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Ferramentas bem administradas, equipe especializada em lucros e produtos e serviços pós-venda muito melhores; Também temos sido um cônjuge e filhos principais unificados, cada pessoa segue o benefício da empresa “unificação, dedicação, tolerância” paraChina Cerâmica refratária e forno cerâmico, Para atender às necessidades de clientes individuais para um serviço cada vez mais perfeito e produtos de qualidade estáveis. Damos as boas-vindas aos clientes de todo o mundo para nos visitar, com a nossa cooperação multifacetada, e desenvolver em conjunto novos mercados, criar um futuro brilhante!
Revestimento/revestido de SiC de substrato de grafite para semicondutores Os susceptores seguram e aquecem wafers semicondutores durante o processamento térmico. Um susceptor é feito de um material que absorve energia por indução, condução e/ou radiação e aquece o wafer. Sua resistência ao choque térmico, condutividade térmica e pureza são essenciais para o processamento térmico rápido (RTP). Grafite revestida com carboneto de silício, carboneto de silício (SiC) e silício (Si) são comumente usados para susceptores, dependendo do ambiente térmico e químico específico. Material ultrapuro PureSiC® CVD SiC e ClearCarbon™ que oferece estabilidade térmica superior, resistência à corrosão e durabilidade. Descrição do produto
O revestimento SiC do substrato de grafite para aplicações semicondutoras produz uma peça com pureza superior e resistência à atmosfera oxidante.
CVD SiC ou CVI SiC é aplicado ao grafite de peças de design simples ou complexo. O revestimento pode ser aplicado em diversas espessuras e em peças muito grandes.
A cerâmica técnica é uma escolha natural para aplicações de processamento térmico de semicondutores, incluindo RTP (Rapid Thermal Processing), Epi (Epitaxial), difusão, oxidação e recozimento. A CoorsTek fornece componentes de materiais avançados projetados especificamente para resistir a choques térmicos com desempenho de alta pureza, resistente e repetível para altas temperaturas
Características:
· Excelente resistência ao choque térmico
· Excelente resistência ao choque físico
· Excelente resistência química
· Pureza Super Alta
· Disponibilidade em formato complexo
· Utilizável sob atmosfera oxidante
aplicativo:
Um wafer precisa passar por diversas etapas antes de estar pronto para uso em dispositivos eletrônicos. Um processo importante é a epitaxia de silício, na qual os wafers são transportados em susceptores de grafite. As propriedades e a qualidade dos susceptores têm um efeito crucial na qualidade da camada epitaxial do wafer.
Propriedades típicas do material base de grafite:
Densidade Aparente: | 1,85g/cm3 |
Resistividade Elétrica: | 11 μΩm |
Força Flexural: | 49MPa (500kgf/cm2) |
Dureza Shore: | 58 |
Cinzas: | <5 ppm |
Condutividade Térmica: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
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