E mafai ona e malamalama i ai e tusa lava pe e te leʻi suʻesuʻeina le fisiki poʻo le matematika, ae e fai si faigofie tele ma talafeagai mo tagata amata. Afai e te fia iloa atili e uiga i le CMOS, e tatau ona e faitau i le anotusi o lenei lomiga, aua naʻo le maeʻa ona malamalama i le faagasologa o le tafe (o lona uiga, o le gaosiga o le diode) e mafai ona e faʻaauau ona malamalama i mea nei. Seʻi o tatou aʻoaʻo pe faʻapefea ona gaosia lenei CMOS i le kamupani faʻavae i lenei lomiga (faʻaaogaina le faʻaogaina o se faʻataʻitaʻiga, o le CMOS o le alualu i luma faiga e ese i le fausaga ma le gaosiga o mataupu faavae).
Muamua lava, e tatau ona e iloa o wafers e maua mai e le fau mai le faʻatau (silikoni waferfa'asoa) e ta'itasi ta'itasi, fa'atasi ma le radius o le 200mm (8-inisifalegaosimea) poʻo le 300mm (12-inisifalegaosimea). E pei ona faʻaalia i le ata o loʻo i lalo, e talitutusa lava ma se keke tele, lea matou te taʻua o se meaʻai.
Peitaʻi, e lē faigofie ona tatou vaai i ai i lenei auala. Matou te vaʻavaʻai mai le pito i lalo ma vaʻavaʻai i le vaʻaiga faʻasolosolo, lea e avea ma ata o loʻo i lalo.
Le isi, se'i o tatou va'ai pe fa'apefea ona fa'aalia le fa'ata'ita'iga CMOS. Talu ai o le faagasologa moni e manaʻomia ai le faitau afe o laasaga, o le a ou talanoa e uiga i laʻasaga autu o le 8-inisi wafer faigofie iinei.
Fa'alelei ma Fa'asagaga Layer:
O lona uiga, o le vaieli ua totoina i totonu o le substrate e ala i le totoina o le ion (Ion Implantation, lea e taʻua mulimuli ane o le imp). Afai e te manaʻo e fai le NMOS, e tatau ona e faʻapipiʻi vaieli P-ituaiga. Afai e te manaʻo e fai le PMOS, e tatau ona e faʻapipiʻi vaieli N-ituaiga. Mo lou fa'afaigofie, se'i fai le NMOS o se fa'ata'ita'iga. O le masini faʻapipiʻi ion e faʻapipiʻi elemene P-ituaiga e faʻapipiʻi i totonu o le substrate i se loloto patino, ona faʻamafanafanaina ai lea i le maualuga o le vevela i totonu o le ogaumu faʻamalosi e faʻagaoioia ai nei ion ma faʻasalalau solo. O le mea lea e faʻamaeʻa ai le gaosiga o le vaieli. O le mea lea e foliga mai pe a maeʻa le gaosiga.
A maeʻa ona fai le vaieli, o loʻo i ai isi laasaga faʻapipiʻi ion, o le faʻamoemoe o le pulea lea o le tele o le alalaupapa o loʻo i ai nei ma le voltage paepae. E mafai e tagata uma ona taʻua o le inversion layer. Afai e te manaʻo e fai le NMOS, o le inversion layer e faʻapipiʻiina i P-type ions, ma afai e te manaʻo e fai le PMOS, o le inversion layer e faʻapipiʻiina i N-type ions. A maeʻa ona faʻapipiʻiina, o le faʻataʻitaʻiga lea.
O loʻo i ai le tele o mea o loʻo i ai iinei, e pei o le malosi, angle, faʻaogaina o le ion i le taimi o le faʻapipiʻiina o le ion, ma isi mea, e le o aofia ai i lenei lomiga, ma ou te talitonu afai e te iloa na mea, e tatau ona avea oe ma tagata faʻapitoa, ma oe. e tatau ona i ai se auala e aoao ai.
