Ħafna drabi orjentat lejn il-klijent, u hija l-mira aħħarija tagħna li nsiru mhux biss probabbilment l-aktar fornitur ta 'fama, affidabbli u onest, iżda wkoll is-sieħeb għall-klijenti tagħna għal Super Lowest Price China 1200c Plasma Enhanced Chemical Fwar DepositionPecvdVacuum Funace, Biex titgħallem aktar dwar x'nistgħu nagħmlu għalik, ikkuntattjana fi kwalunkwe ħin. Aħna ħerqanin sabiex nistabbilixxu relazzjonijiet kummerċjali tajbin u fit-tul miegħek.
Ħafna drabi orjentat lejn il-klijent, u hija l-mira aħħarija tagħna li nsiru mhux biss probabbilment l-aktar fornitur ta’ fama, affidabbli u onest, iżda wkoll is-sieħeb għall-klijenti tagħna għalĊina Plażma Mtejba Depożizzjoni Kimika Fwar, Pecvd, It-tagħmir avvanzat tagħna, il-ġestjoni tal-kwalità eċċellenti, il-kapaċità ta 'riċerka u żvilupp jagħmlu l-prezz tagħna isfel. Il-prezz li noffru jista 'ma jkunx l-aktar baxx, iżda niggarantixxu li huwa assolutament kompetittiv! Merħba tikkuntattjana immedjatament għal relazzjoni kummerċjali futura u suċċess reċiproku!
Karbonju / komposti tal-karbonju(minn hawn 'il quddiem imsejħa “C/C jew CFC”) huwa tip ta 'materjal kompost li huwa bbażat fuq il-karbonju u msaħħaħ minn fibra tal-karbonju u l-prodotti tagħha (preforma tal-fibra tal-karbonju). Għandu kemm l-inerzja tal-karbonju kif ukoll is-saħħa għolja tal-fibra tal-karbonju. Għandu proprjetajiet mekkaniċi tajbin, reżistenza għas-sħana, reżistenza għall-korrużjoni, damping tal-frizzjoni u karatteristiċi ta 'konduttività termali u elettrika
CVD-SiCIl-kisi għandu l-karatteristiċi ta 'struttura uniformi, materjal kompatt, reżistenza għat-temperatura għolja, reżistenza għall-ossidazzjoni, purità għolja, reżistenza għall-aċidu u alkali u reaġent organiku, bi proprjetajiet fiżiċi u kimiċi stabbli.
Meta mqabbel ma 'materjali tal-grafita ta' purità għolja, il-grafita jibda jossida f'400C, li jikkawża telf ta 'trab minħabba l-ossidazzjoni, li jirriżulta f'tniġġis ambjentali għal apparati periferali u kmamar tal-vakwu, u jżid l-impuritajiet ta' ambjent ta 'purità għolja.
Madankollu, il-kisi SiC jista 'jżomm stabbiltà fiżika u kimika f'1600 grad, Huwa użat ħafna fl-industrija moderna, speċjalment fl-industrija tas-semikondutturi.
Il-kumpanija tagħna tipprovdi servizzi ta 'proċess ta' kisi tas-SiC permezz tal-metodu CVD fuq il-wiċċ tal-grafita, ċeramika u materjali oħra, sabiex gassijiet speċjali li fihom karbonju u silikon jirreaġixxu f'temperatura għolja biex jiksbu molekuli SiC ta 'purità għolja, molekuli depożitati fuq il-wiċċ tal-materjali miksija, li jiffurmaw saff protettiv SIC. Is-SIC iffurmat huwa marbut sew mal-bażi tal-grafita, u jagħti lill-bażi tal-grafita proprjetajiet speċjali, u b'hekk il-wiċċ tal-grafita jkun kompatt, ħieles mill-porosità, reżistenza għat-temperatura għolja, reżistenza għall-korrużjoni u reżistenza għall-ossidazzjoni.
Karatteristiċi ewlenin:
1. Reżistenza għall-ossidazzjoni f'temperatura għolja:
ir-reżistenza għall-ossidazzjoni għadha tajba ħafna meta t-temperatura tkun għolja daqs 1600 C.
2. Purità għolja: magħmula minn depożizzjoni ta 'fwar kimiku taħt kundizzjoni ta' klorinazzjoni f'temperatura għolja.
3. Reżistenza għall-erożjoni: ebusija għolja, wiċċ kompatt, partiċelli fini.
4. Reżistenza għall-korrużjoni: aċidu, alkali, melħ u reaġenti organiċi.
Speċifikazzjonijiet ewlenin tal-kisi CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Densità | (g/cc)
| 3.21 |
| Saħħa tal-flessjoni | (Mpa)
| 470 |
| Espansjoni termali | (10-6/K) | 4
|
| Konduttività termali | (W/mK) | 300
|
