vet-china tintroduċi dgħajsa tal-wejfer kontigwi ta 'l-aħħar inġinerija għall-ġenerazzjoni li jmiss ta' manifattura ta 'semikondutturi. Din id-dgħajsa ddisinjata b'mod metikoluż toffri preċiżjoni mingħajr paragun fl-immaniġġjar tal-wejfer, li tiżgura operazzjonijiet bla xkiel u tnaqqas b'mod sinifikanti r-riskju ta 'ħsara waqt l-ipproċessar.
Mibnija b'materjali ta 'kwalità għolja, il-Kontigwa Wafer Boat tiftaħar stabbiltà termali eċċellenti u reżistenza kimika eċċezzjonali, li tagħmilha ideali għal ambjenti kimiċi ta' temperatura għolja u ħarxa. Id-disinn innovattiv tiegħu jiżgura li l-wejfers jinżammu b'mod sikur u allinjati perfettament, jottimizzaw il-produzzjoni u jżidu l-effiċjenza tal-manifattura.
Din id-dgħajsa tal-wejfers avvanzata hija mfassla biex tissodisfa l-ħtiġijiet eżiġenti ta 'fabs semikondutturi moderni, li tappoġġja diversi daqsijiet u konfigurazzjonijiet tal-wejfer. Billi tinkorpora l-Kontigwa Wafer Boat minn vet-china fil-linja ta 'produzzjoni tiegħek, tista' tistenna prestazzjoni mtejba, tnaqqis fil-ħin ta 'waqfien, u rati ta' rendiment miżjuda.
Esperjenza tad-differenza bl-impenn ta 'vet-china għall-kwalità u l-innovazzjoni, li twassal prodotti li jimbuttaw il-konfini tal-manifattura tas-semikondutturi. Agħżel il-Kontigwa Wafer Boat u għolli l-kapaċitajiet tal-ipproċessar tal-wejfers tiegħek għal għoli ġdid.
Proprjetajiet ta 'karbur tas-silikon rikristallizzat
Karbur tas-silikon rikristallizzat (R-SiC) huwa materjal ta 'prestazzjoni għolja b'ebusija t-tieni biss għad-djamant, li huwa ffurmat f'temperatura għolja 'l fuq minn 2000 ℃. Iżomm ħafna proprjetajiet eċċellenti ta 'SiC, bħal saħħa ta' temperatura għolja, reżistenza qawwija għall-korrużjoni, reżistenza eċċellenti għall-ossidazzjoni, reżistenza tajba għal xokk termali u l-bqija.
● Proprjetajiet mekkaniċi eċċellenti. Karbur tas-silikon rikristallizzat għandu saħħa u ebusija ogħla minn fibra tal-karbonju, reżistenza għall-impatt għolja, jista 'jkollu prestazzjoni tajba f'ambjenti ta' temperatura estrema, jista 'jkollu prestazzjoni ta' kontrobilanċ aħjar f'varjetà ta 'sitwazzjonijiet. Barra minn hekk, għandha wkoll flessibilità tajba u ma ssirx ħsara faċilment bit-tiġbid u l-liwi, li ttejjeb ħafna l-prestazzjoni tagħha.
● Reżistenza għall-korrużjoni għolja. Karbur tas-silikon rikristallizzat għandu reżistenza għolja għall-korrużjoni għal varjetà ta 'midja, jista' jipprevjeni l-erożjoni ta 'varjetà ta' midja korrużiva, jista 'jżomm il-proprjetajiet mekkaniċi tiegħu għal żmien twil, għandu adeżjoni qawwija, sabiex ikollu ħajja ta' servizz itwal. Barra minn hekk, għandu wkoll stabbiltà termali tajba, jista 'jadatta għal ċertu firxa ta' bidliet fit-temperatura, itejjeb l-effett ta 'applikazzjoni tiegħu.
