కార్బన్ / కార్బన్ మిశ్రమాలు(ఇకపైగా సూచిస్తారు"C/C లేదా CFC") అనేది ఒక రకమైన మిశ్రమ పదార్థం, ఇది కార్బన్పై ఆధారపడి ఉంటుంది మరియు కార్బన్ ఫైబర్ మరియు దాని ఉత్పత్తుల ద్వారా బలోపేతం చేయబడుతుంది (కార్బన్ ఫైబర్ ప్రిఫార్మ్). ఇది కార్బన్ యొక్క జడత్వం మరియు కార్బన్ ఫైబర్ యొక్క అధిక బలం రెండింటినీ కలిగి ఉంటుంది. ఇది మంచి యాంత్రిక లక్షణాలు, వేడి నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత, ఘర్షణ డంపింగ్ మరియు ఉష్ణ మరియు విద్యుత్ వాహకత లక్షణాలను కలిగి ఉంది.
CVD-SiCపూత ఏకరీతి నిర్మాణం, కాంపాక్ట్ మెటీరియల్, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, ఆక్సీకరణ నిరోధకత, అధిక స్వచ్ఛత, యాసిడ్ & క్షార నిరోధకత మరియు సేంద్రీయ కారకం, స్థిరమైన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలతో లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది.
ప్రధాన లక్షణాలు:
1. అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత:ఉష్ణోగ్రత 1600 C కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు ఆక్సీకరణ నిరోధకత చాలా బాగుంది.
2. అధిక స్వచ్ఛత: అధిక ఉష్ణోగ్రత క్లోరినేషన్ స్థితిలో రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ద్వారా తయారు చేయబడింది.
3. ఎరోషన్ నిరోధకత: అధిక కాఠిన్యం, కాంపాక్ట్ ఉపరితలం, చక్కటి కణాలు.
4. తుప్పు నిరోధకత: యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలు.
CVD SiC薄膜基本物理性能 CVD SiC యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలుపూత | |
性质 / ఆస్తి | 典型数值 / సాధారణ విలువ |
晶体结构 / క్రిస్టల్ స్ట్రక్చర్ | FCC β దశ 多晶,主要为(111)取向 |
密度 / సాంద్రత | 3.21 గ్రా/సెం³ |
硬度 / కాఠిన్యం | 2500 维氏硬度 (500g లోడ్) |
晶粒大小 / ధాన్యం పరిమాణం | 2~10μm |
纯度 / రసాయన స్వచ్ఛత | 99.99995% |
热容 / హీట్ కెపాసిటీ | 640 J·kg-1·కె-1 |
升华温度 / సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత | 2700℃ |
抗弯强度 / ఫ్లెక్చురల్ స్ట్రెంత్ | 415 MPa RT 4-పాయింట్ |
杨氏模量 / యంగ్స్ మాడ్యులస్ | 430 Gpa 4pt బెండ్, 1300℃ |
导热系数 / ఉష్ణ వాహకత | 300W·m-1·కె-1 |
热膨胀系数 / థర్మల్ ఎక్స్పాన్షన్(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
VET ఎనర్జీ అనేది SiC కోటింగ్, TaC కోటింగ్, గ్లాసీ కార్బన్ కోటింగ్, పైరోలైటిక్ కార్బన్ కోటింగ్ మొదలైన విభిన్న పూతలతో అనుకూలీకరించిన గ్రాఫైట్ మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ ఉత్పత్తుల యొక్క నిజమైన తయారీదారు, సెమీకండక్టర్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమ కోసం వివిధ అనుకూలీకరించిన భాగాలను సరఫరా చేయగలదు.
మా సాంకేతిక బృందం అగ్ర దేశీయ పరిశోధనా సంస్థల నుండి వచ్చింది, మీ కోసం మరిన్ని ప్రొఫెషనల్ మెటీరియల్ పరిష్కారాలను అందించగలదు.
మేము మరింత అధునాతన పదార్థాలను అందించడానికి అధునాతన ప్రక్రియలను నిరంతరం అభివృద్ధి చేస్తాము మరియు ప్రత్యేకమైన పేటెంట్ సాంకేతికతను రూపొందించాము, ఇది పూత మరియు ఉపరితల మధ్య బంధాన్ని మరింత కఠినతరం చేస్తుంది మరియు నిర్లిప్తతకు తక్కువ అవకాశం ఉంటుంది.
మా ఫ్యాక్టరీని సందర్శించడానికి మిమ్మల్ని హృదయపూర్వకంగా స్వాగతించండి, మరింత చర్చిద్దాం!