himiki bug çöketligi (CVD), gaz garyndysynyň himiki himiki reaksiýasy arkaly kremniniň wafli üstünde gaty film goýmagy öz içine alýan prosedura. Bu prosedura, basyş we prekursor ýaly dürli himiki reaksiýa şertlerinde döredilen enjamlaryň modeline bölünip bilner.
Bu iki enjam haýsy prosedura üçin ulanylýar?PECVD (Plazma Enhanced) enjamlary OX, Nitride, metal element derwezesi we amorf uglerod ýaly amaly taýdan giňden ulanylýar. Beýleki tarapdan, LPCVD (Pes güýç) adatça Nitride, poly we TEOS üçin ulanylýar.
Principleörelge näme?PECVD tehnologiýasy, pes temperaturaly plazmany ulanyp, plazma energiýasyny we CVD-ni birleşdirip, prosedura kamerasynyň katodynda tazelik akymyny üpjün edýär. Bu, himiki we plazma himiki reaksiýasynyň nusga ýüzünde gaty film döretmegine gözegçilik etmäge mümkinçilik berýär. Şonuň ýaly-da, LPCVD reaktordaky himiki reaksiýa gaz basyşyny azaltmak üçin işlemegi meýilleşdirýär.
AI-ni adamlaşdyrmak: “CVD” tehnologiýasy ulgamynda “Humanize AI” -iň ulanylmagy film goýmak prosedurasynyň netijeliligini we takyklygyny ep-esli ýokarlandyryp biler. AI algoritmi bilen, ion parametri, gaz akymynyň tizligi, temperatura we filmiň galyňlygy ýaly parametrlere gözegçilik we sazlamak has gowy netijeler üçin optimallaşdyrylyp bilner.
Iş wagty: 24-nji oktýabr-24-nji oktýabr