Imọ-ẹrọ Photolithography ni akọkọ dojukọ lori lilo awọn ọna ṣiṣe opiti lati ṣafihan awọn ilana iyika lori awọn wafer ohun alumọni. Awọn išedede ti yi ilana taara ni ipa lori awọn iṣẹ ati ikore ti ese iyika. Gẹgẹbi ọkan ninu ohun elo oke fun iṣelọpọ chirún, ẹrọ lithography ni to awọn ọgọọgọrun egbegberun awọn paati. Mejeeji awọn paati opiti ati awọn paati laarin eto lithography nilo konge giga gaan lati rii daju iṣẹ ṣiṣe ati deede.SiC ohun amọti lo ninuwafer chucksati seramiki square digi.
Wafer ChuckWafer Chuck ninu ẹrọ lithography jẹri ati gbe wafer lakoko ilana ifihan. Titete deede laarin wafer ati Chuck jẹ pataki fun ṣiṣe atunṣe deede lori oju ti wafer.SiC waferAwọn chucks ni a mọ fun iwuwo fẹẹrẹ wọn, iduroṣinṣin onisẹpo giga ati alasọdipúpọ igbona kekere, eyiti o le dinku awọn ẹru inertial ati ilọsiwaju ṣiṣe išipopada, iṣedede ipo ati iduroṣinṣin.
Digi onigun seramiki Ninu ẹrọ lithography, mimuuṣiṣẹpọ išipopada laarin wafer Chuck ati ipele iboju boju jẹ pataki, eyiti o kan taara deede lithography ati ikore. Olufihan onigun mẹrin jẹ paati bọtini ti eto wiwọn esi wiwafer Chuck, ati awọn ibeere ohun elo rẹ jẹ iwuwo fẹẹrẹ ati muna. Botilẹjẹpe awọn ohun elo ohun alumọni carbide ni awọn ohun-ini iwuwo fẹẹrẹ to peye, iṣelọpọ iru awọn paati jẹ nija. Lọwọlọwọ, asiwaju okeere ese Circuit ohun elo awọn olupese nipataki lo awọn ohun elo bi silica dapo ati cordierite. Bibẹẹkọ, pẹlu ilọsiwaju ti imọ-ẹrọ, awọn amoye Ilu Ṣaina ti ṣaṣeyọri iṣelọpọ ti iwọn nla, apẹrẹ eka, iwuwo fẹẹrẹ pupọ, awọn digi square seramiki silikoni ti a fipa mọ ni kikun ati awọn paati opiti iṣẹ miiran fun awọn ẹrọ fọtolithography. Photomask, ti a tun mọ si iho, ntan ina nipasẹ iboju-boju lati ṣe apẹrẹ kan lori ohun elo ti o ni imọlara. Bibẹẹkọ, nigbati ina EUV ba tan iboju boju naa, o nmu ooru jade, ti o ga si iwọn otutu si 600 si 1000 iwọn Celsius, eyiti o le fa ibajẹ gbona. Nitorinaa, Layer ti fiimu SiC ni a maa n gbe silẹ lori fotomask. Ọpọlọpọ awọn ile-iṣẹ ajeji, gẹgẹbi ASML, ni bayi nfunni awọn fiimu pẹlu gbigbejade diẹ sii ju 90% lati dinku mimọ ati ayewo lakoko lilo fọtomask ati ilọsiwaju ṣiṣe ati ikore ọja ti awọn ẹrọ fọtolithography EUV.
