Fotolitografi makinelerinin hassas parçaları için tercih edilen malzeme
Yarı iletken alanında,silisyum karbür seramikmalzemeler esas olarak silikon karbür çalışma masası, kılavuz raylar gibi entegre devre imalatına yönelik temel ekipmanlarda kullanılır.reflektörler, seramik emme mandrenilitografi makineleri için kollar, taşlama diskleri, fikstürler vb.
Silisyum karbür seramik parçalaryarı iletken ve optik ekipmanlar için
● Silisyum karbür seramik taşlama diski. Taşlama diski dökme demirden veya karbon çeliğinden yapılmışsa servis ömrü kısadır ve termal genleşme katsayısı büyüktür. Silikon levhaların işlenmesi sırasında, özellikle yüksek hızda taşlama veya cilalama sırasında, taşlama diskinin aşınması ve termal deformasyonu, silikon levhanın düzlüğünün ve paralelliğinin sağlanmasını zorlaştırır. Silisyum karbür seramikten yapılmış taşlama diski yüksek sertliğe ve düşük aşınmaya sahiptir ve termal genleşme katsayısı temel olarak silikon levhalarınkiyle aynıdır, bu nedenle yüksek hızda taşlanabilir ve cilalanabilir.
● Silisyum karbür seramik fikstür. Ek olarak, silikon levhalar üretildiğinde, bunların yüksek sıcaklıkta ısıl işleme tabi tutulması gerekir ve genellikle silisyum karbür donanımlar kullanılarak taşınırlar. Isıya dayanıklıdırlar ve tahribatsızdırlar. Performansı artırmak, levha hasarını azaltmak ve kirlenmenin yayılmasını önlemek için yüzeye elmas benzeri karbon (DLC) ve diğer kaplamalar uygulanabilir.
● Silisyum karbür çalışma tezgahı. Litografi makinesindeki çalışma tablasını örnek alırsak, çalışma tablası temel olarak yüksek hızlı, geniş stroklu, altı serbestlik dereceli nano düzeyde ultra hassas hareket gerektiren pozlama hareketinin tamamlanmasından sorumludur. Örneğin, 100 nm çözünürlüğe, 33 nm kaplama doğruluğuna ve 10 nm çizgi genişliğine sahip bir litografi makinesi için çalışma masası konumlandırma doğruluğunun 10 nm'ye ulaşması gerekir; maske-silikon levha eş zamanlı adımlama ve tarama hızları 150 nm/s'dir. ve sırasıyla 120 nm/s ve maske tarama hızı 500 nm/s'ye yakındır ve çalışma masası çok yüksek hareket doğruluğu ve kararlılığa sahip olması gerekir.
Çalışma tezgahının ve mikro hareket masasının şematik diyagramı (kısmi bölüm)
● Silisyum karbür seramik kare ayna. Litografi makineleri gibi önemli entegre devre ekipmanlarındaki ana bileşenlerin karmaşık şekilleri, karmaşık boyutları ve içi boş hafif yapıları vardır; bu da bu tür silisyum karbür seramik bileşenlerin hazırlanmasını zorlaştırır. Şu anda, Hollanda'daki ASML, Japonya'daki NIKON ve CANON gibi ana akım uluslararası entegre devre ekipmanı üreticileri, litografi makinelerinin temel bileşenleri olan kare aynaları hazırlamak için mikrokristalin cam ve kordiyerit gibi büyük miktarda malzeme kullanıyor ve silisyum karbür kullanıyor. basit şekillere sahip diğer yüksek performanslı yapısal bileşenleri hazırlamak için seramikler. Bununla birlikte, Çin Yapı Malzemeleri Araştırma Enstitüsü'nden uzmanlar, litografi makineleri için büyük boyutlu, karmaşık şekilli, son derece hafif, tamamen kapalı silisyum karbür seramik kare aynaların ve diğer yapısal ve işlevsel optik bileşenlerin hazırlanmasını sağlamak için özel hazırlama teknolojisini kullandı.
Gönderim zamanı: Ekim-10-2024