E mana'omia nisi mea fa'aola ma mea fa'aletino e auai i le gaosiga semiconductor. E le gata i lea, talu ai o le faagasologa e masani ona faia i totonu o se potu mama ma le auai o tagata, semiconductorwaferso lo'o fa'aleagaina e le tele o mea leaga eseese.
E tusa ai ma le mafuaʻaga ma le natura o mea faʻaleagaina, e mafai ona vaevaeina i ni vaega se fa: vaega, mea faʻaola, ion uʻamea ma oxides.
1. Vaega:
O vaega e masani lava o nisi polymers, photoresists ma etching eleelea.
O ia mea leaga e masani lava ona faalagolago i malosiaga intermolecular e adsorb i luga o le pito i luga o le wafer, e aafia ai le fausiaina o fuainumera geometric ma eletise eletise o le masini photolithography process.
O ia mea leaga e masani lava ona aveese e ala i le faʻaitiitia o latou nofoaga faʻafesoʻotaʻi ma luga o lewafere ala i auala fa'aletino po'o vaila'au.
2. Mea fa'aletino:
O faʻapogai o mea eleelea e matua lautele, e pei o le suauu paʻu o le tagata, siama, suauu masini, gaʻo gaogao, photoresist, faʻamamaina solvents, ma isi.
O ia mea leaga e masani lava ona fausia ai se ata oona i luga o le pito i luga o le wafer e taofia ai le vai faʻamamaina mai le oʻo atu i luga o le wafer, e mafua ai le le atoatoa o le faʻamamaina o le faʻamalo.
O le aveeseina o ia mea leaga e masani ona faia i le laasaga muamua o le faʻamamaina, aemaise lava le faʻaaogaina o metotia vailaʻau e pei ole sulfuric acid ma le hydrogen peroxide.
3. Iona u'amea:
O mea leaga masani e aofia ai le uʻamea, kopa, alumini, chromium, uʻamea lafo, titanium, sodium, potassium, lithium, ma isi.
O lenei ituaiga o mea le mama e masani ona aveese e auala vailaʻau e ala i le faʻavaeina o mea faʻapipiʻi uʻamea.
4. Okesene:
A o le semiconductorwaferso lo'o fa'aalia i se si'osi'omaga o lo'o iai le okesene ma le vai, o le a fa'atūina se fa'amea fa'anatura i luga o le fogaeleele. O lenei ata tifaga o le a faʻalavelaveina le tele o gaioiga i le gaosiga o le semiconductor ma o loʻo i ai foi ni mea leaga uamea. I lalo o nisi tulaga, o le a latou faia ni faaletonu eletise.
O le aveeseina o lenei ata o le oxide e masani ona faʻamaeʻaina e ala i le faʻafefe i totonu ole hydrofluoric acid.
Fa'asologa fa'amama lautele
O mea eleelea e fa'afefeteina i luga o le semiconductorwaferse mafai ona vaevaeina i ni ituaiga se tolu: molecular, ionic ma atomic.
Faatasi ai ma i latou, o le malosi o le adsorption i le va o le molecular le mama ma le pito i luga o le wafer e vaivai, ma o lenei ituaiga o mea eleelea e faigofie tele ona aveese. O le tele lava o le gaʻo gaʻo ma uiga hydrophobic, lea e mafai ona maua ai le masking mo ionic ma atomic le mama e faʻaleagaina ai luga o le semiconductor wafers, lea e le faʻaogaina i le aveesea o nei ituaiga e lua o mea leaga. O le mea lea, pe a faʻamama faʻamaʻi faʻamaʻi semiconductor wafers, e tatau ona aveese muamua mea leaga mole.
O le mea lea, o le faiga lautele o semiconductorwaferfaiga fa'amamā e:
De-molecularization-deionization-de-atomization-deionized vai fufulu.
E le gata i lea, ina ia mafai ona aveese le oxide masani i luga o le pito i luga o le wafer, e manaʻomia le faʻaopopoina o se laʻasaga faʻamaʻi amino acid. O le mea lea, o le manatu o le faʻamamāina o le muamua aveese faʻaleagaina o meaola i luga o le fogaeleele; ona fa'amavae lea o le oxide layer; i'u ina aveese fasimea ma uamea contamination, ma pasivate luga i le taimi e tasi.
Auala masani fa'amama
E masani ona fa'aogaina metotia fa'a-kemikolo mo le fa'amamāina o fa'ama'i semiconductor.
Fa'amama vaila'au e fa'atatau i le fa'agasologa o le fa'aogaina o vaila'au eseese ma solvents organic e fa'afefe pe fa'amavae ai mea leaga ma suau'u stains i luga o le pito i luga o le wafer e desorb le mama, ona fufulu lea i se aofaiga tele o le maualuga-mama vevela ma malulu vai deionized maua. se mea mama.
E mafai ona vaevaeina le fa'amamaina o vaila'au i le fa'amamaina o vaila'au susu ma le fa'amamaina o vaila'au fa'amago, lea o lo'o fa'atumauina pea le fa'amamaina o vaila'au susu.
