Meie püüdlus ja ettevõtte eesmärk on tavaliselt "täita alati meie ostja nõuded". Jätkame suurepäraste kvaliteetsete toodete hankimist ja paigutust nii oma eelmistele kui ka uutele tarbijatele ning saavutame oma klientidele kasuliku väljavaate, nagu ka Hiina tootja süsinikgrafiitvormi puhul, mida kasutatakse betooni poleerimiseks, märkimisväärse kvaliteediga kaupade pidevat kättesaadavust. koos meie suurepärase müügieelse ja -järgse toega tagab tugeva konkurentsivõime üha enam globaliseeruval turul.
Meie püüdlus ja ettevõtte eesmärk on tavaliselt "täita alati meie ostja nõuded". Jätkame suurepäraste kvaliteetsete toodete hankimist ja paigutust nii oma eelmistele kui ka uutele tarbijatele ning loome, et meie klientidele võidavad kõik.Hiina süsinikgrafiitvormid, Grafiitvormid, Ettevõtte nimi on alati käsitlenud kvaliteeti kui ettevõtte alust, püüdes areneda kõrge usaldusväärsuse kaudu, järgides rangelt ISO kvaliteedijuhtimise standardit, luues tipptasemel ettevõtte edusammude aususe ja optimismi vaimus.
Süsinik / süsinik komposiidid(edaspidi "C / C või CFC") on teatud tüüpi komposiitmaterjal, mis põhineb süsinikul ja mida tugevdavad süsinikkiud ja selle tooted (süsinikkiust eelvorm). Sellel on nii süsiniku inerts kui ka süsinikkiu kõrge tugevus. Sellel on head mehaanilised omadused, kuumakindlus, korrosioonikindlus, hõõrdumise summutus ning soojus- ja elektrijuhtivusomadused
CVD-SiCKatte omadused on ühtlane struktuur, kompaktne materjal, kõrge temperatuurikindlus, oksüdatsioonikindlus, kõrge puhtusaste, happe- ja leelisekindlus ning orgaaniline reaktiiv, millel on stabiilsed füüsikalised ja keemilised omadused.
Võrreldes kõrge puhtusastmega grafiitmaterjalidega hakkab grafiit oksüdeeruma 400 C juures, mis põhjustab oksüdatsiooni tõttu pulbri kadu, mille tulemuseks on välisseadmete ja vaakumkambrite keskkonnareostus ning kõrge puhtusastmega keskkonna lisandite hulk.
Kuid SiC kate suudab säilitada füüsikalist ja keemilist stabiilsust 1600 kraadi juures, seda kasutatakse laialdaselt kaasaegses tööstuses, eriti pooljuhtide tööstuses.
Meie ettevõte pakub CVD-meetodil grafiidi, keraamika ja muude materjalide pinnale ränikarbiidi katmise protsessiteenuseid, nii et süsinikku ja räni sisaldavad spetsiaalsed gaasid reageerivad kõrgel temperatuuril, et saada kõrge puhtusastmega SiC molekulid, kaetud materjalide pinnale sadestunud molekulid, moodustades SIC kaitsekihi. Moodustunud SIC on tugevalt seotud grafiitpõhjaga, andes grafiidialusele erilised omadused, muutes grafiidi pinna kompaktseks, poorsusevabaks, vastupidavaks kõrgele temperatuurile, korrosioonikindlusele ja oksüdatsioonikindlusele.
Peamised omadused:
1. Kõrge temperatuuri oksüdatsioonikindlus:
oksüdatsioonikindlus on ikka väga hea, kui temperatuur on kuni 1600 C.
2. Kõrge puhtusastmega: valmistatud keemilise aurustamise-sadestamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.
3. Erosioonikindlus: kõrge kõvadus, kompaktne pind, peened osakesed.
4. Korrosioonikindlus: happe, leelise, soola ja orgaanilised reagendid.
CVD-SIC katete peamised spetsifikatsioonid:
| SiC-CVD | ||
| Tihedus | (g/cc)
| 3.21 |
| Paindetugevus | (Mpa)
| 470 |
| Soojuspaisumine | (10-6/K) | 4
|
| Soojusjuhtivus | (W/mK) | 300
|
