Sinine/roheline LED Epitaxy

Lühikirjeldus:


  • Päritolukoht:Hiina
  • Kristalli struktuur:FCCβ faas
  • Tihedus:3,21 g/cm;
  • Kõvadus:2500 Vickerit;
  • Tera suurus:2~10μm;
  • Keemiline puhtus:99,99995%;
  • Soojusvõimsus:640J·kg-1·K-1;
  • Sublimatsiooni temperatuur:2700 ℃;
  • Üleseksuaalne tugevus:415 MPa (RT 4-punktiline);
  • Youngi moodul:430 Gpa (4pt bend, 1300 ℃);
  • Soojuspaisumine (CTE):4,5 10-6K-1;
  • Soojusjuhtivus:300 W/MK;
  • Toote üksikasjad

    Tootesildid

    Toote kirjeldus

    Meie ettevõte pakub CVD-meetodil grafiidi, keraamika ja muude materjalide pinnale ränikarbiidi katmise protsessiteenuseid, nii et süsinikku ja räni sisaldavad spetsiaalsed gaasid reageerivad kõrgel temperatuuril, et saada kõrge puhtusastmega SiC molekulid, kaetud materjalide pinnale sadestunud molekulid, moodustades SIC kaitsekihi.

    Peamised omadused:

    1. Kõrge temperatuuri oksüdatsioonikindlus:

    oksüdatsioonikindlus on ikka väga hea, kui temperatuur on kuni 1600 C.

    2. Kõrge puhtusastmega: valmistatud keemilise aurustamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.

    3. Erosioonikindlus: kõrge kõvadus, kompaktne pind, peened osakesed.

    4. Korrosioonikindlus: happe, leelise, soola ja orgaanilised reagendid.

    CVD-SIC katte peamised spetsifikatsioonid

    SiC-CVD omadused

    Kristalli struktuur FCC β faas
    Tihedus g/cm³ 3.21
    Kõvadus Vickersi kõvadus 2500
    Tera suurus μm 2-10
    Keemiline puhtus % 99.99995
    Soojusvõimsus J·kg-1 ·K-1 640
    Sublimatsiooni temperatuur 2700
    Üleseksuaalne tugevus MPa (RT 4-punktiline) 415
    Youngi moodul Gpa (4pt bend, 1300 ℃) 430
    Soojuspaisumine (CTE) 10-6K-1 4.5
    Soojusjuhtivus (W/mK) 300

    1 2 3 4 5 6 7 8 9


  • Eelmine:
  • Järgmine:

  • WhatsAppi veebivestlus!