ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ CVD ଆବରଣର ପ୍ରୟୋଗ ଏବଂ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ |

ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ (SiC)ଏହାର ଉଚ୍ଚ କଠିନତା, ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ଚାଳନା, ଏବଂ ରାସାୟନିକ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ ପାଇଁ ଜଣାଶୁଣା ଏକ ଅତ୍ୟନ୍ତ ସ୍ଥାୟୀ ପଦାର୍ଥ | ପୃଷ୍ଠଭୂମିରେ SiC ପ୍ରୟୋଗ କରିବାର ବିଭିନ୍ନ ପଦ୍ଧତି ମଧ୍ୟରେ,CVD SiC ଆବରଣ |(ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ର କେମିକାଲ୍ ବାଷ୍ପ ଡିପୋଜିସନ୍) ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଆଡିଶିନ୍ ସହିତ ୟୁନିଫର୍ମ, ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା ଆବରଣ ସୃଷ୍ଟି କରିବାର କ୍ଷମତା ହେତୁ ଛିଡା ହୋଇଛି | ବିଶେଷକରି ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ କଠିନ ରାସାୟନିକ ପରିବେଶରେ ଶିଳ୍ପ ପ୍ରୟୋଗର ବ୍ୟାପକ ପରିସର ପାଇଁ ଏହି ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |

CVD SiC ଆବରଣର ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ |

TheCVD SiC ଆବରଣ |ଏହାର ବହୁମୁଖୀତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଲାଭ ହେତୁ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବିଭିନ୍ନ ଶିଳ୍ପରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ପ୍ରାଥମିକ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ହେଉଛି ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନରେ, ଯେଉଁଠାରେ SiC- ଆବୃତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ୱେଫର୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ସମୟରେ ସୂକ୍ଷ୍ମ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକୁ ସୁରକ୍ଷା କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରିଥାଏ | CVD SiC- ଆବୃତ ଯନ୍ତ୍ର ଯେପରିକି ସସେପ୍ଟର, ରିଙ୍ଗ, ଏବଂ ୱେଫର୍ ବାହକ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାର ସ୍ଥିରତାକୁ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ ଏବଂ ଜଟିଳ ଉତ୍ପାଦନ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ପ୍ରଦୂଷଣକୁ ରୋକିଥାଏ |

ଏରୋସ୍ପେସ୍ ଶିଳ୍ପରେ,CVD SiC ଆବରଣ |ଅତ୍ୟଧିକ ଉତ୍ତାପ ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଚାପର ସମ୍ମୁଖୀନ ହୋଇଥିବା ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ | ଏହି ଆବରଣ ଟର୍ବବାଇନ୍ ବ୍ଲେଡ୍ ଏବଂ ଜାଳେଣୀ ଚାମ୍ବରର ଜୀବନକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ବିସ୍ତାର କରିଥାଏ, ଯାହା କଠିନ ପରିସ୍ଥିତିରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ | ଅତିରିକ୍ତ ଭାବରେ, ପ୍ରତିଫଳିତ ଏବଂ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଗୁଣ ଯୋଗୁଁ ଦର୍ପଣ ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପକରଣ ଉତ୍ପାଦନରେ CVD SiC ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

CVD SiC ର ଅନ୍ୟ ଏକ ପ୍ରମୁଖ ପ୍ରୟୋଗ ହେଉଛି ରାସାୟନିକ ଶିଳ୍ପରେ | ଏଠାରେ, ସିସି ଆବରଣଗୁଡିକ ଉତ୍ତାପ ଏକ୍ସଚେଞ୍ଜର, ସିଲ୍ ଏବଂ ପମ୍ପ ଭଳି ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ କ୍ଷତିକାରକ ପଦାର୍ଥରୁ ରକ୍ଷା କରିଥାଏ | SiC ଭୂପୃଷ୍ଠ ଏସିଡ୍ ଏବଂ ବେସ୍ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରଭାବିତ ହୋଇନଥାଏ, ଏହା ପରିବେଶ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ ଯେଉଁଠାରେ ରାସାୟନିକ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଜରୁରୀ |

