ලෝහ-කාබනික රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (MOCVD) යනු උසස් තත්ත්වයේ අර්ධ සන්නායක ද්රව්ය සකස් කිරීම සඳහා අර්ධ සන්නායක වේෆර් මතුපිට බහු ස්ථර පටල තැන්පත් කිරීම සඳහා බහුලව භාවිතා වන අර්ධ සන්නායක epitaxy තාක්ෂණයකි. MOCVD epitaxial සංරචක අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ වැදගත් කාර්යභාරයක් ඉටු කරන අතර දෘශ්ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග, දෘශ්ය සන්නිවේදනය, ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා බල උත්පාදනය සහ අර්ධ සන්නායක ලේසර් සඳහා බහුලව භාවිතා වේ.
MOCVD epitaxial සංරචකවල එක් ප්‍රධාන යෙදුමක් වන්නේ දෘශ්ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග සකස් කිරීමයි. අර්ධ සන්නායක වේෆර් මත විවිධ ද්රව්යවල බහු ස්ථර පටල තැන්පත් කිරීමෙන් ඔප්ටිකල් ඩයෝඩ (එල්ඊඩී), ලේසර් ඩයෝඩ (එල්ඩී) සහ ෆොටෝඩෙක්ටර් වැනි උපාංග සකස් කළ හැකිය. MOCVD epitaxial සංරචකවල විශිෂ්ට ද්රව්ය ඒකාකාරිත්වය සහ අතුරු මුහුණත තත්ත්ව පාලන හැකියාවන් ඇත, එමඟින් කාර්යක්ෂම ප්‍රකාශ විද්‍යුත් පරිවර්තනයක් සාක්ෂාත් කරගත හැකිය, උපාංගයේ දීප්තිමත් කාර්යක්ෂමතාව සහ ක්‍රියාකාරී ස්ථායිතාව වැඩි දියුණු කළ හැකිය.
මීට අමතරව, MOCVD epitaxial සංරචක ද දෘශ්ය සන්නිවේදන ක්ෂේත්‍රයේ බහුලව භාවිතා වේ. විවිධ ද්රව්යවල epitaxial ස්ථර තැන්පත් කිරීමෙන්, අධිවේගී හා කාර්යක්ෂම අර්ධ සන්නායක දෘශ්ය ඇම්ප්ලිෆයර් සහ දෘශ්ය මොඩියුලේටර් සකස් කළ හැකිය. දෘෂ්‍ය සන්නිවේදන ක්ෂේත්‍රයේ MOCVD epitaxial සංරචක යෙදීම මඟින් දත්ත සම්ප්‍රේෂණය සඳහා වැඩිවන ඉල්ලුම සපුරාලීම සඳහා දෘෂ්‍ය තන්තු සන්නිවේදනයේ සම්ප්‍රේෂණ වේගය සහ ධාරිතාව වැඩිදියුණු කිරීමට ද උපකාරී වේ.
මීට අමතරව, MOCVD epitaxial සංරචක ද ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා බල උත්පාදන ක්ෂේත්‍රයේ භාවිතා වේ. විශේෂිත කලාප ව්‍යුහයන් සහිත බහු ස්ථර පටල තැන්පත් කිරීමෙන් කාර්යක්ෂම සූර්ය කෝෂ සකස් කළ හැක. MOCVD epitaxial සංරචක මගින් සූර්ය කෝෂවල ප්‍රකාශ විද්‍යුත් පරිවර්තන කාර්යක්ෂමතාව සහ දිගු කාලීන ස්ථායීතාවය වැඩි දියුණු කිරීමට උපකාරී වන උසස් තත්ත්වයේ, ඉහළ දැලිස් ගැළපෙන epitaxial ස්ථර සැපයිය හැකිය.
අවසාන වශයෙන්, අර්ධ සන්නායක ලේසර් සකස් කිරීමේදී MOCVD epitaxial සංරචක ද වැදගත් කාර්යභාරයක් ඉටු කරයි. epitaxial ස්ථරයේ ද්රව්ය සංයුතිය සහ ඝනකම පාලනය කිරීම මගින් විවිධ තරංග ආයාමවල අර්ධ සන්නායක ලේසර් නිපදවිය හැක. MOCVD epitaxial සංරචක හොඳ දෘශ්ය කාර්ය සාධනය සහ අඩු අභ්‍යන්තර පාඩු සහතික කිරීම සඳහා උසස් තත්ත්වයේ epitaxial ස්ථර සපයයි.
කෙටියෙන් කිවහොත්, MOCVD epitaxial සංරචක අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ පුළුල් පරාසයක යෙදුම් ඇත. දෘශ්ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග, දෘශ්ය සන්නිවේදනය, ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා බල උත්පාදනය සහ අර්ධ සන්නායක ලේසර් සඳහා ප්‍රධාන ද්රව්ය සපයන උසස් තත්ත්වයේ බහු ස්ථර පටල සකස් කිරීමට ඔවුන්ට හැකියාව ඇත. MOCVD තාක්‍ෂණයේ අඛණ්ඩ සංවර්ධනය සහ වැඩිදියුණු කිරීමත් සමඟ, අර්ධ සන්නායක යෙදුම් සඳහා වැඩි නවෝත්පාදන සහ ඉදිරි ගමනක් ගෙන ඒම, epitaxial කොටස් සැකසීමේ ක්‍රියාවලිය දිගටම ප්‍රශස්ත වනු ඇත.
පසු කාලය: දෙසැම්බර්-18-2023