Fa'amama vaila'au susu
1. Fa'amama vaila'au susu:
O le fa'amamaina o vaila'au susu e aofia ai le faatofuina o vaifofo, fufulu masini, fa'amama ultrasonic, fa'amama megasonic, fa'asolo fa'asolo, ma isi.
2. Fofo faatofuina:
O le faatofuina o vaifofo o se auala e aveese ai le faaleagaina o luga e ala i le faatofuina o le wafer i se vaifofo kemikolo. O le auala sili ona masani ona faʻaaogaina i le faʻamamaina o vailaʻau susu. E mafai ona fa'aogaina fofo eseese e aveese ai ituaiga fa'aleaga i luga o le fata.
E masani lava, o lenei metotia e le mafai ona faʻaumatia atoa mea leaga i luga o le pito i luga o le wafer, o lea la o fua faʻaletino e pei o le faʻamafanafanaina, ultrasound, ma le faʻafefeteina e masani ona faʻaaogaina aʻo faatofuina.
3. Osi masini:
E masani ona fa'aogaina le olo fa'ainisinia e aveese ai ni vaega po'o toega fa'aola i luga ole pito o le fafie. E masani ona vaevaeina i ni auala se lua:fufuluina ma le fufuluina e le tusilima i se solo.
Fufulu tusilimao le auala sili ona faigofie e fufulu ai. O se pulumu u'amea u'amea e fa'aaoga e uu ai se polo ua fa'asusu i le ethanol anhydrous po'o isi so'o so'o ma olo lemu i luga o le wafer i le itu lava e tasi e aveese ata solo, pefu, kelu totoe po o isi vaega malo. O lenei metotia e faigofie ona mafua ai le maosi ma le ogaoga o le filogia.
E fa'aogaina e le solo fa'ainisinia le fa'aogaina o le masini e solo ai le pito i luga ole paluga ma se pulumu fulufulu vaivai po'o se pulumu fefiloi. O lenei metotia e matua faʻaitiitia ai le maosi i luga o le wafer. Ole fa'amama maualuga ole a le sasaina le wafer ona o le leai o se fa'alavelave fa'ainisinia, ma e mafai ona aveese le fa'aleagaina i totonu o le tootoo.
4. Fa'amamaina ole Ultrasonic:
O le faʻamamaina o le Ultrasonic o se auala faʻamama e faʻaaogaina lautele i le semiconductor industry. O ona tulaga lelei o le lelei o le faʻamamaina, faʻaogaina faigofie, ma e mafai foi ona faʻamamaina masini lavelave ma pusa.
O lenei faiga fa'amama o lo'o i lalo o le gaioiga o galu ultrasonic malolosi (o le fa'aaogaina masani o le ultrasonic frequency o le 20s40kHz), ma o le a fa'atupuina vaega laiti ma mafiafia i totonu o le ala vai. O le vaega fa'aitiitiga o le a maua mai ai se pupuni toeitiiti lava a gaogao. Pe a mou atu le puʻu o le lua, o le a faʻatupuina se malosi faʻapitonuʻu i tafatafa o ia, e motusia ai fusi vailaʻau i totonu o molelaʻau e faʻamavae ai mea leaga i luga o le fafie. O le faʻamamaina ole Ultrasonic e sili ona aoga mo le aveeseina o mea e le mafai ona faʻaaogaina pe le mafai ona faʻaaogaina.
5. Fa'amamaina o le Megasonic:
O le faʻamamaina o le Megasonic e le gata o loʻo i ai le lelei o le faʻamamaina o le ultrasonic, ae faʻatoʻilaloina foi ona vaivaiga.
O le fa'amamaina o le Megasonic o se auala e fa'amama ai fa'ama'i mama e ala i le tu'ufa'atasia o le malosi tele (850kHz) fa'avevesi fa'avevesi a'afiaga fa'atasi ai ma le vaila'au fa'ainisinia o vaila'au fa'amama. I le taimi o le faʻamamaina, o loʻo faʻavaveina mole o vaifofo e le galu megasonic (o le maualuga o le saoasaoa vave e mafai ona oʻo atu i le 30cmVs), ma o le galu maualuga o le sua o loʻo faʻaauau pea ona aʻafia luga o le wafer, ina ia faʻapipiʻi ai mea eleelea ma mea laiti i luga o le eleele. ua aveese faamalosi ma ulu i le vaifofo faamama. Faʻaopoopoina faʻamaʻi faʻafefete i le vaifofo faʻamamā, i le tasi itu, e mafai ona ausia le faʻamoemoega o le aveeseina o mea faʻapitoa ma mea faʻalaʻau i luga o le polesi luga e ala i le adsorption o surfactants; i le isi itu, e ala i le tuʻufaʻatasia o surfactants ma siosiomaga acidic, e mafai ona ausia le faamoemoega o le aveesea o le uamea contamination i luga o le pito i luga o le laupepa polesi. O lenei metotia e mafai i le taimi lava e tasi ona fai le matafaioi o le fufuluina o masini ma le faamamaina o vailaʻau.
