ทำความเข้าใจการปนเปื้อนของแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์และขั้นตอนการทำความสะอาด

เมื่อมันอสุจิไปข่าวธุรกิจการทำความเข้าใจถึงความประณีตของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นสิ่งจำเป็น เวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์เป็นส่วนประกอบสำคัญในอุตสาหกรรมนี้ แต่มักเผชิญกับการปนเปื้อนจากสิ่งเจือปนสารพัน สารปนเปื้อนเหล่านี้ ได้แก่ อะตอม สารอินทรีย์ ไอออนของธาตุโลหะ และออกไซด์ อาจส่งผลกระทบต่อขั้นตอนการผลิตได้

อนุภาคเช่นพอลิเมอร์และการแกะสลักเชื่อถือสิ่งเจือปนในแรงระหว่างโมเลกุลเพื่อดูดซับบนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ส่งผลต่อการถ่ายภาพด้วยแสงของอุปกรณ์สิ่งสกปรกอินทรีย์เช่นน้ำมันผิวโฮโมและน้ำมันเครื่องบนแผ่นเวเฟอร์ ขัดขวางการทำความสะอาดไอออนของธาตุโลหะเช่นเหล็กและอลูมิเนียมมักจะถูกกำจัดออกโดยการก่อตัวของไอออนเชิงซ้อนของธาตุโลหะออกไซด์ขัดขวางขั้นตอนการผลิต และโดยทั่วไปจะถูกกำจัดออกโดยการแช่ในกรดไฮโดรฟลูออริกเจือจาง

วิธีการทางเคมีมักใช้เพื่อทำความสะอาดและกระตุกเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ เทคนิคการทำความสะอาดด้วยสารเคมีที่มีความชื้น เช่น การจุ่มสารละลายและการขัดผิวด้วยกลไกเป็นสิ่งที่มีอยู่ทั่วไป วิธีการทำความสะอาดความเร็วเหนือเสียงและเมกาโซนิกนำเสนอวิธีที่มีประสิทธิภาพในการขจัดสิ่งเจือปน การทำความสะอาดด้วยสารเคมีแห้ง รวมถึงเทคโนโลยีพลาสมาและเฟสก๊าซ ยังมีบทบาทในกระบวนการทำความสะอาดเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์อีกด้วย