Faia le SiO2:
Silicon dioxide (SiO2, lea e ta'ua mulimuli ane o le oxide) o le a faia mulimuli ane. I le faagasologa o le gaosiga o le CMOS, e tele auala e fai ai le oxide. O iinei, o le SiO2 o loʻo faʻaaogaina i lalo o le faitotoʻa, ma o lona mafiafia e aʻafia tonu ai le tele o le voltage paepae ma le tele o le alalaupapa o loʻo i ai nei. O le mea lea, o le tele o faʻamau e filifilia le auala faʻamaʻi faʻamaʻi faʻamaʻi ma le maualuga maualuga, le sili ona saʻo le mafiafia, ma le tutusa lelei i lenei laasaga. O le mea moni, e matua faigofie lava, o lona uiga, i totonu o se ogaumu ogaumu faʻatasi ma le okesene, e faʻaaogaina le vevela maualuga e faʻatagaina ai le okesene ma le silikoni e tali atu i vailaʻau e gaosia ai le SiO2. I lenei auala, o se vaega manifinifi o SiO2 e gaosia i luga o le Si, e pei ona faʻaalia i le ata o loʻo i lalo.
Ioe, o loʻo i ai foi le tele o faʻamatalaga patino iinei, e pei o le tele o tikeri e manaʻomia, o le a le tele o le faʻaogaina o le okesene e manaʻomia, o le a le umi e manaʻomia ai le maualuga o le vevela, ma isi. patino tele.
Fausia o le faitotoa pito Poly:
Ae e lei uma. SiO2 e tutusa lava ma se filo, ma o le faitotoa moni (Poly) e leʻi amataina. O le isi la tatou laasaga o le tuʻuina lea o se vaega o le polysilicon i luga o le SiO2 (polysilicon e aofia ai foʻi se elemene silicon e tasi, ae o le faʻatulagaina o lattice e ese. o se tusi e taʻua Semiconductor Physics E mafai ona e aʻoaʻoina e uiga i ai. O le Poly foi o se fesoʻotaʻiga taua tele i le CMOS, ae o le vaega ole poly o le Si, ma e le mafai ona faʻatupuina e ala i le tali saʻo ma le Si substrate pei o le tuputupu aʻe o SiO2. Ole mea lea e mana'omia ai le CVD (Chemical Vapor Deposition), o le tali atu lea i vaila'au i totonu o se vacuum ma fa'afefe ai le mea na gaosia i luga o le wafer. I lenei faʻataʻitaʻiga, o le mea e gaosia o le polysilicon, ona faʻafefe ai lea i luga o le wafer (o lea e tatau ona ou fai atu o le poly e gaosia i totonu o se ogaumu e le CVD, o lea e le faia ai le gaosiga o le poly e se masini CVD mama).
Ae o le polysilicon e faia i lenei metotia o le a faʻafefe i luga o le wafer atoa, ma e pei o lenei pe a uma le timuga.
Fa'aalia ole Poly ma le SiO2:
I lenei laasaga, o le fausaga saʻo matou te mananaʻo ua faia moni lava, ma le poly i luga, SiO2 i lalo, ma le substrate i le pito i lalo. Ae o le taimi nei o le wafer atoa e pei o lenei, ma tatou te manaʻomia se tulaga faʻapitoa e avea ma "fau" fausaga. E i ai la le laasaga pito sili ona taua i le faagasologa atoa - faʻaalia.
Matou te faʻasalalau muamua se vaega o le photoresist i luga o le pito i luga o le wafer, ma e pei o lenei.
Ona tuu lea o le ufimata faʻamalamalamaina (o le mamanu faʻataʻitaʻiga ua faʻamalamalamaina i luga o le matapulepule) i luga, ma mulimuli ane faʻamalama i le malamalama o se umi galu. O le photoresist o le a faʻagaoioia i totonu o le eria faʻavevelaina. Talu ai o le vaega o loʻo poloka e le matapulepule e le o faʻamalamalamaina e le malamalama, o lenei vaega o le photoresist e le o faʻagaoioia.
Talu ai o le photoresist faʻagaoioia e matua faigofie lava ona fufulu ese e se vai vailaʻau faʻapitoa, ae le mafai ona fufulu ese le photoresist unactivated, pe a uma le irradiation, o se vai faapitoa e faʻaaogaina e fufulu ese ai le photoresist faʻagaoioia, ma mulimuli ane e pei o lenei, tuua le photoresist i le mea e manaʻomia ona taofi ai le Poly ma le SiO2, ma aveese le photoresist i le mea e le manaʻomia ona taofi.
Taimi meli: Aukuso-23-2024