SiC ti a bo le ti wa ni pese sile nipa kemikali vapor deposition (CVD), precursor transformation, pilasima spraying, bbl Awọn ti a bo ti pese sile nipa CHEMICAL vapor deposition jẹ aṣọ ati iwapọ, ati ki o ni o dara designability. Lilo methyl trichlosilane. (CHzSiCl3, MTS) gẹgẹbi orisun ohun alumọni, ibora SiC ti a pese sile nipasẹ ọna CVD jẹ ọna ti o dagba fun ohun elo ti ibora yii.
SiC ti a bo ati lẹẹdi ni ibaramu kemikali ti o dara, iyatọ ti imugboroja igbona laarin wọn jẹ kekere, lilo ibora SiC le ṣe imunadoko imunadoko yiya ati resistance ifoyina ti ohun elo graphite. Lara wọn, ipin stoichiometric, iwọn otutu lenu, gaasi dilution, gaasi aimọ ati awọn ipo miiran ni ipa nla lori iṣesi naa.
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹsan-14-2022