Jemi ýokary hilli dolandyryş dolandyryş prosesi, ýokary hilli we ajaýyp iman ulanyp, uly at alýarys we Hytaýyň lomaý Hytaý ýokary hilli grafit çüýşeli / gaýyk öndürijisi üçin bu ugurdan peýdalanýarys, müşderilerimiziň meselelerini asap çözüp bileris we girdeji gazanarys Müşderi.Iň ýokary üpjün edijä we ajaýyplara mätäçler üçin bizi saýlaň, sag boluň!
Jemi ylmy gowy hil dolandyryş prosesi, ýokary ýokary hilli we ajaýyp iman ulanyp, uly ada eýe bolýarys we bu ugurda işleýärisHytaý haçly, Grafit haçly, doly material önümçilik liniýamyz, gurnama liniýamyz, hil gözegçilik ulgamy we iň esasysy, köp patent tehnologiýasy we tejribeli tehniki we önümçilik topary, satuw hyzmatlary topary bar.Şol adamlaryň artykmaçlyklary bilen, “neýlon monofilamentleriň abraýly halkara markasyny” döretmek we önümlerimizi dünýäniň çar künjegine ýaýratmak niýetimiz bar.Müşderilerimize hyzmat etmek üçin elimizden gelenini edýäris.
Uglerod / uglerod kompozitleri(mundan beýläk “C / C ýa-da CFC ”) ugleroda esaslanýan we uglerod süýümi we önümleri (uglerod süýümi preformasy) bilen berkidilen birleşýän materialdyr.Uglerodyň inersiýasy we uglerod süýüminiň ýokary güýji bar.Gowy mehaniki häsiýetleri, ýylylyga garşylyk, poslama garşylyk, sürtülme nemlendirilmegi we ýylylyk we elektrik geçirijilik aýratynlyklary bar
CVD-SiCörtük birmeňzeş gurluş, ykjam material, ýokary temperatura garşylygy, okislenme garşylygy, ýokary arassalygy, kislota we aşgar garşylygy we durnukly fiziki we himiki aýratynlyklary bolan organiki reagent aýratynlyklaryna eýedir.
Highokary arassa grafit materiallary bilen deňeşdirilende, grafit 400C-de okislenip başlaýar, bu bolsa okislenme sebäpli tozanyň ýitmegine, periferiýa enjamlaryna we wakuum kameralaryna daşky gurşawyň hapalanmagyna we ýokary arassa gurşawyň hapalanmagyna sebäp bolar.
Şeýle-de bolsa, SiC örtügi 1600 dereje fiziki we himiki durnuklylygy saklap bilýär, häzirki zaman senagatynda, esasanam ýarymgeçiriji pudagynda giňden ulanylýar.
Kompaniýamyz, grafitiň, keramikanyň we beýleki materiallaryň üstünde CVD usuly bilen SiC örtük hyzmatlaryny hödürleýär, uglerod we kremnini öz içine alýan ýörite gazlar ýokary arassalyk SiC molekulalaryny, örtülen materiallaryň üstünde goýlan molekulalary almak üçin ýokary temperaturada täsir eder, SIK gorag gatlagyny emele getirýär.Döredilen SIK grafit bazasyna berk bagly bolup, grafit bazasyna aýratyn aýratynlyklar berýär, şeýlelik bilen grafitiň ýüzüni ykjam, gözeneksiz, ýokary temperatura garşylygy, poslama garşylyk we okislenme garşylygy edýär.
Esasy aýratynlyklary:
1. temperatureokary temperaturaly okislenme garşylygy:
oksidlenme garşylygy, temperatura 1600 C-den ýokary bolanda henizem gaty gowy.
2. purokary arassalygy: ýokary temperatura hlorlaşma şertinde himiki bug çökdürilmegi bilen öndürilýär.
3. Eroziýa garşylygy: ýokary gatylyk, ykjam ýer, inçe bölejikler.
4. Poslama garşylyk: kislota, aşgar, duz we organiki reagentler.
CVD-SIC örtükleriniň esasy aýratynlyklary:
SiC-CVD | ||
Dykyzlygy | (g / cc)
| 3.21 |
Fleksural güýç | (Mpa)
| 470 |
Malylylyk giňelmesi | (10-6 / K) | 4
|
Malylylyk geçirijiligi | (W / mK) | 300
|