I le taimi nei, o le auala faʻamamaina megasonic ua avea ma auala aoga mo le faʻamamaina o laupepa faʻalelei.
6. auala fa'asu'i Rotary:
O le auala faʻafefeteina o se auala e faʻaogaina ai metotia faʻainisinia e faʻataʻamilo ai le wafer i se saoasaoa maualuga, ma faʻaauau pea ona faʻafefe vai (vai faʻamaʻi maualuga-mama poʻo isi vai faʻamamaina) i luga o le faʻamama i le taimi o le suiga o le faagasologa e aveese ai mea leaga i luga o le. luga o le papa mafi.
O lenei metotia e faʻaogaina ai le faʻaleagaina i luga o le faʻafefeteina e faʻafefe ai i totonu o le vai faʻafefete (poʻo le faʻaaogaina faʻamaʻi faʻatasi ma ia e faʻamavae), ma faʻaaogaina le aafiaga centrifugal o le televave o le taamilosaga e faʻateʻa ese ai le vai o loʻo i ai mea eleelea mai luga o le wafer. i le taimi.
Ole auala fa'asu'i e iai le lelei ole fa'amama vaila'au, fa'amama fa'ainisinia sua, ma le fufuluina maualuga. I le taimi lava e tasi, e mafai foi ona tuʻufaʻatasia lenei metotia ma le faʻamagoina. A mae'a se vaitaimi o le fa'amama vai fa'amama vai, ona taofi lea o le vai ma fa'aaoga se kesi fa'asuavai. I le taimi lava e tasi, e mafai ona faʻateleina le saoasaoa o le taamilosaga e faʻateleina ai le malosi o le centrifugal e vave faʻafefe ai le pito i luga o le wafer.
7.Fa'amago vaila'au fa'amago
Fa'amamago e fa'atatau i le fa'amamāina o tekonolosi e le fa'aogaina ai fofo.
O tekinolosi fa'amamago o lo'o fa'aaogaina nei e aofia ai: fa'amama plasma tekonolosi, kesi fa'amama tekonolosi, fa'amama fa'amama tekonolosi, ma isi.
O le lelei o le faʻamamago mama o se faiga faigofie ma leai se faʻaleagaina o le siosiomaga, ae o le tau e maualuga ma le lautele o le faʻaogaina e le tele mo le taimi nei.
1. Tekinolosi fa'amama fa'ama'i:
E masani ona faʻaaogaina le faʻamamaina o le plasma i le faʻaogaina o le photoresist. O se vaega itiiti o le okesene e faʻafeiloaʻi i totonu o le plasma reaction system. I lalo o le gaioiga a se eletise malosi malosi, o le okesene e gaosia ai le plasma, lea e vave faʻafefeteina le photoresist i se tulaga gaogao gaogao ma aveese mai.
O lenei tekinolosi faʻamamā e iai le lelei o le faʻaogaina faigofie, maualuga maualuga, mama luga, leai ni maosiosia, ma e faʻamalosia e faʻamautinoa le lelei o oloa i le faʻagasologa o le degumming. E le gata i lea, e le faʻaogaina ai vailaʻau, alkalis ma mea faʻalaʻau, ma e leai ni faʻafitauli e pei o otaota lafoai ma le faʻaleagaina o le siosiomaga. O le mea lea, ua faʻateleina le faʻatauaina e tagata. Ae ui i lea, e le mafai ona aveese le kaponi ma isi u'amea e le faʻafefe poʻo le faʻamaʻiina o le oxide.
2. Kesi vaega faamamaina tekinolosi:
O le fa'amamaina o le kesi e fa'atatau i se auala fa'amama e fa'aogaina ai le vaega o le kasa e tutusa ma le mea e fetaui i le fa'agasologa o le suavai e fegalegaleai ai ma le mea fa'aleagaina i luga o le fa'ato'aga e ausia ai le fa'amoemoe e aveese ai mea leaga.
Mo se fa'ata'ita'iga, i le fa'agasologa o le CMOS, o le fa'amama fa'amama e fa'aogaina ai le fegalegaleai i le va o le vaega o le kesi HF ma le ausa vai e aveese ai oxides. E masani lava, o le HF faagasologa o loʻo i ai le vai e tatau ona faʻatasi ma se faʻagasologa o le aveeseina o mea iti, ae o le faʻaogaina o le kesi vaega HF faʻamamaina tekinolosi e le manaʻomia ai se faʻagasologa o le aveeseina o mea iti.
O fa'amanuiaga sili ona taua pe a fa'atusatusa i le fa'agasologa o le HF aqueous o le fa'aaogaina o vaila'au HF la'ititi ma maualuga le fa'amamaina lelei.
Faʻafeiloaʻi soʻo se tagata faʻatau mai le lalolagi atoa e asiasi mai mo se isi talanoaga!
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Taimi meli: Aukuso-13-2024