ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସେରାମିକ୍ସ: ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ସଠିକତା ଉପାଦାନ |

ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମୁଖ୍ୟତ sil ସିଲିକନ୍ ୱାଫର୍ ଉପରେ ସର୍କିଟ୍ s ାଞ୍ଚାଗୁଡ଼ିକୁ ପ୍ରକାଶ କରିବା ପାଇଁ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଥାଏ | ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସଠିକତା ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଅମଳ ଉପରେ ସିଧାସଳଖ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ଚିପ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଉପକରଣ ଭାବରେ, ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ରେ ଶହ ଶହ ହଜାର ଉପାଦାନ ରହିଥାଏ | ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ସିଷ୍ଟମ ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଉଭୟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପାଦାନ ଏବଂ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ସର୍କିଟ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ସଠିକତା ନିଶ୍ଚିତ କରିବାକୁ ଅତ୍ୟଧିକ ଉଚ୍ଚ ସଠିକତା ଆବଶ୍ୟକ କରେ |SiC ସେରାମିକ୍ସ |ରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି |ୱେଫର୍ ଚକ୍ଏବଂ ସିରାମିକ୍ ବର୍ଗ ଦର୍ପଣ |

ୱାଫର୍ ଚକ୍ |ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନରେ ଥିବା ୱେଫର୍ ଚକ୍ ଏକ୍ସପୋଜର୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ୱେଫର୍ ଚଳାଇଥାଏ | ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଥିବା pattern ାଞ୍ଚାକୁ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ନକଲ କରିବା ପାଇଁ ୱେଫର୍ ଏବଂ ଚକ୍ ମଧ୍ୟରେ ସଠିକ୍ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ଜରୁରୀ |SiC ୱାଫର୍ |ଠାକୁରମାନେ ସେମାନଙ୍କର ହାଲୁକା, ଉଚ୍ଚ ଆକାରର ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ନିମ୍ନ ତାପଜ ବିସ୍ତାର କୋଏଫିସିଣ୍ଟେଣ୍ଟ ପାଇଁ ଜଣାଶୁଣା, ଯାହା ନିଷ୍କ୍ରିୟ ଭାରକୁ ହ୍ରାସ କରିପାରେ ଏବଂ ଗତି ଦକ୍ଷତା, ସ୍ଥିତିର ସଠିକତା ଏବଂ ସ୍ଥିରତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ |

ସେରାମିକ୍ ବର୍ଗ ଦର୍ପଣ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନରେ, ୱେଫର୍ ଚକ୍ ଏବଂ ମାସ୍କ ଷ୍ଟେଜ୍ ମଧ୍ୟରେ ଗତି ସିଙ୍କ୍ରୋନାଇଜେସନ୍ ଅତ୍ୟନ୍ତ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ, ଯାହା ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ସଠିକତା ଏବଂ ଅମଳ ଉପରେ ସିଧାସଳଖ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ବର୍ଗ ପ୍ରତିଫଳକ ହେଉଛି ୱେଫର୍ ଚକ୍ ସ୍କାନିଂ ପୋଜିସନ୍ ଫିଡବ୍ୟାକ୍ ମାପ ସିଷ୍ଟମର ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଉପାଦାନ, ଏବଂ ଏହାର ସାମଗ୍ରୀକ ଆବଶ୍ୟକତା ହାଲୁକା ଏବଂ କଠୋର | ଯଦିଓ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସେରାମିକ୍ସରେ ଆଦର୍ଶ ହାଲୁକା ଗୁଣ ରହିଛି, ଏହିପରି ଉପାଦାନଗୁଡିକ ଉତ୍ପାଦନ କରିବା ଏକ ଚ୍ୟାଲେଞ୍ଜ ଅଟେ | ସମ୍ପ୍ରତି, ଅଗ୍ରଣୀ ଆନ୍ତର୍ଜାତୀୟ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉପକରଣ ନିର୍ମାତାମାନେ ମୁଖ୍ୟତ f ଫ୍ୟୁଜ୍ ସିଲିକା ଏବଂ କର୍ଡିଆରାଇଟ୍ ଭଳି ସାମଗ୍ରୀ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତି | ତଥାପି, ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଅଗ୍ରଗତି ସହିତ ଚାଇନାର ବିଶେଷଜ୍ଞମାନେ ବଡ଼ ଆକାରର, ଜଟିଳ ଆକୃତିର, ଅତ୍ୟଧିକ ହାଲୁକା, ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଆବଦ୍ଧ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସେରାମିକ୍ ବର୍ଗ ଦର୍ପଣ ଏବଂ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ପାଇଁ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଉତ୍ପାଦନ ହାସଲ କରିଛନ୍ତି | ଫୋଟୋମାସ୍କ, ଆପେଚର ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା, ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ ଉପରେ ଏକ pattern ାଞ୍ଚା ଗଠନ ପାଇଁ ମାସ୍କ ମାଧ୍ୟମରେ ଆଲୋକ ପଠାଇଥାଏ | ଅବଶ୍ୟ, ଯେତେବେଳେ EUV ଆଲୋକ ମାସ୍କକୁ ବିକିରଣ କରେ, ଏହା ଉତ୍ତାପ ନିର୍ଗତ କରେ, ତାପମାତ୍ରା 600 ରୁ 1000 ଡିଗ୍ରୀ ସେଲସିୟସକୁ ବୃଦ୍ଧି କରେ, ଯାହା ତାପଜାତୀୟ କ୍ଷତି ଘଟାଇପାରେ | ତେଣୁ, SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଏକ ସ୍ତର ସାଧାରଣତ the ଫୋଟୋମାସ୍କରେ ଜମା ହୋଇଥାଏ | ଫୋଟୋମାସ୍କ ବ୍ୟବହାର ସମୟରେ ସଫେଇ ଏବଂ ଯାଞ୍ଚକୁ ହ୍ରାସ କରିବା ଏବଂ EUV ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଉତ୍ପାଦ ଅମଳର ଉନ୍ନତି ପାଇଁ ASML ପରି ଅନେକ ବିଦେଶୀ କମ୍ପାନୀ ବର୍ତ୍ତମାନ 90% ରୁ ଅଧିକ ଟ୍ରାନ୍ସମିଟାନ୍ସ ସହିତ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରଦାନ କରୁଛନ୍ତି |

