Epitaxia de GaN a base de silicio

Breve descripción:


  • Lugar de origen:Porcelana
  • Estructura cristalina:Fase FCCβ
  • Densidad:3,21 gramos/cm
  • Dureza:2500 Vickers
  • Tamaño de grano:2~10μm
  • Pureza química:99,99995%
  • Capacidad calorífica:640J·kg-1·K-1
  • Temperatura de sublimación:2700 ℃
  • Fuerza flexural:415 Mpa (RT 4 puntos)
  • Módulo de Young:430 Gpa (curva de 4 puntos, 1300 ℃)
  • Expansión Térmica (CTE):4.5 10-6K-1
  • Conductividad térmica:300 (W/MK)
  • Detalle del producto

    Etiquetas de producto

    Descripción del Producto

    Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC.

    Características principales:

    1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

    La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.

    2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.

    3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

    4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

    Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

    Propiedades de SiC-CVD

    Estructura cristalina Fase β de la FCC
    Densidad gramos/cm³ 3.21
    Dureza Dureza Vickers 2500
    Tamaño de grano µm 2~10
    Pureza química % 99.99995
    Capacidad calorífica J·kg-1·K-1 640
    Temperatura de sublimación 2700
    Fuerza flexural MPa (RT 4 puntos) 415
    Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃) 430
    Expansión Térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
    Conductividad térmica (W/mK) 300

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