Ko pride do semenaposlovne novice, je razumevanje dodelanosti izdelave polprevodnikov nujno. polprevodniške rezine so ključna komponenta v tej industriji, vendar se pogosto soočajo z onesnaženjem zaradi različnih nečistoč. Ti onesnaževalci, vključno z atomom, organsko snovjo, ionom kovinskega elementa in oksidom, lahko vplivajo na postopek izdelave.
delcikot so polimeri in nečistoče pri jedkanju, ki zaupajo medmolekularni sili, da se adsorbirajo na površini rezin, vplivajo na fotolitografijo naprave.organske nečistočekot homo kožno olje in strojno olje tvorita film na rezini, ovirata čiščenje.ioni kovinskih elementovtako kot železo in aluminij se pogosto odstranita s tvorbo ionskega kompleksa kovinskega elementa.Oksidiovirajo postopek izdelave in se običajno odstranijo z namakanjem v razredčeni fluorovodikovi kislini.
kemične metodese običajno uporabljajo za čiščenje in sukanje polprevodniških rezin. Prevladujejo tehnike vlažilnega kemičnega čiščenja, kot sta potopitev v raztopino in mehansko čiščenje. nadzvočna in megazvočna metoda čiščenja nudita učinkovite načine za odstranjevanje nečistoč. suho kemično čiščenje, vključuje tehnologijo plazme in plinske faze, igra tudi vlogo pri postopkih čiščenja polprevodniških rezin.
Čas objave: 29. oktober 2024