ବ୍ୟାରେଲ ରିଆକ୍ଟରରେ CVD Epitaxial Deposition |

CVD SiC ଆବରଣର ଗୁଣ |

CVD SiC ଆବରଣର ଗୁଣ ହେଉଛି ଏହି ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକରେ ଏହାକୁ ଅଧିକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ କରିଥାଏ | ଏହାର ମୁଖ୍ୟ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ହେଉଛି ଏହାର କଠିନତା, ମୋହର କଠିନତା ସ୍କେଲରେ ହୀରାର ନିକଟତର | ଏହି ଅତ୍ୟଧିକ କଠିନତା CVD SiC ଆବରଣକୁ ପିନ୍ଧିବା ଏବଂ ଘୃଣା କରିବା ପାଇଁ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ପ୍ରତିରୋଧ ଦେଇଥାଏ, ଯାହା ସେମାନଙ୍କୁ ଉଚ୍ଚ-ଘର୍ଷଣ ପରିବେଶ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ କରିଥାଏ |

ଅତିରିକ୍ତ ଭାବରେ, SiC ର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ଚାଳନା ଅଛି, ଯାହାକି ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ମଧ୍ୟ ଅଖଣ୍ଡତା ବଜାୟ ରଖିବା ପାଇଁ ଆବୃତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ ଅନୁମତି ଦେଇଥାଏ | ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଏବଂ ଏରୋସ୍ପେସ୍ ପ୍ରୟୋଗରେ ଏହା ବିଶେଷ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ, ଯେଉଁଠାରେ ଗଠନମୂଳକ ଶକ୍ତି ସଂରକ୍ଷଣ କରିବା ସମୟରେ ସାମଗ୍ରୀ ଅତ୍ୟଧିକ ଉତ୍ତାପକୁ ସହ୍ୟ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ |

CVD SiC ଆବରଣର ରାସାୟନିକ ନିଷ୍କ୍ରିୟତା ହେଉଛି ଅନ୍ୟ ଏକ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ସୁବିଧା | ଏହା ଆକ୍ରମଣାତ୍ମକ ପଦାର୍ଥ ସହିତ ଅକ୍ସିଡେସନ୍, କ୍ଷୟ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରେ, ଏହାକୁ ରାସାୟନିକ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଉପକରଣ ପାଇଁ ଏକ ଆଦର୍ଶ ଆବରଣ କରିଥାଏ | ଅଧିକନ୍ତୁ, ତାପଜ ବିସ୍ତାରର ଏହାର ନିମ୍ନ କୋଏଫିସିଏଣ୍ଟ୍ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ ଯେ ଆବୃତ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକ ଥର୍ମାଲ୍ ସାଇକ୍ଲିଂ ଅବସ୍ଥାରେ ମଧ୍ୟ ସେମାନଙ୍କର ଆକୃତି ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟ ବଜାୟ ରଖେ |

ସିଦ୍ଧାନ୍ତ

ସଂକ୍ଷେପରେ, ଶିଳ୍ପଗୁଡିକ ପାଇଁ CVD SiC ଆବରଣ ଏକ ସ୍ଥାୟୀ, ଉଚ୍ଚ-କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ ଯାହା ଅତ୍ୟଧିକ ଉତ୍ତାପ, ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଚାପ ଏବଂ ରାସାୟନିକ କ୍ଷୟକୁ ସହ୍ୟ କରିପାରିବ | ଏହାର ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନ ଠାରୁ ଆରମ୍ଭ କରି ଏରୋସ୍ପେସ୍ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ, ଯେଉଁଠାରେ SiC ର ଗୁଣ ଯେପରିକି କଠିନତା, ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିରୋଧ - କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ସଫଳତା ପାଇଁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ | ଯେହେତୁ ଶିଳ୍ପଗୁଡିକ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟତାର ସୀମାକୁ ଆଗକୁ ବ continue ଼ାଉଛନ୍ତି, ଉପାଦାନର ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଏବଂ ଦୀର୍ଘାୟୁତା ବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ CVD SiC ଆବରଣ ଏକ ପ୍ରମୁଖ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ହୋଇ ରହିବ |

ଭେଟ-ଚାଇନା ପରି ବିଶେଷଜ୍ଞ ଉତ୍ପାଦକଙ୍କ ଅଭିଜ୍ଞତାକୁ ବ୍ୟବହାର କରି କମ୍ପାନୀଗୁଡିକ ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣାତ୍ମକ CVD SiC ଆବରଣ ହାସଲ କରିପାରିବେ ଯାହା ଆଧୁନିକ ଶିଳ୍ପ ପ୍ରକ୍ରିୟାର କଠୋର ଚାହିଦା ପୂରଣ କରେ |


ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଡିସେମ୍ବର -18-2023 |
ହ୍ ats ାଟସ୍ ଆପ୍ ଅନଲାଇନ୍ ଚାଟ୍!