ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଡିପୋଜିସନ ହେଉଛି ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟରର ମୁଖ୍ୟ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଫିଲ୍ମର ଏକ ସ୍ତର ଆବରଣ କରିବା | ଏହି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଟି ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀରେ ତିଆରି ହୋଇପାରିବ, ଯେପରିକି ଇନସୁଲେଟିଂ ଯ ound ଗିକ ସିଲିକନ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍, ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପଲିସିଲିକନ୍, ଧାତୁ ତମ୍ବା ଇତ୍ୟାଦି | ଆବରଣ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଯନ୍ତ୍ରପାତିକୁ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା ଉପକରଣ କୁହାଯାଏ |
ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଚିପ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଦୃଷ୍ଟିକୋଣରୁ, ଏହା ଫ୍ରଣ୍ଟ-ଏଣ୍ଡ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଅବସ୍ଥିତ |
ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତି ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ଏହାର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ ପଦ୍ଧତି ଅନୁଯାୟୀ ଦୁଇଟି ଶ୍ରେଣୀରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ: ଶାରୀରିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (PVD) ଏବଂ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା |(CVD), ଯେଉଁଥିରେ CVD ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ଅଧିକ ଅନୁପାତରେ ରହିଥାଏ |
ଶାରୀରିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (PVD) ପଦାର୍ଥ ଉତ୍ସର ବାଷ୍ପୀକରଣ ଏବଂ ନିମ୍ନ ଚାପର ଗ୍ୟାସ୍ / ପ୍ଲାଜମା ମାଧ୍ୟମରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମାକୁ ବୁ refers ାଏ, ବାଷ୍ପୀକରଣ, ସ୍ପୁଟର୍, ଆୟନ ବିମ୍ ଇତ୍ୟାଦି;
ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (CVD) ଗ୍ୟାସ ମିଶ୍ରଣର ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ କଠିନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ସୂଚିତ କରେ | ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଅବସ୍ଥା (ଚାପ, ପୂର୍ବବର୍ତ୍ତୀ) ଅନୁଯାୟୀ, ଏହାକୁ ବାୟୁମଣ୍ଡଳୀୟ ଚାପରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇଛି |CVD(APCVD), ନିମ୍ନ ଚାପ |CVD(LPCVD), ପ୍ଲାଜମା ବର୍ଦ୍ଧିତ CVD (PECVD), ଉଚ୍ଚ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପ୍ଲାଜମା CVD (HDPCVD) ଏବଂ ପରମାଣୁ ସ୍ତର ଜମା (ALD) |
LPCVD: LPCVD ର ଉନ୍ନତ ଷ୍ଟେପ୍ କଭରେଜ୍ କ୍ଷମତା, ଭଲ ରଚନା ଏବଂ ସଂରଚନା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ, ଉଚ୍ଚ ଜମା ହାର ଏବଂ ଆଉଟପୁଟ୍ ଅଛି ଏବଂ କଣିକା ପ୍ରଦୂଷଣର ଉତ୍ସକୁ ବହୁ ମାତ୍ରାରେ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ | ପ୍ରତିକ୍ରିୟା, ତାପମାତ୍ରା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ଏବଂ ଗ୍ୟାସ୍ ଚାପକୁ ବଜାୟ ରଖିବା ପାଇଁ ଉତ୍ତାପ ଉତ୍ସ ଭାବରେ ଉତ୍ତାପ ଉପକରଣ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରିବା ଅତ୍ୟନ୍ତ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ | ଟପ୍କନ୍ କୋଷଗୁଡ଼ିକର ପଲି ସ୍ତର ଉତ୍ପାଦନରେ ବ୍ୟାପକ ବ୍ୟବହୃତ |
