Kaabọ si oju opo wẹẹbu wa fun alaye ọja ati ijumọsọrọ.
Oju opo wẹẹbu wa:https://www.vet-china.com/
Etching ti Poly ati SiO2:
Lẹhin eyi, apọju Poly ati SiO2 ti yọ kuro, iyẹn ni, yọkuro. Ni akoko yii, itọsọnaetchingti lo. Ni iyasọtọ ti etching, iyasọtọ ti itọsi itọnisọna ati etching ti kii ṣe itọnisọna. Itọnisọna etching ntokasi sietchingni kan awọn itọsọna, nigba ti kii-itọnisọna etching ti kii-itọnisọna (Mo lairotẹlẹ wi ju Elo. Ni kukuru, o jẹ lati yọ SiO2 ni kan awọn itọsọna nipasẹ kan pato acids ati awọn ipilẹ). Ni apẹẹrẹ yii, a lo etching itọnisọna sisale lati yọ SiO2 kuro, ati pe o dabi eyi.
Nikẹhin, yọ photoresist kuro. Ni akoko yii, ọna ti yiyọ photoresist kii ṣe imuṣiṣẹ nipasẹ itanna itanna ti a darukọ loke, ṣugbọn nipasẹ awọn ọna miiran, nitori a ko nilo lati ṣalaye iwọn kan pato ni akoko yii, ṣugbọn lati yọ gbogbo photoresist kuro. Nikẹhin, o di bi a ṣe han ninu nọmba atẹle.
Ni ọna yii, a ti ṣaṣeyọri idi ti idaduro ipo kan pato ti Poly SiO2.
Ibiyi ti orisun ati sisan:
Nikẹhin, jẹ ki a wo bii orisun ati sisan ti ṣe agbekalẹ. Gbogbo eniyan tun ranti pe a ti sọrọ nipa rẹ ni atejade to kẹhin. Orisun ati sisan jẹ ion-igbin pẹlu iru awọn eroja kanna. Ni akoko yii, a le lo photoresist lati ṣii orisun / agbegbe sisan nibiti iru N nilo lati wa ni gbin. Niwọn bi a ti gba NMOS nikan gẹgẹbi apẹẹrẹ, gbogbo awọn ẹya ti o wa ninu nọmba ti o wa loke yoo ṣii, bi o ṣe han ninu nọmba atẹle.
Niwọn igba ti apakan ti o bo nipasẹ photoresist ko le ṣe gbin (ina ti dina mọ), awọn eroja iru N yoo wa ni gbin nikan lori NMOS ti o nilo. Niwọn igba ti sobusitireti labẹ poly ti dina nipasẹ poly ati SiO2, kii yoo fi sii, nitorinaa o di bii eyi.
Ni aaye yii, awoṣe MOS ti o rọrun ti ṣe. Ni yii, ti o ba ti foliteji ti wa ni afikun si awọn orisun, sisan, poli ati sobusitireti, yi MOS le ṣiṣẹ, sugbon a ko le o kan ya a ibere ki o si fi foliteji taara si awọn orisun ati sisan. Ni akoko yii, a nilo wiwu MOS, iyẹn ni, lori MOS yii, so awọn okun pọ lati so ọpọlọpọ MOS pọ. Jẹ ká ya a wo ni onirin ilana.
Ṣiṣe VIA:
Igbesẹ akọkọ ni lati bo gbogbo MOS pẹlu Layer ti SiO2, bi a ṣe han ninu nọmba ni isalẹ:
Nitoribẹẹ, SiO2 yii jẹ iṣelọpọ nipasẹ CVD, nitori pe o yara pupọ ati fi akoko pamọ. Atẹle yii tun jẹ ilana ti fifi photoresist silẹ ati ṣiṣafihan. Lẹhin ipari, o dabi eyi.
Lẹhinna lo ọna etching fun etch iho kan lori SiO2, bi o ṣe han ninu apakan grẹy ni nọmba ni isalẹ. Ijinle iho yi taara si dada Si.
Nikẹhin, yọ photoresist kuro ki o gba irisi atẹle naa.
Ni akoko yii, ohun ti o nilo lati ṣe ni lati kun oludari ni iho yii. Ní ti kí ni olùdarí yìí jẹ́? Ile-iṣẹ kọọkan yatọ, ọpọlọpọ ninu wọn jẹ awọn ohun elo tungsten, nitorina bawo ni iho yii ṣe le kun? Ọna PVD (Iwadi Vapor Ti ara) ni a lo, ati pe opo naa jọra si nọmba ti o wa ni isalẹ.
Lo awọn elekitironi ti o ni agbara giga tabi awọn ions lati bombard awọn ohun elo ibi-afẹde, ati pe ohun elo ibi-afẹde ti o fọ yoo ṣubu si isalẹ ni irisi awọn ọta, nitorinaa ti n ṣe ideri ni isalẹ. Ohun elo ibi-afẹde ti a maa n rii ninu awọn iroyin n tọka si ohun elo ibi-afẹde nibi.
Lẹhin ti o kun iho, o dabi eyi.
Nitoribẹẹ, nigba ti a ba kun, ko ṣee ṣe lati ṣakoso sisanra ti ibora lati jẹ deede deede si ijinle iho, nitorinaa diẹ ninu awọn apọju yoo wa, nitorinaa a lo imọ-ẹrọ CMP (Chemical Mechanical Polishing), eyiti o dun pupọ. ga-opin, sugbon o ti wa ni kosi lilọ, lilọ kuro awọn excess awọn ẹya ara. Abajade jẹ bi eleyi.
Ni aaye yii, a ti pari iṣelọpọ ti Layer ti nipasẹ. Nitoribẹẹ, iṣelọpọ nipasẹ nipasẹ jẹ o kun fun sisẹ ti Layer irin lẹhin.
Ṣiṣejade Layer irin:
Labẹ awọn ipo ti o wa loke, a lo PVD lati dep miiran Layer ti irin. Eleyi irin jẹ o kun a Ejò-orisun alloy.
Lẹhinna lẹhin ifihan ati etching, a gba ohun ti a fẹ. Lẹhinna tẹsiwaju lati ṣajọpọ titi ti a yoo fi pade awọn iwulo wa.
Nigba ti a ba fa awọn ifilelẹ, a yoo so fun o bi ọpọlọpọ awọn fẹlẹfẹlẹ ti irin ati nipasẹ awọn ilana ti a lo le ti wa ni tolera ni julọ, eyi ti o tumo si bi ọpọlọpọ awọn fẹlẹfẹlẹ ti o le wa ni tolera.
Nikẹhin, a gba eto yii. Paadi oke ni pinni ti ërún yii, ati lẹhin apoti, o di pin ti a le rii (dajudaju, Mo fa laileto, ko si iwulo to wulo, fun apẹẹrẹ).
Eyi ni ilana gbogbogbo ti ṣiṣe ni ërún. Ninu atejade yii, a kọ ẹkọ nipa ifihan ti o ṣe pataki julọ, etching, ion implantation, ileru tubes, CVD, PVD, CMP, bbl ni semiconductor foundry.
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹjọ-23-2024