Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC.
Características principales:
1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.
2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.
Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC:
Propiedades de SiC-CVD | ||
Estructura cristalina | Fase β de la FCC | |
Densidad | gramos/cm³ | 3.21 |
Dureza | Dureza Vickers | 2500 |
Tamaño de grano | µm | 2~10 |
Pureza química | % | 99.99995 |
Capacidad calorífica | J·kg-1·k-1 | 640 |
Temperatura de sublimación | ℃ | 2700 |
Fuerza flexural | MPa (RT 4 puntos) | 415 |
Módulo de Young | Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃) | 430 |
Expansión Térmica (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Conductividad térmica | (W/mK) | 300 |
P: ¿Es usted una empresa comercial o un fabricante?
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