Calentador de grafito personalizado para oblea de silicio semiconductor, revestimiento de SiC

Calentador de grafito personalizado para oblea de silicio semiconductor, revestimiento de SiC Imagen destacada

Breve descripción:

Especificación técnica	FP-M3
Densidad aparente (g/cm3)	≥1,85
Contenido de cenizas (PPM)	≤500
Dureza Shore	≥45
Resistencia específica (μ.Ω.m)	≤12
Resistencia a la flexión (Mpa)	≥40
Resistencia a la compresión (Mpa)	≥70
Máx. Tamaño de grano (μm)	≤43
Coeficiente de Expansión Térmica Mm/°C	≤4,4*10-6

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PersonalizadoCalentador de grafito para oblea de silicio semiconductor

Especificación técnica	FP-M3
Densidad aparente (g/cm3)	≥1,85
Contenido de cenizas (PPM)	≤500
Dureza Shore	≥45
Resistencia específica (μ.Ω.m)	≤12
Resistencia a la flexión (Mpa)	≥40
Resistencia a la compresión (Mpa)	≥70
Máx. Tamaño de grano (μm)	≤43
Coeficiente de Expansión Térmica Mm/°C	≤4,4*10-6

Calentador de grafito personalizado para oblea de silicio semiconductor

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