ତିନୋଟି ସାଧାରଣ CVD ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ପରିଚୟ |

ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​|(CVD)ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀ ଜମା କରିବା ପାଇଁ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି, ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ଇନସୁଲେଟିଂ ସାମଗ୍ରୀ, ଅଧିକାଂଶ ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଧାତୁ ମିଶ୍ରିତ ସାମଗ୍ରୀ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ |

CVD ଏକ ପାରମ୍ପାରିକ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତି ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା | ଏହାର ନୀତି ହେଉଛି ପରମାଣୁ ଏବଂ ଅଣୁ ମଧ୍ୟରେ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ପୂର୍ବର କିଛି ଉପାଦାନକୁ କ୍ଷୟ କରିବା ପାଇଁ ଗ୍ୟାସୀୟ ପୂର୍ବସୂତ୍ର ବ୍ୟବହାର କରିବା, ଏବଂ ତାପରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଏକ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ କରିବା | CVD ର ମ basic ଳିକ ବ are ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ହେଉଛି: ରାସାୟନିକ ପରିବର୍ତ୍ତନ (ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କିମ୍ବା ତାପଜ କ୍ଷୟ); ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ସମସ୍ତ ସାମଗ୍ରୀ ବାହ୍ୟ ଉତ୍ସରୁ ଆସିଥାଏ; ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକାରୀମାନେ ଗ୍ୟାସ୍ ଚରଣ ଆକାରରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାରେ ଅଂଶଗ୍ରହଣ କରିବା ଜରୁରୀ |

ନିମ୍ନ ଚାପର ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(LPCVD), ପ୍ଲାଜମା ବର୍ଦ୍ଧିତ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(PECVD) ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପ୍ଲାଜମା ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(HDP-CVD) ହେଉଛି ତିନୋଟି ସାଧାରଣ CVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା, ଯାହାର ସାମଗ୍ରୀ ସଂରକ୍ଷଣ, ଉପକରଣ ଆବଶ୍ୟକତା, ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅବସ୍ଥା ଇତ୍ୟାଦିରେ ବିଶେଷ ପାର୍ଥକ୍ୟ ଅଛି | ନିମ୍ନଲିଖିତ ହେଉଛି ଏହି ତିନୋଟି ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଏକ ସରଳ ବ୍ୟାଖ୍ୟା ଏବଂ ତୁଳନା |

LPCVD (ନିମ୍ନ ଚାପ CVD)

ନୀତି: ନିମ୍ନ ଚାପ ଅବସ୍ଥାରେ ଏକ CVD ପ୍ରକ୍ରିୟା | ଏହାର ନୀତି ହେଉଛି ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ କିମ୍ବା ନିମ୍ନ ଚାପ ପରିବେଶରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପ୍ରକୋଷ୍ଠରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସକୁ ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ ଦେବା, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗ୍ୟାସକୁ କ୍ଷୟ କରିବା କିମ୍ବା ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରିବା ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଏକ କଠିନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ କରିବା | ଯେହେତୁ ନିମ୍ନ ଚାପ ଗ୍ୟାସ୍ ଧକ୍କା ଏବଂ ଅଶାନ୍ତିରତା ହ୍ରାସ କରେ, ଫିଲ୍ମର ସମାନତା ଏବଂ ଗୁଣରେ ଉନ୍ନତି ହୁଏ | ସିଲିକନ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ (LTO TEOS), ସିଲିକନ୍ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ (Si3N4), ପଲିସିଲିକନ୍ (POLY), ଫସଫୋସିଲିକେଟ୍ ଗ୍ଲାସ୍ (BSG), ବୋରୋଫୋସଫୋସିଲିକେଟ୍ ଗ୍ଲାସ୍ (BPSG), ଡୋପେଡ୍ ପଲିସିଲିକନ୍, ଗ୍ରାଫେନ୍, କାର୍ବନ ନାନୋଟ୍ୟୁବ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରରେ LPCVD ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

▪ ପ୍ରକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରା: ସାଧାରଣତ 500 500 ~ 900 ° C ମଧ୍ୟରେ, ପ୍ରକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରା ଅପେକ୍ଷାକୃତ ଅଧିକ;
▪ ଗ୍ୟାସ ଚାପ ପରିସର: 0.1 ~ 10 ଟୋରର ନିମ୍ନ ଚାପ ପରିବେଶ;
▪ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣ: ଉଚ୍ଚ ଗୁଣ, ଭଲ ସମାନତା, ଭଲ ଘନତା, ଏବଂ ଅଳ୍ପ ତ୍ରୁଟି;
▪ ଜମା ହାର: ଧୀର ଜମା ହାର;
Iform ସମାନତା: ବଡ଼ ଆକାରର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍, ୟୁନିଫର୍ମ ଜମା ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ;

ସୁବିଧା ଏବଂ ଅସୁବିଧା:

Very ଅତ୍ୟଧିକ ୟୁନିଫର୍ମ ଏବଂ ଘନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିପାରିବ;
Mass ବୃହତ ଆକାରର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଭଲ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରେ, ବହୁ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ;
▪ କମ୍ ମୂଲ୍ୟ;
▪ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା, ଉତ୍ତାପ ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ନୁହେଁ;
Osition ଜମା ହାର ଧୀର ଏବଂ ଆଉଟପୁଟ୍ ଅପେକ୍ଷାକୃତ କମ୍ ଅଟେ |

2। PECVD (ପ୍ଲାଜମା ବର୍ଦ୍ଧିତ CVD)

ନୀତି: ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗ୍ୟାସ୍ ଚରଣ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ସକ୍ରିୟ କରିବା ପାଇଁ ପ୍ଲାଜମା ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ, ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସରେ ଥିବା ଅଣୁଗୁଡିକୁ ଆୟନାଇଜ୍ କରନ୍ତୁ ଏବଂ ତାପରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରନ୍ତୁ | ପ୍ଲାଜାର ଶକ୍ତି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ତାପମାତ୍ରାକୁ ବହୁ ମାତ୍ରାରେ ହ୍ରାସ କରିପାରେ ଏବଂ ଏହାର ବ୍ୟାପକ ପ୍ରୟୋଗ ଅଛି | ବିଭିନ୍ନ ଧାତୁ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର, ଅଜ ic ବିକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଏବଂ ଜ organic ବିକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇପାରେ |

ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

▪ ପ୍ରକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରା: ସାଧାରଣତ 200 200 ~ 400 ° C ମଧ୍ୟରେ, ତାପମାତ୍ରା ଅପେକ୍ଷାକୃତ କମ୍;
▪ ଗ୍ୟାସ୍ ଚାପ ପରିସର: ସାଧାରଣତ hundreds ଶହ ଶହ mTorr ରୁ ଅନେକ Torr;
▪ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣବତ୍ତା: ଯଦିଓ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ସମାନତା ଭଲ, ପ୍ଲାଜମା ଦ୍ introduced ାରା ପ୍ରବର୍ତ୍ତିତ ତ୍ରୁଟି ହେତୁ ଫିଲ୍ମର ଘନତା ଏବଂ ଗୁଣ LPCVD ପରି ଭଲ ନୁହେଁ;
▪ ଜମା ହାର: ଉଚ୍ଚ ହାର, ଉଚ୍ଚ ଉତ୍ପାଦନ ଦକ୍ଷତା;
Iform ସମାନତା: ବଡ଼ ଆକାରର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ LPCVD ଠାରୁ ସାମାନ୍ୟ କମ୍;

ସୁବିଧା ଏବଂ ଅସୁବିଧା:

▪ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାରେ ଜମା ହୋଇପାରେ, ଉତ୍ତାପ ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ;
ଦକ୍ଷ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ଦ୍ରୁତ ଜମା ଗତି;
▪ ନମନୀୟ ପ୍ରକ୍ରିୟା, ପ୍ଲାଜମା ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ସଜାଡି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣଗୁଡିକ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ହୋଇପାରିବ |
▪ ପ୍ଲାଜମା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ତ୍ରୁଟିଗୁଡିକ ଯେପରିକି ପିନ୍ହୋଲ୍ କିମ୍ବା ଅଣ ସମାନତା ପରି ପରିଚିତ କରିପାରେ;
L LPCVD ସହିତ ତୁଳନା କଲେ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା ଏବଂ ଗୁଣ ସାମାନ୍ୟ ଖରାପ |

