Epitaxial Epi Grafit Laras Susceptor

Epitaxial Epi Grafit Laras Susceptor

Epitaxial Epi Grafit Laras Susceptormangrupakeun rojongan dirancang husus sarta alat pemanasan dipaké pikeun nahan jeung panas substrat semikonduktor salila prosés manufaktur kawas déposisi atawa prosés Epitaxy.

Struktur na ngawengku ilaharna cylindrical atawa rada tong ngawangun, beungeut fitur sababaraha kantong atawa platform keur nempatkeun wafers, bisa jadi padet atawa desain kerung, gumantung kana métode pemanasan.

Fungsi utama susceptor laras epitaxial:

-Dukungan substrat: aman nahan sababaraha wafers semikonduktor;
-Sumber panas: nyadiakeun suhu luhur diperlukeun pikeun tumuwuh ngaliwatan pemanasan;
uniformity -Temperature: ensures pemanasan seragam substrat;
-Rotation: biasana rotates salila tumuwuhna ngaronjatkeun suhu jeung distribusi gas uniformity.

Prinsip kerja susceptor tong grafit Epi:
- Dina reaktor epitaxial, susceptor tong dipanaskeun nepi ka suhu diperlukeun (ilaharna 1000 ℃ -1200 ℃ pikeun silikon epitaxy);
-The susceptor laras rotates pikeun mastikeun sebaran suhu seragam jeung aliran gas;
-Gas réaksi terurai dina suhu luhur, ngabentuk lapisan epitaxial dina beungeut substrat.

Aplikasi:
-Utamina dipaké pikeun tumuwuh epitaxial silikon
-Ogé lumaku pikeun epitaxy bahan semikonduktor séjén kawas GaAs, InP, jsb.

VET Energy nganggo grafit kemurnian tinggi sareng palapis CVD-SiC pikeun ningkatkeun stabilitas kimia:

Kaunggulan tina VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

- stabilitas suhu luhur;
-Alus uniformity termal;
-Can ngolah sababaraha substrat sakaligus, ningkatkeun efisiensi produksi;
-Chemically inert, ngajaga lingkungan tumuwuh-purity tinggi.