüpi kaupade rahvusvaheline tarnija.Pakume suurepärast valikut kvaliteetseid kaupu.Meie eesmärk on rõõmustada teid meie erilise tähelepanelike esemete kollektsiooniga, pakkudes samas väärtust ja suurepärast teenindust.Meie missioon on lihtne: pakkuda oma klientidele parimaid tooteid ja teenust võimalikult madalate hindadega.

Tootekirjeldus

Süsinik / süsinik komposiidid(edaspidi "C / C või CFC") on teatud tüüpi komposiitmaterjal, mis põhineb süsinikul ja mida tugevdavad süsinikkiud ja selle tooted (süsinikkiust eelvorm).Sellel on nii süsiniku inerts kui ka süsinikkiu kõrge tugevus.Sellel on head mehaanilised omadused, kuumakindlus, korrosioonikindlus, hõõrdumise summutus ning soojus- ja elektrijuhtivusomadused

CVD-SiCKatte omadused on ühtlane struktuur, kompaktne materjal, kõrge temperatuurikindlus, oksüdatsioonikindlus, kõrge puhtusaste, happe- ja leelisekindlus ning orgaaniline reaktiiv, millel on stabiilsed füüsikalised ja keemilised omadused.

Võrreldes kõrge puhtusastmega grafiitmaterjalidega hakkab grafiit oksüdeeruma 400 C juures, mis põhjustab oksüdatsiooni tõttu pulbri kadu, mille tulemuseks on välisseadmete ja vaakumkambrite keskkonnareostus ning kõrge puhtusastmega keskkonna lisandite hulk.

Kuid SiC kate suudab säilitada füüsikalist ja keemilist stabiilsust 1600 kraadi juures, seda kasutatakse laialdaselt kaasaegses tööstuses, eriti pooljuhtide tööstuses.

Meie ettevõte pakub CVD-meetodil grafiidi, keraamika ja muude materjalide pinnale ränikarbiidi katmise protsessiteenuseid, nii et süsinikku ja räni sisaldavad spetsiaalsed gaasid reageerivad kõrgel temperatuuril, et saada kõrge puhtusastmega SiC molekulid, kaetud materjalide pinnale sadestunud molekulid, moodustades SIC kaitsekihi.Moodustunud SIC on tugevalt seotud grafiitpõhjaga, andes grafiidialusele erilised omadused, muutes grafiidi pinna kompaktseks, poorsusevabaks, vastupidavaks kõrgele temperatuurile, korrosioonikindlusele ja oksüdatsioonikindlusele.

 SiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritel

Põhijooned:

1. Kõrge temperatuuri oksüdatsioonikindlus:

oksüdatsioonikindlus on ikka väga hea, kui temperatuur on kuni 1600 C.

2. Kõrge puhtusastmega: valmistatud keemilise aurustamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.

3. Erosioonikindlus: kõrge kõvadus, kompaktne pind, peened osakesed.

4. Korrosioonikindlus: happe, leelise, soola ja orgaanilised reagendid.

 

CVD-SIC katete peamised spetsifikatsioonid:

SiC-CVD

Tihedus

(g/cc)

3.21

Paindetugevus

(Mpa)

470

Soojuspaisumine

(10-6/K)

4

Soojusjuhtivus

(W/mK)

300

Üksikasjalikud pildid

SiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritelSiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritelSiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritelSiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritelSiC katte töötlemine grafiitpinna MOCVD sustseptoritel

ettevõtte info

111

Tehase seadmed

222

Ladu

333

Sertifikaadid

Sertifikaadid 22

 


  • Eelmine:
  • Järgmine:

  • WhatsAppi veebivestlus!