ପ୍ଲାଜ୍ମା ଏଚିଂଏବଂ ଡିପୋଜିଟନ୍ ଫୋଟୋମାସ୍କ, ଯାହା କ୍ରସ୍ ଚେୟାର ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା, ମାସ୍କ ମାଧ୍ୟମରେ ଆଲୋକ ବିସ୍ତାର କରିବା ଏବଂ ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ ଉପରେ ଏକ pattern ାଞ୍ଚା ଗଠନ କରିବାର ମୁଖ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟ | ଅବଶ୍ୟ, ଯେତେବେଳେ EUV (ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି) ଆଲୋକ ଫୋଟୋମାସ୍କକୁ ବିକିରଣ କରେ, ଏହା ଉତ୍ତାପ ନିର୍ଗତ କରେ, ତାପମାତ୍ରା 600 ରୁ 1000 ଡିଗ୍ରୀ ସେଲସିୟସକୁ ବୃଦ୍ଧି କରେ, ଯାହା ତାପଜ କ୍ଷତି ଘଟାଇପାରେ | ତେଣୁ ଏହି ସମସ୍ୟାକୁ ଦୂର କରିବା ପାଇଁ ସାଧାରଣତ the ଫୋଟୋମାସ୍କରେ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ (ସିସି) ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଏକ ସ୍ତର ଜମା ହୋଇଥାଏ | ବର୍ତ୍ତମାନ, ଫୋଟୋମାସ୍କ ବ୍ୟବହାର ସମୟରେ ସଫେଇ ଏବଂ ଯାଞ୍ଚର ଆବଶ୍ୟକତାକୁ ହ୍ରାସ କରିବା ପାଇଁ ASML ପରି ଅନେକ ବିଦେଶୀ କମ୍ପାନୀ 90% ରୁ ଅଧିକ ସ୍ୱଚ୍ଛତା ସହିତ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଯୋଗାଇବା ଆରମ୍ଭ କରିଛନ୍ତି, ଯାହା ଦ୍ EU ାରା EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଉତ୍ପାଦ ଅମଳର ଉନ୍ନତି ହେବ | । ପ୍ଲାଜ୍ମା ଏଚିଂ ଏବଂଜମା ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ୍ |ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନରେ, ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ତରଳ କିମ୍ବା ଗ୍ୟାସ୍ ଇଚାଣ୍ଟ ବ୍ୟବହାର କରେ (ଯେପରିକି ଫ୍ଲୋରାଇନ୍ ଧାରଣକାରୀ ଗ୍ୟାସ୍) ପ୍ଲାଜାରେ ଆୟନାଇଜଡ୍ ହୋଇ ୱେଫର୍ ଉପରେ ବୋମା ପକାଇବା ପାଇଁ ଏବଂ ଇଚ୍ଛାକୃତ ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ଉପରେ ନହେବା ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅବାଞ୍ଛିତ ସାମଗ୍ରୀକୁ ଅପସାରଣ କରିବା |ୱାଫର୍ଭୂପୃଷ୍ଠ | ଏହାର ବିପରୀତରେ, ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଡିପୋଜିସନ ଇଚିଂର ଓଲଟା ପାର୍ଶ୍ୱ ସହିତ ସମାନ, ଏକ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ ପାଇଁ ଧାତୁ ସ୍ତର ମଧ୍ୟରେ ଇନସୁଲେଟିଂ ସାମଗ୍ରୀକୁ ଷ୍ଟକ୍ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରି | ଯେହେତୁ ଉଭୟ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପ୍ଲାଜ୍ମା ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବ୍ୟବହାର କରେ, ସେଗୁଡ଼ିକ ଚାମ୍ବର ଏବଂ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ଉପରେ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ତେଣୁ, ଯନ୍ତ୍ରପାତି ଭିତରେ ଥିବା ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ଭଲ ପ୍ଲାଜମା ପ୍ରତିରୋଧ, ଫ୍ଲୋରାଇନ୍ ଏଚିଂ ଗ୍ୟାସ୍ ପ୍ରତି କମ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳତା ଏବଂ କମ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ରହିବା ଆବଶ୍ୟକ | ପାରମ୍ପାରିକ ଇଚିଂ ଏବଂ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ଯନ୍ତ୍ରପାତି ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ, ଯେପରିକି ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ୍, ସାଧାରଣତ sil ସିଲିକନ୍ କିମ୍ବା କ୍ୱାର୍ଟଜ୍ ପରି ସାମଗ୍ରୀରେ ତିଆରି | ତଥାପି, ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ମିନିଟ୍ରାଇଜେସନ୍ ର ଅଗ୍ରଗତି ସହିତ, ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଚାହିଦା ଏବଂ ଗୁରୁତ୍ୱ ବ increasing ୁଛି | ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ସ୍ତରରେ, ସଠିକ୍ ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ଇଚିଂ ଛୋଟ ଧାଡି ଓସାର ଏବଂ ଅଧିକ ଜଟିଳ ଉପକରଣ ସଂରଚନା ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ପ୍ଲାଜମା ଆବଶ୍ୟକ କରେ | ତେଣୁ, ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(CVD) ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ (SiC) ଧୀରେ ଧୀରେ ଏହାର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଶାରୀରିକ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଗୁଣ, ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା ଏବଂ ସମାନତା ସହିତ ଇଚିଂ ଏବଂ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ଉପକରଣ ପାଇଁ ପସନ୍ଦିତ ଆବରଣ ପଦାର୍ଥରେ ପରିଣତ ହୋଇଛି | ବର୍ତ୍ତମାନ, ଇଚିଂ ଉପକରଣରେ CVD ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ୍, ଗ୍ୟାସ୍ ସାୱାର ହେଡ୍, ଟ୍ରେ ଏବଂ ଏଜ୍ ରିଙ୍ଗ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | ଜମା ଉପକରଣରେ, ଚାମ୍ବର କଭର, ଚାମ୍ବର ଲାଇନ୍ର୍ ଏବଂ |SIC- ଆବୃତ ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |.

