वाष्प चरण एपिटेक्सीको लागि सामान्यतया प्रयोग हुने पेडेस्टलहरू

वाष्प चरण एपिटेक्सी (VPE) प्रक्रियाको क्रममा, पेडेस्टलको भूमिका सब्सट्रेटलाई समर्थन गर्नु र वृद्धि प्रक्रियाको क्रममा समान तताउने सुनिश्चित गर्नु हो। विभिन्न प्रकारका पेडेस्टलहरू विभिन्न विकास अवस्था र भौतिक प्रणालीहरूको लागि उपयुक्त छन्। वाष्प चरणमा सामान्यतया प्रयोग हुने पेडेस्टल प्रकारहरू निम्न हुन्epitaxy:

१
ब्यारेल पेडेस्टल

ब्यारेल पेडेस्टलहरू सामान्यतया तेर्सो वा झुकाव वाष्प चरण एपिटेक्सी प्रणालीहरूमा प्रयोग गरिन्छ। तिनीहरूले सब्सट्रेट समात्न सक्छन् र ग्यासलाई सब्सट्रेटमा प्रवाह गर्न अनुमति दिन्छ, जसले समान एपिटेक्सियल वृद्धि हासिल गर्न मद्दत गर्दछ।

४

डिस्क आकारको पेडेस्टल (ठाडो पेडेस्टल)

डिस्क-आकारको पेडेस्टलहरू ठाडो भाप चरण एपिटेक्सी प्रणालीहरूको लागि उपयुक्त छन्, जसमा सब्सट्रेट ठाडो रूपमा राखिएको छ। यस डिजाइनले सब्सट्रेट र ससेप्टर बीचको सम्पर्क क्षेत्र कम गर्न मद्दत गर्दछ, जसले गर्दा गर्मी हानि र सम्भावित प्रदूषण कम हुन्छ।

३

तेर्सो ससेप्टर

क्षैतिज ससेप्टरहरू वाष्प चरण एपिटाक्सीमा कम सामान्य हुन्छन्, तर केही विशिष्ट वृद्धि प्रणालीहरूमा तेर्सो दिशामा एपिटेक्सियल वृद्धिलाई अनुमति दिन प्रयोग गर्न सकिन्छ।

२

मोनोलिथिक एपिटेक्सियल प्रतिक्रिया संसेप्टर

मोनोलिथिक एपिटेक्सियल प्रतिक्रिया ससेप्टर एकल सब्सट्रेटको लागि डिजाइन गरिएको हो, जसले उच्च-गुणस्तरको एपिटेक्सियल तहहरूको विकासको लागि उपयुक्त, अधिक सटीक तापमान नियन्त्रण र राम्रो थर्मल अलगाव प्रदान गर्न सक्छ।

उत्पादन जानकारी र परामर्शको लागि हाम्रो वेबसाइटमा स्वागत छ।

हाम्रो वेबसाइट: https://www.vet-china.com/


पोस्ट समय: जुलाई-30-2024
व्हाट्सएप अनलाइन च्याट!