Epitaksial Epi Qrafit Barrel Suseptoru

Epitaksial Epi Qrafit Barrel Suseptoru

Epitaksial Epi Qrafit Barrel SuseptoruÇökmə və ya Epitaksiya prosesləri kimi istehsal prosesləri zamanı yarımkeçirici substratları saxlamaq və qızdırmaq üçün istifadə olunan xüsusi hazırlanmış dayaq və qızdırıcı cihazdır.

Onun strukturu adətən silindrik və ya bir qədər barrel formalı, səth xüsusiyyətləri çoxlu ciblər və ya vaflilərin yerləşdirilməsi üçün platformalardan ibarətdir, istilik üsulundan asılı olaraq bərk və ya içi boş dizayn ola bilər.

Epitaksial çəllək həssasının əsas funksiyaları:

-Substrat dəstəyi: çoxlu yarımkeçirici vafliləri etibarlı şəkildə saxlayır;
-İstilik mənbəyi: isitmə yolu ilə böyümə üçün lazım olan yüksək temperaturu təmin edir;
-Temperaturun vahidliyi: substratların vahid qızdırılmasını təmin edir;
-Rotasiya: temperatur və qaz paylanması vahidliyini yaxşılaşdırmaq üçün adətən böyümə zamanı fırlanır.

Epi qrafit lülə qəbuledicisinin iş prinsipi:
- Epitaksial reaktorda lülə qəbuledicisi tələb olunan temperatura qədər qızdırılır (silikon epitaksiya üçün adətən 1000℃-1200℃);
-Barel qəbuledicisi temperaturun vahid paylanması və qaz axını təmin etmək üçün fırlanır;
-Reaksiya qazları yüksək temperaturda parçalanaraq substratın səthində epitaksial təbəqələr əmələ gətirir.

Tətbiqlər:
-Əsasən silikon epitaksial artım üçün istifadə olunur
- GaAs, InP və s. kimi digər yarımkeçirici materialların epitaksiyası üçün də tətbiq olunur.

VET Energy kimyəvi sabitliyi artırmaq üçün CVD-SiC örtüklü yüksək təmizlikli qrafitdən istifadə edir:

VET Energy Epitaksial Epi Qrafit Barrel Susseptorunun üstünlükləri:

-Yüksək temperaturda sabitlik;
- Yaxşı istilik vahidliyi;
-İstehsal səmərəliliyini artıraraq, eyni vaxtda bir neçə substratı emal edə bilər;
-Kimyəvi cəhətdən inert, yüksək təmizlik mühitini qoruyur.