ଏହାର କମ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳତା ଏବଂ କ୍ଲୋରାଇନ୍ ଏବଂ ଫ୍ଲୋରାଇନ୍ ଇଚିଂ ଗ୍ୟାସ୍ ପାଇଁ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି,CVD ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ |ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଏକ ଆଦର୍ଶ ପଦାର୍ଥ ହୋଇପାରିଛି ଯେପରିକି ପ୍ଲାଜମା ଇଚିଂ ଉପକରଣରେ ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ୍ |CVD ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ |ଇଚିଂ ଉପକରଣରେ ଥିବା ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗ୍, ଗ୍ୟାସ୍ ସାୱାର ହେଡ୍, ଟ୍ରେ, ଏଜ୍ ରିଙ୍ଗ୍ ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗକୁ ଏକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ନିଅ, ସେଗୁଡ଼ିକ ୱେଫର୍ ବାହାରେ ଏବଂ ୱେଫର୍ ସହିତ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗରେ | ରିଙ୍ଗରେ ଭୋଲଟେଜ୍ ପ୍ରୟୋଗ କରି, ପ୍ଲାଜମା ରିଙ୍ଗର ମାଧ୍ୟମରେ ୱେଫର୍ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦିଆଯାଏ, ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସମାନତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ | ପାରମ୍ପାରିକ ଭାବରେ, ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗଗୁଡିକ ସିଲିକନ୍ କିମ୍ବା କ୍ୱାର୍ଟଜରେ ନିର୍ମିତ | ତଥାପି, ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ମିନିଟ୍ରାଇଜେସନ୍ ଅଗ୍ରଗତି କଲାବେଳେ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଚାହିଦା ଏବଂ ଗୁରୁତ୍ୱ ବ continues ିବାରେ ଲାଗିଛି | ପ୍ଲାଜ୍ମା ଇଚିଂ ଶକ୍ତି ଏବଂ ଶକ୍ତି ଆବଶ୍ୟକତା ବ rise ିବାରେ ଲାଗିଛି, ବିଶେଷକରି କ୍ୟାପସିଟିଭ୍ ଯୋଡି ହୋଇଥିବା ପ୍ଲାଜମା (CCP) ଇଚିଂ ଉପକରଣରେ, ଯାହା ଅଧିକ ପ୍ଲାଜମା ଶକ୍ତି ଆବଶ୍ୟକ କରେ | ଫଳସ୍ୱରୂପ, ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସାମଗ୍ରୀରେ ନିର୍ମିତ ଫୋକସ୍ ରିଙ୍ଗର ବ୍ୟବହାର ବୃଦ୍ଧି ପାଉଛି |