English

Pemanas Grafit ngaropéa pikeun Wafer Silicon Semiconductor, palapis SiC

Pemanas Grafit Disesuaikeun pikeun Semikonduktor Silicon Wafer, Lapisan SiC Gambar Diulas
  • Pemanas Grafit ngaropéa pikeun Wafer Silicon Semiconductor, palapis SiC
  • Pemanas Grafit ngaropéa pikeun Wafer Silicon Semiconductor, palapis SiC
  • Pemanas Grafit ngaropéa pikeun Wafer Silicon Semiconductor, palapis SiC
  • Pemanas Grafit ngaropéa pikeun Wafer Silicon Semiconductor, palapis SiC

Katerangan pondok:

Spésifikasi Téknis

VET-M3
Kapadetan Bulk (g/cm3)

≥1.85
Kandungan Abu (PPM)

≤500
Teuas Shore

≥45
Résistansi spésifik (μ.Ω.m)

≤12
Kakuatan Flexural (Mpa)

≥40
Kakuatan Compressive (Mpa)

≥70
Max. Ukuran Grain (μm)

≤43
Koéfisién Ékspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6


Unduh salaku PDF

Rincian produk

Tag produk

Spésifikasi Téknis

VET-M3
Kapadetan Bulk (g/cm3)

≥1.85
Kandungan Abu (PPM)

≤500
Teuas Shore

≥45
Résistansi spésifik (μ.Ω.m)

≤12
Kakuatan Flexural (Mpa)

≥40
Kakuatan Compressive (Mpa)

≥70
Max. Ukuran Grain (μm)

≤43
Koéfisién Ékspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ngaropéa grafit manaskeun pikeun Semiconductor Silicon Wafer

Ngaropéa grafit manaskeun pikeun Semiconductor Silicon Wafer

Ngaropéa grafit manaskeun pikeun Semiconductor Silicon Wafer

Ngaropéa grafit manaskeun pikeun Semiconductor Silicon Wafer

 

 

 

 

Ngaropéa grafit manaskeun pikeun Semiconductor Silicon Wafer

  • saméméhna:
  • Teras:

    • produk patali

    Chat Online WhatsApp!