A menudo estamos orientados al cliente, y nuestro objetivo final es convertirnos no solo en el proveedor más respetable, confiable y honesto, sino también en el socio de nuestros clientes para la deposición química de vapor mejorada con plasma 1200c de China con el precio más bajo de China.pecvdVacuum Funace. Para obtener más información sobre lo que podemos hacer por usted, contáctenos en cualquier momento. Esperamos establecer buenas relaciones comerciales a largo plazo con usted.
A menudo estamos orientados al cliente, y nuestro objetivo final es convertirnos no sólo en el proveedor más respetable, confiable y honesto, sino también en el socio de nuestros clientes paraDeposición de vapor químico mejorada con plasma de China, pecvd, Nuestro equipo avanzado, excelente gestión de calidad, capacidad de investigación y desarrollo hacen que nuestro precio baje. Puede que el precio que ofrecemos no sea el más bajo, ¡pero garantizamos que es absolutamente competitivo! ¡Bienvenido a contactarnos de inmediato para futuras relaciones comerciales y éxito mutuo!
Carbono / compuestos de carbono(en adelante denominado “C/C o CFC”) es un tipo de material compuesto a base de carbono y reforzado con fibra de carbono y sus productos (preforma de fibra de carbono). Tiene tanto la inercia del carbono como la alta resistencia de la fibra de carbono. Tiene buenas propiedades mecánicas, resistencia al calor, resistencia a la corrosión, amortiguación por fricción y características de conductividad térmica y eléctrica.
CVD-SiCEl recubrimiento tiene las características de estructura uniforme, material compacto, resistencia a altas temperaturas, resistencia a la oxidación, alta pureza, resistencia a ácidos y álcalis y reactivo orgánico, con propiedades físicas y químicas estables.
En comparación con los materiales de grafito de alta pureza, el grafito comienza a oxidarse a 400 °C, lo que provocará una pérdida de polvo debido a la oxidación, lo que provocará contaminación ambiental de los dispositivos periféricos y las cámaras de vacío, y aumentará las impurezas del entorno de alta pureza.
Sin embargo, el recubrimiento de SiC puede mantener la estabilidad física y química a 1600 grados. Se usa ampliamente en la industria moderna, especialmente en la industria de semiconductores.
Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC. El SIC formado está firmemente adherido a la base de grafito, dándole a la base de grafito propiedades especiales, haciendo así que la superficie del grafito sea compacta, libre de porosidad, resistente a altas temperaturas, a la corrosión y a la oxidación.
Características principales:
1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.
2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.
Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Densidad | (g/cc)
| 3.21 |
| Resistencia a la flexión | (Mpa)
| 470 |
| Expansión térmica | (10-6/K) | 4
|
| Conductividad térmica | (W/mK) | 300
|
