TaC పూతతో గ్రాఫైట్

I. ప్రాసెస్ పరామితి అన్వేషణ

1. TaCl5-C3H6-H2-Ar వ్యవస్థ

2. నిక్షేపణ ఉష్ణోగ్రత:

థర్మోడైనమిక్ ఫార్ములా ప్రకారం, ఉష్ణోగ్రత 1273K కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు, ప్రతిచర్య యొక్క గిబ్స్ ఫ్రీ ఎనర్జీ చాలా తక్కువగా ఉంటుంది మరియు ప్రతిచర్య సాపేక్షంగా పూర్తవుతుందని లెక్కించబడుతుంది. ప్రతిచర్య స్థిరాంకం KP 1273K వద్ద చాలా పెద్దది మరియు ఉష్ణోగ్రతతో వేగంగా పెరుగుతుంది మరియు వృద్ధి రేటు క్రమంగా 1773K వద్ద మందగిస్తుంది.

పూత యొక్క ఉపరితల స్వరూపంపై ప్రభావం: ఉష్ణోగ్రత తగినది కానప్పుడు (చాలా ఎక్కువ లేదా చాలా తక్కువ), ఉపరితలం ఉచిత కార్బన్ పదనిర్మాణం లేదా వదులుగా ఉండే రంధ్రాలను అందిస్తుంది.

(1) అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద, క్రియాశీల రియాక్టెంట్ అణువులు లేదా సమూహాల కదలిక వేగం చాలా వేగంగా ఉంటుంది, ఇది పదార్థాల చేరడం సమయంలో అసమాన పంపిణీకి దారి తీస్తుంది మరియు ధనిక మరియు పేద ప్రాంతాలు సజావుగా మారలేవు, ఫలితంగా రంధ్రాల ఏర్పడతాయి.

(2) ఆల్కనేస్ యొక్క పైరోలిసిస్ ప్రతిచర్య రేటు మరియు టాంటాలమ్ పెంటాక్లోరైడ్ యొక్క తగ్గింపు ప్రతిచర్య రేటు మధ్య వ్యత్యాసం ఉంది. పైరోలిసిస్ కార్బన్ అధికంగా ఉంటుంది మరియు సమయానికి టాంటాలమ్‌తో కలపబడదు, ఫలితంగా ఉపరితలం కార్బన్‌తో చుట్టబడుతుంది.

ఉష్ణోగ్రత సముచితంగా ఉన్నప్పుడు, ఉపరితలంTaC పూతదట్టంగా ఉంటుంది.

TaCకణాలు కరుగుతాయి మరియు ఒకదానితో ఒకటి కలిసిపోతాయి, క్రిస్టల్ రూపం పూర్తయింది మరియు ధాన్యం సరిహద్దు సజావుగా మారుతుంది.

3. హైడ్రోజన్ నిష్పత్తి:

అదనంగా, పూత నాణ్యతను ప్రభావితం చేసే అనేక అంశాలు ఉన్నాయి:

-సబ్‌స్ట్రేట్ ఉపరితల నాణ్యత

-నిక్షేపణ గ్యాస్ ఫీల్డ్

-రియాక్టెంట్ గ్యాస్ మిక్సింగ్ యొక్క ఏకరూపత స్థాయి

II. యొక్క సాధారణ లోపాలుటాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత

1. పూత పగుళ్లు మరియు పొట్టు

లీనియర్ థర్మల్ ఎక్స్‌పాన్షన్ కోఎఫీషియంట్ లీనియర్ CTE:

2. లోపం విశ్లేషణ:

(1) కారణం:

(2) క్యారెక్టరైజేషన్ పద్ధతి

① అవశేష స్ట్రెయిన్‌ని కొలవడానికి ఎక్స్-రే డిఫ్రాక్షన్ టెక్నాలజీని ఉపయోగించండి.

② అవశేష ఒత్తిడిని అంచనా వేయడానికి హు కే నియమాన్ని ఉపయోగించండి.

(3) సంబంధిత సూత్రాలు

3.పూత మరియు ఉపరితలం యొక్క యాంత్రిక అనుకూలతను మెరుగుపరచండి

(1) సర్ఫేస్ ఇన్-సిటు గ్రోత్ కోటింగ్

థర్మల్ రియాక్షన్ డిపాజిషన్ మరియు డిఫ్యూజన్ టెక్నాలజీ TRD

కరిగిన ఉప్పు ప్రక్రియ

ఉత్పత్తి ప్రక్రియను సులభతరం చేయండి

ప్రతిచర్య ఉష్ణోగ్రతను తగ్గించండి

సాపేక్షంగా తక్కువ ఖర్చు

మరింత పర్యావరణ అనుకూలమైనది

పెద్ద ఎత్తున పారిశ్రామిక ఉత్పత్తికి అనుకూలం

(2) మిశ్రమ పరివర్తన పూత

సహ-నిక్షేపణ ప్రక్రియ

CVDప్రక్రియ

బహుళ-భాగాల పూత

ప్రతి భాగం యొక్క ప్రయోజనాలను కలపడం

పూత కూర్పు మరియు నిష్పత్తిని సరళంగా సర్దుబాటు చేయండి

4. థర్మల్ రియాక్షన్ డిపాజిషన్ మరియు డిఫ్యూజన్ టెక్నాలజీ TRD

(1) రియాక్షన్ మెకానిజం

TRD సాంకేతికతను ఎంబెడ్డింగ్ ప్రక్రియ అని కూడా పిలుస్తారు, ఇది బోరిక్ యాసిడ్-టాంటాలమ్ పెంటాక్సైడ్-సోడియం ఫ్లోరైడ్-బోరాన్ ఆక్సైడ్-బోరాన్ కార్బైడ్ వ్యవస్థను సిద్ధం చేయడానికి ఉపయోగిస్తుంది.టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత.

① కరిగిన బోరిక్ యాసిడ్ టాంటాలమ్ పెంటాక్సైడ్‌ను కరిగిస్తుంది;

② టాంటాలమ్ పెంటాక్సైడ్ క్రియాశీల టాంటాలమ్ అణువులకు తగ్గించబడుతుంది మరియు గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై వ్యాపిస్తుంది;

③ యాక్టివ్ టాంటాలమ్ అణువులు గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై శోషించబడతాయి మరియు కార్బన్ అణువులతో చర్య జరిపి ఏర్పడతాయిటాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత.

(2) రియాక్షన్ కీ

కార్బైడ్ పూత రకం తప్పనిసరిగా కార్బైడ్‌ను ఏర్పరిచే మూలకం యొక్క ఆక్సీకరణ ఫార్మేషన్ ఫ్రీ ఎనర్జీ బోరాన్ ఆక్సైడ్ కంటే ఎక్కువగా ఉండాలనే అవసరాన్ని తీర్చాలి.

కార్బైడ్ యొక్క గిబ్స్ ఫ్రీ ఎనర్జీ తగినంత తక్కువగా ఉంటుంది (లేకపోతే, బోరాన్ లేదా బోరైడ్ ఏర్పడవచ్చు).

టాంటాలమ్ పెంటాక్సైడ్ ఒక తటస్థ ఆక్సైడ్. అధిక-ఉష్ణోగ్రత కరిగిన బోరాక్స్‌లో, ఇది బలమైన ఆల్కలీన్ ఆక్సైడ్ సోడియం ఆక్సైడ్‌తో చర్య జరిపి సోడియం టాంటాలేట్‌ను ఏర్పరుస్తుంది, తద్వారా ప్రారంభ ప్రతిచర్య ఉష్ణోగ్రతను తగ్గిస్తుంది.