3। HDP-CVD (ଉଚ୍ଚ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପ୍ଲାଜମା CVD)

ନୀତି: ଏକ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର PECVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା | HDP-CVD (ICP-CVD ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା) ନିମ୍ନ ଜମା ତାପମାତ୍ରାରେ ପାରମ୍ପାରିକ PECVD ଉପକରଣ ଅପେକ୍ଷା ଅଧିକ ପ୍ଲାଜମା ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ଗୁଣ ଉତ୍ପାଦନ କରିପାରିବ | ଏଥିସହ, HDP-CVD ପ୍ରାୟ ସ୍ independent ାଧୀନ ଆୟନ ଫ୍ଲକ୍ସ ଏବଂ ଶକ୍ତି ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରଦାନ କରିଥାଏ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିବା ପାଇଁ ଟ୍ରେଞ୍ଚ କିମ୍ବା ଗାତ ଭରିବା କ୍ଷମତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ, ଯେପରିକି ଆଣ୍ଟି-ପ୍ରତିଫଳିତ ଆବରଣ, ନିମ୍ନ ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ସ୍ଥିର ପଦାର୍ଥ ଜମା ଇତ୍ୟାଦି |

ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

Temperature ପ୍ରକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରା: କୋଠାର ତାପମାତ୍ରା 300 to, ପ୍ରକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରା ବହୁତ କମ୍;
▪ ଗ୍ୟାସ୍ ଚାପ ପରିସର: 1 ରୁ 100 mTorr ମଧ୍ୟରେ, PECVD ଠାରୁ କମ୍;
▪ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣ: ଉଚ୍ଚ ପ୍ଲାଜମା ସାନ୍ଦ୍ରତା, ଉଚ୍ଚ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣ, ଭଲ ସମାନତା;
Osition ଜମା ହାର: LPCVD ଏବଂ PECVD ମଧ୍ୟରେ ଜମା ହାର, LPCVD ଠାରୁ ସାମାନ୍ୟ ଅଧିକ;
Iform ସମାନତା: ଉଚ୍ଚ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପ୍ଲାଜମା ହେତୁ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସମାନତା ଉତ୍କୃଷ୍ଟ, ଜଟିଳ ଆକୃତିର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ;

ସୁବିଧା ଏବଂ ଅସୁବିଧା:

Low ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାରେ ଉଚ୍ଚମାନର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିବାରେ ସକ୍ଷମ, ଉତ୍ତାପ ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଅତ୍ୟନ୍ତ ଉପଯୁକ୍ତ;
Film ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସମାନତା, ଘନତା ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠ ସୁଗମତା;
▪ ଉଚ୍ଚ ପ୍ଲାଜ୍ମା ସାନ୍ଧ୍ରତା ଜମା ଏକତା ଏବଂ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣେ;
Equipment ଜଟିଳ ଉପକରଣ ଏବଂ ଅଧିକ ମୂଲ୍ୟ;
ଜମା ଗତି ଧୀର, ଏବଂ ଅଧିକ ପ୍ଲାଜମା ଶକ୍ତି ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର କ୍ଷତି ଘଟାଇପାରେ |

ପରବର୍ତ୍ତୀ ଆଲୋଚନା ପାଇଁ ଆମକୁ ପରିଦର୍ଶନ କରିବାକୁ ବିଶ୍ world ର ବିଭିନ୍ନ ଗ୍ରାହକଙ୍କୁ ସ୍ୱାଗତ!

https://www.vet-china.com/

https://www.facebook.com/people/Ningbo-Miami-Advanced-Material-Technology-Co-Ltd/100085673110923/

https://www.linkedin.com/company/100890232/admin/page-posts/published/

https://www.youtube.com/@user-oo9nl2qp6j