● Is-sinterizzazzjoni ma tiċkienx. Minħabba li l-proċess tas-sinterizzazzjoni ma jiċkienx, l-ebda stress residwu ma jikkawża deformazzjoni jew qsim tal-prodott, u jistgħu jiġu ppreparati partijiet b'forom kumplessi u preċiżjoni għolja.
| 重结晶碳化硅物理特性 Proprjetajiet fiżiċi ta 'Carbur tas-Silikon Rikristallizzat | |
| 性质 / Proprjetà | 典型数值 / Valur Tipiku |
| 使用温度/ Temperatura tax-xogħol (°C) | 1600°C (bl-ossiġnu), 1700°C (ambjent li jnaqqas) |
| SiC含量/ Kontenut SiC | > 99.96% |
| 自由Si含量/ Ħieles Si kontenut | < 0.1% |
| 体积密度/Densità tal-massa | 2.60-2.70 g/ċm3 |
| 气孔率/ Porożità apparenti | < 16% |
| 抗压强度/ Qawwa tal-kompressjoni | > 600MPa |
| 常温抗弯强度/Saħħa tal-liwi kiesaħ | 80-90 MPa (20°C) |
| 高温抗弯强度Saħħa tal-liwi sħun | 90-100 MPa (1400°C) |
| 热膨胀系数/ Espansjoni termali @1500°C | 4.70 10-6/°C |
| 导热系数/Konduttività termali @1200°C | 23W/m•K |
| 杨氏模量/ Modulus elastiku | 240 GPa |
| 抗热震性/ Reżistenza għal xokk termali | Tajjeb ħafna |
L-Enerġija tal-VET hija ilmanifattur reali ta 'grafita apposta u prodotti tal-karbur tas-silikon b'kisja CVD,jistgħu jfornuvarjiPartijiet personalizzati għal semikondutturi u industrija fotovoltajka. Otim tekniku ur ġej mill-aqwa istituzzjonijiet ta 'riċerka domestiċi, jista' jipprovdi soluzzjonijiet materjali aktar professjonaligħalik.
Aħna kontinwament niżviluppaw proċessi avvanzati biex nipprovdu materjali aktar avvanzati,uħadmu teknoloġija esklussiva privattiva, li tista 'tagħmel it-twaħħil bejn il-kisi u s-sottostrat aktar strett u inqas suxxettibbli għal distakk.
| CVD SiC薄膜基本物理性能 Proprjetajiet fiżiċi bażiċi ta 'CVD SiCkisi | |
| 性质 / Proprjetà | 典型数值 / Valur Tipiku |
| 晶体结构 / Struttura tal-kristall | Fażi FCC β多晶，主要为（111）取向 |
| 密度 / Densità | 3.21 g/ċm³ |
| 硬度 / Ebusija | 2500 维氏硬度（tagħbija ta' 500g） |
| 晶粒大小 / Daqs tal-qamħ | 2 ~ 10μm |
| 纯度 / Purità Kimika | 99.99995% |
| 热容 / Kapaċità tas-Sħana | 640 J·kg-1·K-1 |
| 升华温度 / Temperatura tas-sublimazzjoni | 2700℃ |
| 抗弯强度 / Qawwa tal-flessjoni | 415 MPa RT 4-punti |
| 杨氏模量 / Modulus taż-żgħażagħ | 430 Gpa 4pt liwja, 1300℃ |
| 导热系数 / ThermalKonduttività | 300W·m-1·K-1 |
| 热膨胀系数 / Espansjoni Termali (CTE) | 4.5×10-6K-1 |
Bi pjaċir iżżur il-fabbrika tagħna, ejja jkollna aktar diskussjoni!
-
Sostrat tal-grafit miksi mill-karbur tas-silikon għal S...
-
Ċellula tal-Fjuwil 60w Għal Dimostrazzjoni tal-Laboratorju 12v...
-
Prezz Tajjeb Ċellola tal-Fjuwil tal-Idroġenu Effiċjenza Għolja H...
-
Ċirku tas-siġill tal-grafita industrijali temperatura għolja...
-
It-tieni nofs partijiet -Partijiet tat-tagħmir epitassjali SiC
-
Fabbrika ta 'tubu tal-grafita personalizzata, ed tal-qamħ fin...