PECVD: ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା ପ୍ରକ୍ରିୟାର ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା (450 ଡିଗ୍ରୀରୁ କମ୍) ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ PECVD ରେଡିଓ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ଇନଡକ୍ସନ୍ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ପନ୍ନ ପ୍ଲାଜମା ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ | ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ଜମା ହେଉଛି ଏହାର ମୁଖ୍ୟ ସୁବିଧା, ଯାହା ଦ୍ energy ାରା ଶକ୍ତି ସଞ୍ଚୟ, ଖର୍ଚ୍ଚ ହ୍ରାସ, ଉତ୍ପାଦନ କ୍ଷମତା ବୃଦ୍ଧି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଦ୍ caused ାରା ସିଲିକନ୍ ୱାଫର୍ରେ ସଂଖ୍ୟାଲଘୁ ପରିବହନକାରୀଙ୍କ ଜୀବନକାଳ କ୍ଷୟ କମିଯାଏ। ଏହା ବିଭିନ୍ନ କୋଷଗୁଡ଼ିକର ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇପାରିବ ଯେପରିକି PERC, TOPCON, ଏବଂ HJT |
ALD: ଭଲ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସମାନତା, ଘନ ଏବଂ ବିନା ଛିଦ୍ର, ଭଲ ଷ୍ଟେପ୍ କଭରେଜ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ, ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାରେ (ରୁମ୍ ତାପମାତ୍ରା -400 be) କରାଯାଇପାରିବ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତାକୁ ସରଳ ଏବଂ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିପାରିବ, ବିଭିନ୍ନ ଆକୃତିର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପାଇଁ ବ୍ୟାପକ ପ୍ରଯୁଜ୍ୟ, ଏବଂ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ପ୍ରବାହର ସମାନତାକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବାର ଆବଶ୍ୟକତା ନାହିଁ | କିନ୍ତୁ ଅସୁବିଧା ହେଉଛି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ ବେଗ ଧୀର ଅଟେ | ଯେପରିକି ଜିଙ୍କ ସଲଫାଇଡ୍ (ZnS) ଆଲୋକ-ନିର୍ଗତ ସ୍ତର ନାନୋଷ୍ଟ୍ରକଚର ଇନସୁଲେଟର (Al2O3 / TiO2) ଏବଂ ପତଳା-ଫିଲ୍ମ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଲୁମାଇସେଣ୍ଟ ପ୍ରଦର୍ଶନ (TFEL) ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ପରମାଣୁ ସ୍ତର ଜମା (ALD) ହେଉଛି ଏକ ଶୂନ୍ୟ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯାହା ଏକ ପରମାଣୁ ସ୍ତର ଆକାରରେ ଏକ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସ୍ତରର ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସୃଷ୍ଟି କରେ | 1974 ମସିହାରୁ, ଫିନଲ୍ୟାଣ୍ଡର ପଦାର୍ଥ ପଦାର୍ଥ ବିଜ୍ଞାନୀ ଟୁମୋ ସୁଣ୍ଟୋଲା ଏହି ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ବିକାଶ କରିଥିଲେ ଏବଂ 1 ମିଲିୟନ୍ ୟୁରୋ ମିଲେନିୟମ୍ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ପୁରସ୍କାର ଲାଭ କରିଥିଲେ | ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମୂଳତ flat ଫ୍ଲାଟ-ପ୍ୟାନେଲ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଲୁମାଇସେଣ୍ଟ ପ୍ରଦର୍ଶନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା, କିନ୍ତୁ ଏହା ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇନଥିଲା | ଏକବିଂଶ ଶତାବ୍ଦୀର ଆରମ୍ଭ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପ ଦ୍ୱାରା ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଗ୍ରହଣ କରିବାକୁ ଲାଗିଲା | ପାରମ୍ପାରିକ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ବଦଳାଇବା ପାଇଁ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ପତଳା ଉଚ୍ଚ-ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଉତ୍ପାଦନ କରି, ଏହା ଫିଲ୍ଡ ଇଫେକ୍ଟ ଟ୍ରାନଜିଷ୍ଟରର ଲାଇନ୍ ଓସାର ହ୍ରାସ ହେତୁ ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ଲିକେଜ୍ ସାମ୍ପ୍ରତିକ ସମସ୍ୟାର ସଫଳତାର ସହିତ ସମାଧାନ କଲା, ମୋର୍ ନିୟମକୁ ଛୋଟ ଧାଡି ପ୍ରସ୍ଥ ଆଡକୁ ଆହୁରି ବିକାଶ କରିବାକୁ କହିଲା | ଡକ୍ଟର ଟୁମୋ ସୁଣ୍ଟୋଲା ଥରେ କହିଥିଲେ ଯେ ALD ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଏକୀକରଣ ଘନତାକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ |
ସାର୍ବଜନୀନ ତଥ୍ୟ ଦର୍ଶାଏ ଯେ 1974 ରେ ଫିନଲ୍ୟାଣ୍ଡର PICOSUN ର ଡକ୍ଟର ଟୁମୋ ସୁଣ୍ଟୋଲାଙ୍କ ଦ୍ AL ାରା ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଉଦ୍ଭାବନ କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ଇଣ୍ଟେଲ ଦ୍ developed ାରା ବିକଶିତ 45/32 ନାନୋମିଟର ଚିପରେ ଉଚ୍ଚ ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପରି ବିଦେଶରେ ଶିଳ୍ପାୟନ କରାଯାଇଥିଲା। ଚାଇନାରେ, ମୋ ଦେଶ ବିଦେଶୀ ଦେଶ ଅପେକ୍ଷା 30 ବର୍ଷରୁ ଅଧିକ ସମୟ ପରେ ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ କଲା | ଅକ୍ଟୋବର 2010 ରେ, ଫିନଲ୍ୟାଣ୍ଡ ଏବଂ ଫୁଡାନ୍ ୟୁନିଭରସିଟିରେ PICOSUN ପ୍ରଥମ ଘରୋଇ ALD ଏକାଡେମିକ୍ ବିନିମୟ ବ meeting ଠକ ଆୟୋଜନ କରି ପ୍ରଥମ ଥର ପାଇଁ ଚାଇନାକୁ ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ପରିଚୟ ଦେଲା |
ପାରମ୍ପାରିକ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ସହିତ ତୁଳନା କଲେ (CVD) ଏବଂ ଶାରୀରିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (PVD), ALD ର ସୁବିଧାଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତ୍ରି-ଦିଗୀୟ ସମାନତା, ବୃହତ କ୍ଷେତ୍ର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସମାନତା, ଏବଂ ସଠିକ୍ ଘନତା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ, ଯାହା ଜଟିଳ ପୃଷ୍ଠ ଆକୃତି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଦିଗ ଅନୁପାତ ସଂରଚନାରେ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ |
- ଡାଟା ଉତ୍ସ: Tsinghua ବିଶ୍ୱବିଦ୍ୟାଳୟର ମାଇକ୍ରୋ-ନାନୋ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପ୍ଲାଟଫର୍ମ-
ମୋର୍ ପରବର୍ତ୍ତୀ ଯୁଗରେ, ୱେଫର୍ ଉତ୍ପାଦନର ଜଟିଳତା ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପରିମାଣ ବହୁତ ଉନ୍ନତ ହୋଇଛି | ଏକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ଲଜିକ୍ ଚିପ୍ସ ଗ୍ରହଣ କରିବା, 45nm ତଳେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସହିତ ଉତ୍ପାଦନ ଲାଇନ ସଂଖ୍ୟା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ, ବିଶେଷତ 28 28nm ଏବଂ ତଳର ପ୍ରକ୍ରିୟା ସହିତ ଉତ୍ପାଦନ ରେଖା, ଆବରଣର ଘନତା ଏବଂ ସଠିକତା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକତା ଅଧିକ | ଏକାଧିକ ଏକ୍ସପୋଜର ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ପରିଚୟ ପରେ, ALD ପ୍ରକ୍ରିୟା ପଦକ୍ଷେପ ଏବଂ ଆବଶ୍ୟକ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ସଂଖ୍ୟା ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଛି; ମେମୋରୀ ଚିପ୍ସ କ୍ଷେତ୍ରରେ, ମୁଖ୍ୟ ସ୍ରୋତ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା 2D NAND ରୁ 3D NAND ସଂରଚନାକୁ ବିକଶିତ ହୋଇଛି, ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ସ୍ତର ସଂଖ୍ୟା ବ continued ିବାରେ ଲାଗିଛି ଏବଂ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ଧୀରେ ଧୀରେ ଉଚ୍ଚ-ସାନ୍ଦ୍ରତା, ଉଚ୍ଚ ଦିଗ ଅନୁପାତ ସଂରଚନା ଏବଂ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଉପସ୍ଥାପନ କରିଛନ୍ତି | ALD ର ଉତ୍ପତ୍ତି ଆରମ୍ଭ ହୋଇଛି | ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟରର ଭବିଷ୍ୟତର ବିକାଶ ଦୃଷ୍ଟିକୋଣରୁ, ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମୋର୍ ପରବର୍ତ୍ତୀ ଯୁଗରେ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରିବ |
ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ALD ହେଉଛି ଏକମାତ୍ର ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଯାହା ଜଟିଳ 3D ଷ୍ଟାକ୍ଡ୍ ଷ୍ଟ୍ରକଚରଗୁଡିକର କଭରେଜ୍ ଏବଂ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରଦର୍ଶନ ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିପାରିବ (ଯେପରିକି 3D-NAND) | ଏହା ନିମ୍ନ ଚିତ୍ରରେ ସ୍ପଷ୍ଟ ଭାବରେ ଦେଖାଯାଏ | CVD A (ନୀଳ) ରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଟି ଗଠନର ନିମ୍ନ ଭାଗକୁ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବେ ଆଚ୍ଛାଦନ କରେ ନାହିଁ; କଭରେଜ ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ଯଦିଓ CVD (CVD B) ରେ କିଛି ପ୍ରକ୍ରିୟା ସଂଶୋଧନ କରାଯାଇଥାଏ, ତଳ ଅଞ୍ଚଳର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରଦର୍ଶନ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ରଚନା ଅତ୍ୟନ୍ତ ଖରାପ (ଚିତ୍ରରେ ଧଳା ଅଞ୍ଚଳ); ଏହାର ବିପରୀତରେ, ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ବ୍ୟବହାର ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର କଭରେଜ୍ ଦେଖାଏ, ଏବଂ structure ାଞ୍ଚାର ସମସ୍ତ କ୍ଷେତ୍ରରେ ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣାତ୍ମକ ଏବଂ ସମାନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗୁଣ ହାସଲ ହୁଏ |
—- CVD ତୁଳନାରେ ALD ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଚିତ୍ର ଉପକାରିତା (ଉତ୍ସ: ASM) —-
ଯଦିଓ CVD ସ୍ୱଳ୍ପ ସମୟ ମଧ୍ୟରେ ସର୍ବ ବୃହତ ବଜାର ଅଂଶ ଦଖଲ କରିଛି, ALD ୱେଫର୍ ଫାବ୍ ଉପକରଣ ବଜାରର ଦ୍ରୁତତମ ବୃଦ୍ଧି ପାଉଥିବା ଅଂଶ ହୋଇପାରିଛି | ବୃହତ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ସମ୍ଭାବନା ଏବଂ ଚିପ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଭୂମିକା ସହିତ ଏହି ALD ବଜାରରେ, ASM ALD ଯନ୍ତ୍ରପାତି କ୍ଷେତ୍ରରେ ଏକ ଅଗ୍ରଣୀ କମ୍ପାନୀ |
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁନ୍ -12-2024 |