Структура материала и свойства спеченного карбида кремния при атмосферном давлении

Современные C, N, B и другие неоксидные высокотехнологичные огнеупорные материалы, спеченный карбид кремния при атмосферном давлении является обширным, экономичным, можно сказать, что это наждак или огнеупорный песок. Чистый карбид кремния представляет собой бесцветный прозрачный кристалл. Так какова структура материала и характеристики карбида кремния?

微信截图_20230616132527

Спеченный карбид кремния при атмосферном давлении

Структура материала спеченного карбида кремния при атмосферном давлении:

Спеченный карбид кремния при атмосферном давлении, используемый в промышленности, имеет светло-желтый, зеленый, синий и черный цвет в зависимости от типа и содержания примесей, отличается чистотой и прозрачностью. Кристаллическая структура карбида кремния разделена на шестисловный или ромбовидный плутоний и кубический плутоний. Плутоний образует разнообразные деформации из-за разного порядка укладки атомов углерода и кремния в кристаллической структуре, обнаружено более 70 видов деформации. бета-SIC превращается в альфа-SIC при температуре выше 2100. Промышленный процесс очистки карбида кремния с использованием высококачественного кварцевого песка и нефтяного кокса в печи сопротивления. Блоки рафинированного карбида кремния измельчаются, подвергаются кислотно-щелочной очистке, магнитной сепарации, просеиванию или отбору воды для получения продуктов с различными размерами частиц.

Характеристики материала спеченного карбида кремния при атмосферном давлении:

Карбид кремния обладает хорошей химической стабильностью, теплопроводностью, коэффициентом теплового расширения, износостойкостью, поэтому помимо абразивного использования он имеет множество применений: например, порошок карбида кремния наносится на внутреннюю стенку крыльчатки турбины или блока цилиндров. специальный процесс, который позволяет повысить износостойкость и продлить срок службы в 1-2 раза. Изготовлен из термостойкого, небольшого размера, легкого веса, высокой прочности из высококачественных огнеупорных материалов, очень хорошая энергоэффективность. Низкосортный карбид кремния (содержащий около 85% SiC) является отличным раскислителем, позволяющим повысить скорость выплавки стали и легко контролировать химический состав для улучшения качества стали. Кроме того, спеченный карбид кремния при атмосферном давлении также широко используется при изготовлении электрических частей кремнийуглеродных стержней.

Карбид кремния очень твердый. Твердость Морзе составляет 9,5, уступает только твердому алмазу в мире (10), является полупроводником с превосходной теплопроводностью, устойчив к окислению при высоких температурах. Карбид кремния имеет не менее 70 кристаллических типов. Плутоний-карбид кремния — распространенный изомер, образующийся при температуре выше 2000°С и имеющий гексагональную кристаллическую структуру (похожую на вюрцит). Спеченный карбид кремния при атмосферном давлении

Применение карбида кремния в полупроводниковой промышленности

Промышленная цепочка карбида кремния-полупроводников в основном включает в себя порошок карбида кремния высокой чистоты, монокристаллическую подложку, эпитаксиальный лист, силовые компоненты, упаковку модулей и терминалы.

1. Монокристаллическая подложка. Монокристаллическая подложка представляет собой полупроводниковый опорный материал, проводящий материал и эпитаксиальную подложку для выращивания. В настоящее время методы выращивания монокристалла SiC включают метод физического переноса из паровой фазы (метод PVT), метод жидкой фазы (метод LPE) и метод высокотемпературного химического осаждения из паровой фазы (метод HTCVD). Спеченный карбид кремния при атмосферном давлении

2. Эпитаксиальный лист Эпитаксиальный лист карбида кремния, лист карбида кремния, монокристаллическая пленка (эпитаксиальный слой) с тем же направлением, что и кристалл подложки, который предъявляет определенные требования к подложке из карбида кремния. В практических приложениях широкозонные полупроводниковые приборы почти все изготавливаются с эпитаксиальным слоем, а сам кремниевый чип используется только в качестве подложки, включая подложку эпитаксиального слоя GaN.

3. Порошок карбида кремния высокой чистоты. Порошок карбида кремния высокой чистоты является сырьем для выращивания монокристалла карбида кремния методом PVT, а чистота продукта напрямую влияет на качество роста и электрические характеристики монокристалла карбида кремния.

4. Силовое устройство представляет собой широкополосный источник питания, изготовленный из карбида кремния, который обладает характеристиками высокой температуры, высокой частоты и высокой эффективности. В соответствии с формой работы устройства устройство питания SiC в основном включает в себя силовой диод и трубку переключателя мощности.

5. Вывод. В полупроводниковых приложениях третьего поколения полупроводники из карбида кремния имеют то преимущество, что они дополняют полупроводники из нитрида галлия. Благодаря высокой эффективности преобразования, низким характеристикам нагрева, легкому весу и другим преимуществам устройств SiC спрос в перерабатывающей промышленности продолжает расти, и существует тенденция к замене устройств SiO2.


Время публикации: 16 июня 2023 г.
Онлайн-чат WhatsApp!