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Etching ole Poly ma le SiO2:
A maeʻa lenei mea, o le sili atu Poly ma le SiO2 e togi ese, o lona uiga, aveese. I lenei taimi, faasinoalatogitogigae fa'aaogaina. I le faʻavasegaina o le faʻaogaina, o loʻo i ai le faʻavasegaina o le faʻaogaina o le faʻatonuga ma le le faʻaogaina o le faʻaogaina. O le tusi fa'atonu e faasino itogitogigai se itu patino, aʻo etching e le o faʻatonuga e le faʻatonuina (Na ou faʻafuaseʻi ona fai atu tele. I se faapuupuuga, o le aveese lea o le SiO2 i se itu patino e ala i mea faʻapitoa ma faʻavae). I lenei faʻataʻitaʻiga, matou te faʻaogaina le faʻaogaina i lalo e aveese ai SiO2, ma e faʻapea.
Mulimuli ane, aveese le photoresist. I le taimi nei, o le auala e aveese ai le photoresist e le o le faʻagaoioia e ala i le faʻamalamalamaina o le malamalama o loʻo taʻua i luga, ae e ala i isi metotia, aua tatou te le manaʻomia le faʻamalamalamaina o se tele faʻapitoa i lenei taimi, ae ia aveese uma le photoresist. Mulimuli ane, e avea e pei ona faaalia i le ata o loo i lalo.
I lenei auala, ua matou ausia le faʻamoemoe o le taofia o le nofoaga patino o le Poly SiO2.
Fausia o le puna ma alavai:
Ma le mea mulimuli, se'i o tatou mafaufau pe fa'afefea ona fai le puna ma alavai. E manatua pea e tagata uma na tatou talanoa i ai i le lomiga talu ai. O le puna ma le alavai o loʻo faʻapipiʻiina i le ituaiga elemene tutusa. I le taimi nei, e mafai ona tatou faʻaogaina le photoresist e tatala ai le puna / alavai e manaʻomia ona faʻapipiʻi le ituaiga N. Talu ai e naʻo le NMOS e fai ma faʻataʻitaʻiga, o vaega uma i le ata o loʻo i luga o le a tatalaina, e pei ona faʻaalia i le ata o loʻo i lalo.
Talu ai e le mafai ona faʻapipiʻi le vaega o loʻo ufiufi e le photoresist (ua poloka le moli), o elemene N-ituaiga o le a naʻo le NMOS manaʻomia. Talu ai o le substrate i lalo o le poly ua poloka e le poly ma le SiO2, o le a le faʻapipiʻiina, o lea e faʻapena.
I le taimi nei, ua faia se faʻataʻitaʻiga faigofie MOS. I le talitonuga, afai e faʻapipiʻi le voltage i le puna, alavai, poly ma substrate, e mafai ona galue lenei MOS, ae e le mafai ona na o le suʻeina o se suʻega ma faʻaopopo saʻo le voltage i le puna ma alavai. I le taimi nei, e manaʻomia le telefoni MOS, o lona uiga, i luga o lenei MOS, faʻafesoʻotaʻi uaea e faʻafesoʻotaʻi le tele o MOS. Se'i o tatou va'ai i le fa'agasologa o uaea.
Fai VIA:
O le laasaga muamua o le ufiufi atoa o le MOS i se vaega o le SiO2, e pei ona faʻaalia i le ata o loʻo i lalo:
Ioe, o lenei SiO2 e gaosia e le CVD, aua e vave tele ma faʻasaoina le taimi. O lo'o mulimuli mai pea le fa'agasologa o le tu'uina o le photoresist ma fa'aalia. A mae'a le fa'ai'uga, e fa'apea.
Ona faʻaaoga lea o le auala e togi ai se pu i luga o le SiO2, e pei ona faʻaalia i le vaega efuefu i le ata o loʻo i lalo. O le loloto o lenei pu e fesoʻotaʻi saʻo i luga ole Si.
Mulimuli ane, aveese le photoresist ma maua foliga nei.
I le taimi nei, o le mea e tatau ona fai o le faʻatumu o le taʻavale i totonu o lenei pu. Ae o le a lea ta'ita'i? E eseese kamupani taʻitasi, o le tele oi latou o tungsten alloys, faʻapefea la ona faʻatumu lenei pu? O le PVD (Physical Vapor Deposition) o loʻo faʻaaogaina, ma o le mataupu faavae e tutusa ma le ata o loʻo i lalo.
Fa'aaogā eletise eletise po'o ions e pomu ai le mea fa'atatau, ma o le a pa'u i lalo le mea tau fa'atatau i le pito i lalo i foliga o atoms, ma fa'atupu ai le ufiufi i lalo. O mea fa'atatau e masani ona tatou va'aia i tala fou e fa'atatau i mea fa'atatau iinei.
A uma ona faatumu le pu, e pei o lenei.
O le mea moni, pe a tatou faʻatumu, e le mafai ona pulea le mafiafia o le ufiufi e tutusa lelei ma le loloto o le pu, o lea o le ai ai se mea e sili atu, o lea matou te faʻaogaina ai le CMP (Chemical Mechanical Polishing) tekinolosi, e foliga mai e matuaʻi lava. maualuga, ae o le mea moni e olo, olo ese vaega sili. O le taunuuga e pei o lenei.
I le taimi nei, ua maeʻa le gaosiga o se vaega o le via. O le mea moni, o le gaosiga o le auala e masani lava mo le uaea o le u'amea i tua.
Fa'ameamea fa'ameamea:
I lalo o tulaga o loʻo i luga, matou te faʻaogaina le PVD e faʻapipiʻi ai se isi vaega o le uamea. O lenei uamea e masani lava o se u'amea fa'avae apamemea.
A maeʻa ona faʻaalia ma togitogi, matou te maua le mea matou te mananaʻo ai. Ona faaauau ai lea ona faaputu seia oo ina faamalieina o tatou manaoga.
A matou tusia le faʻatulagaga, matou te taʻuina atu ia te oe le tele o laulau o uʻamea ma e ala i le faʻaogaina o le faʻaogaina e mafai ona faʻapipiʻi i le tele, o lona uiga e fia ni laulau e mafai ona faʻaputuina.
Mulimuli ane, matou te maua lenei fausaga. O le pito i luga o le pine lea o lenei pu, ma a uma ona afifiina, e avea ma pine e mafai ona tatou vaʻaia (ioe, na ou tusia faʻafuaseʻi, e leai se aoga aoga, mo se faʻataʻitaʻiga).
O le faiga masani lea o le faiga o se chip. I lenei lomiga, matou aʻoaʻoina e uiga i le faʻaalia sili ona taua, etching, ion implantation, ogaumu paipa, CVD, PVD, CMP, ma isi i semiconductor foundry.
Taimi meli: Aukuso-23-2024