Plasma Etchingati Deposition Photomasks, tun mo bi crosshairs, ni awọn ifilelẹ ti awọn iṣẹ ti gbigbe ina nipasẹ awọn boju ati lara kan Àpẹẹrẹ lori awọn photosensitive ohun elo. Bibẹẹkọ, nigba ti ina EUV (ultraviolet ti o ga julọ) ṣe itanna fọtomask naa, o nmu ooru jade, ti n gbe iwọn otutu soke si laarin 600 ati 1000 iwọn Celsius, eyiti o le fa ibajẹ gbona. Nitorinaa, ipele ti fiimu silikoni carbide (SiC) ni a maa n gbe sori iboju fọto lati dinku iṣoro yii. Ni bayi, ọpọlọpọ awọn ile-iṣẹ ajeji, bii ASML, ti bẹrẹ lati pese awọn fiimu pẹlu akoyawo diẹ sii ju 90% lati dinku iwulo fun mimọ ati ayewo lakoko lilo fọtomask, nitorinaa imudara ṣiṣe ati ikore ọja ti awọn ẹrọ EUV lithography . Plasma Etching atiIdojukọ Orukaati awọn miiran Ninu iṣelọpọ semikondokito, ilana etching nlo omi tabi awọn etchants gaasi (gẹgẹbi awọn gaasi ti o ni fluorine) ionized sinu pilasima lati bombard wafer ati yiyan yọkuro awọn ohun elo aifẹ titi ti ilana iyika ti o fẹ wa loriwaferdada. Ni ifiwera, ifisilẹ fiimu tinrin jẹ iru si ẹgbẹ yiyipada ti etching, ni lilo ọna fifisilẹ lati ṣajọ awọn ohun elo idabobo laarin awọn ipele irin lati ṣe fiimu tinrin. Niwọn igba ti awọn ilana mejeeji lo imọ-ẹrọ pilasima, wọn ni itara si awọn ipa ipata lori awọn iyẹwu ati awọn paati. Nitorinaa, awọn paati inu ohun elo ni a nilo lati ni resistance pilasima ti o dara, ifaseyin kekere si awọn gaasi etching fluorine, ati adaṣe kekere. Etching ti aṣa ati awọn paati ohun elo ifisilẹ, gẹgẹbi awọn oruka idojukọ, nigbagbogbo ṣe awọn ohun elo bii ohun alumọni tabi quartz. Bibẹẹkọ, pẹlu ilọsiwaju ti miniaturization iyika iṣọpọ, ibeere ati pataki ti awọn ilana etching ni iṣelọpọ iyika iṣọpọ n pọ si. Ni ipele airi, etching ohun alumọni pipe nilo pilasima agbara-giga lati ṣaṣeyọri awọn iwọn laini kekere ati awọn ẹya ẹrọ eka diẹ sii. Nitorinaa, ifasilẹ eefin kẹmika (CVD) silikoni carbide (SiC) ti di diẹdiẹ ohun elo ibora ti o fẹ fun etching ati ohun elo ifisilẹ pẹlu awọn ohun-ini ti ara ati kemikali ti o dara julọ, mimọ giga ati isokan. Ni lọwọlọwọ, awọn paati ohun alumọni silikoni CVD ni ohun elo etching pẹlu awọn oruka idojukọ, awọn ori iwẹ gaasi, awọn atẹ ati awọn oruka eti. Ninu ohun elo ifisilẹ, awọn ideri iyẹwu wa, awọn ila iyẹwu atiSIC-ti a bo lẹẹdi sobsitireti.
Nitori ifaseyin kekere rẹ ati iṣiṣẹ iṣiṣẹ si chlorine ati awọn gaasi etching fluorine,CVD ohun alumọni carbideti di ohun elo pipe fun awọn paati gẹgẹbi awọn oruka idojukọ ni awọn ohun elo etching pilasima.CVD ohun alumọni carbideirinše ni etching ẹrọ pẹlu idojukọ oruka, gaasi iwe olori, Trays, eti oruka, bbl Mu awọn oruka idojukọ bi apẹẹrẹ, ti won wa ni bọtini irinše gbe ita awọn wafer ati ni taara si olubasọrọ pẹlu wafer. Nipa lilo foliteji si iwọn, pilasima ti wa ni idojukọ nipasẹ iwọn lori wafer, imudarasi iṣọkan ti ilana naa. Ni aṣa, awọn oruka idojukọ jẹ ohun alumọni tabi quartz. Bibẹẹkọ, bi awọn ilọsiwaju miniaturization iyika iṣọpọ, ibeere ati pataki ti awọn ilana etching ni iṣelọpọ iyika iṣọpọ tẹsiwaju lati pọ si. Agbara etching Plasma ati awọn ibeere agbara tẹsiwaju lati dide, ni pataki ni pilasima pilasima ti o pọ mọ (CCP) ohun elo etching, eyiti o nilo agbara pilasima ti o ga julọ. Bi abajade, lilo awọn oruka idojukọ ti a ṣe ti awọn ohun elo carbide silikoni n pọ si.
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹwa-29-2024