Sasaran sputtering yang digunakan dalam litar bersepadu semikonduktor

Sasaran percikandigunakan terutamanya dalam industri elektronik dan maklumat, seperti litar bersepadu, penyimpanan maklumat, paparan kristal cecair, kenangan laser, peranti kawalan elektronik, dll. Ia juga boleh digunakan dalam bidang salutan kaca, serta dalam tahan haus bahan, rintangan kakisan suhu tinggi, produk hiasan mewah dan industri lain.

Ketulenan Tinggi 99.995% Sasaran Sputtering TitaniumSasaran Sputtering FerrumSasaran Sputtering Karbon C, Sasaran Grafit

Sputtering adalah salah satu teknik utama untuk menyediakan bahan filem nipis.Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk mempercepatkan dan mengagregat dalam vakum untuk membentuk rasuk ion tenaga berkelajuan tinggi, membedil permukaan pepejal, dan menukar tenaga kinetik antara ion dan atom permukaan pepejal. Atom pada permukaan pepejal meninggalkan pepejal dan dimendapkan pada permukaan substrat. Pepejal yang dibombardir adalah bahan mentah untuk mendepositkan filem nipis dengan sputtering, yang dipanggil sputtering target. Pelbagai jenis bahan filem nipis sputtered telah digunakan secara meluas dalam litar bersepadu semikonduktor, media rakaman, paparan panel rata dan salutan permukaan bahan kerja.

Di antara semua industri aplikasi, industri semikonduktor mempunyai keperluan kualiti yang paling ketat untuk filem sputtering sasaran. Sasaran sputtering logam ketulenan tinggi digunakan terutamanya dalam pembuatan wafer dan proses pembungkusan lanjutan. Mengambil contoh pembuatan cip, kita boleh lihat bahawa daripada wafer silikon kepada cip, ia perlu melalui 7 proses pengeluaran utama iaitu diffusion (Proses Terma), Photo-litography (Foto-litografi), Etch (Etch), Implantasi Ion (IonImplant), Pertumbuhan Filem Nipis (Pemendapan Dielektrik), Penggilapan Mekanikal Kimia (CMP), Metalisasi (Pemetaan) Prosesnya sepadan satu demi satu. Sasaran sputtering digunakan dalam proses "metallization". Sasaran dihujani dengan zarah tenaga tinggi oleh peralatan pemendapan filem nipis dan kemudian lapisan logam dengan fungsi tertentu terbentuk pada wafer silikon, seperti lapisan konduktif, lapisan penghalang. Tunggu. Memandangkan proses keseluruhan semikonduktor diubah maka beberapa situasi sekali-sekala diperlukan untuk mengesahkan sistem itu wujud dengan betul jadi kami menuntut beberapa jenis bahan tiruan pada peringkat pengeluaran tertentu untuk mengesahkan kesannya.


Masa siaran: Jan-17-2022
Sembang Dalam Talian WhatsApp !