Wanneer het sperma naarzakelijk nieuws, het begrijpen van de complexiteit van de fabricage van halfgeleiders is noodzaak. halfgeleiderwafels zijn een cruciaal onderdeel in deze industrie, maar worden vaak geconfronteerd met verontreiniging door allerlei onzuiverheden. Deze verontreinigingen, waaronder atomen, organisch materiaal, metaalelementionen en oxiden, kunnen de fabricageprocedure beïnvloeden.
Deeltjeszoals polymeer en etsonzuiverheid vertrouwen op intermoleculaire kracht om op het oppervlak van de wafel te adsorberen, beïnvloeden de fotolithografie van het apparaat.organische onzuiverhedenzoals homohuidolie en machineolie die op de wafer worden gevormd, belemmeren het reinigen.metaalelementionenzoals ijzer en aluminium worden vaak verwijderd door de vorming van een metaalionencomplex.Oxidenbelemmeren de fabricageprocedure en worden doorgaans verwijderd door weken in verdund fluorwaterstofzuur.
chemische methodenworden vaak gebruikt om halfgeleiderwafels schoon te maken en te schokken. vochtchemische reinigingstechnieken zoals onderdompeling in oplossing en mechanisch schrobben hebben de overhand. supersonische en megasonische reinigingsmethoden bieden efficiënte manieren om onzuiverheden te verwijderen. droge chemische reiniging, waaronder plasma- en gasfasetechnologie, speelt ook een functie bij het reinigen van halfgeleiderwafels.
Posttijd: 29 oktober 2024