Keperluan industri semikonduktor bagi keperluan bahan grafit adalah sangat tinggi, saiz zarah halus grafit mempunyai ketepatan tinggi, rintangan suhu tinggi, kekuatan tinggi, kehilangan kecil dan kelebihan lain, seperti: acuan produk grafit tersinter.Oleh kerana peralatan grafit yang digunakan dalam industri semikonduktor (termasuk pemanas dan acuan tersinternya) diperlukan untuk menahan proses pemanasan dan penyejukan yang berulang, untuk memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan grafit, biasanya bahan grafit yang digunakan mempunyai prestasi yang stabil. dan fungsi hentaman tahan haba.
01 Aksesori grafit untuk pertumbuhan kristal semikonduktor
Semua proses yang digunakan untuk mengembangkan kristal semikonduktor beroperasi di bawah suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis. Zon panas relau pertumbuhan kristal biasanya dilengkapi dengan komponen grafit ketulenan tinggi yang tahan panas dan tahan kakisan, seperti pemanas, mangkuk pijar, silinder penebat, silinder panduan, elektrod, pemegang mangkuk pijar, kacang elektrod, dll.
Kami boleh mengeluarkan semua bahagian grafit peranti pengeluaran kristal, yang boleh dibekalkan secara individu atau dalam set, atau bahagian grafit yang disesuaikan dengan pelbagai saiz mengikut keperluan pelanggan. Saiz produk boleh diukur di tapak, dan kandungan abu produk siap boleh kurangdaripada 5ppm.
02 Aksesori grafit untuk epitaksi semikonduktor
Proses epitaxial merujuk kepada pertumbuhan lapisan bahan kristal tunggal dengan susunan kekisi yang sama seperti substrat pada substrat kristal tunggal. Dalam proses epitaxial, wafer dimuatkan pada cakera grafit. Prestasi dan kualiti cakera grafit memainkan peranan penting dalam kualiti lapisan epitaxial wafer. Dalam bidang pengeluaran epitaxial, banyak grafit ketulenan ultra tinggi dan asas grafit ketulenan tinggi dengan salutan SIC diperlukan.
Pangkalan grafit syarikat kami untuk epitaksi semikonduktor mempunyai pelbagai aplikasi, boleh memadankan kebanyakan peralatan yang biasa digunakan dalam industri, dan mempunyai ketulenan tinggi, salutan seragam, hayat perkhidmatan yang cemerlang, dan rintangan kimia yang tinggi dan kestabilan haba.
03 Aksesori grafit untuk implantasi ion
Implantasi ion merujuk kepada proses mempercepatkan pancaran plasma boron, fosforus dan arsenik kepada tenaga tertentu, dan kemudian menyuntiknya ke dalam lapisan permukaan bahan wafer untuk menukar sifat bahan lapisan permukaan. Komponen peranti implantasi ion hendaklah diperbuat daripada bahan ketulenan tinggi dengan rintangan haba yang sangat baik, kekonduksian terma, kurang kakisan yang disebabkan oleh pancaran ion dan kandungan kekotoran yang rendah. Grafit ketulenan tinggi memenuhi keperluan aplikasi, dan boleh digunakan untuk tiub penerbangan, pelbagai celah, elektrod, penutup elektrod, konduit, penamat rasuk, dll. peralatan implantasi ion.
Kami bukan sahaja boleh menyediakan penutup pelindung grafit untuk pelbagai mesin implantasi ion, tetapi juga menyediakan elektrod grafit ketulenan tinggi dan sumber ion dengan rintangan kakisan tinggi pelbagai spesifikasi. Model yang berkenaan: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM dan peralatan lain. Di samping itu, kami juga boleh menyediakan padanan seramik, tungsten, molibdenum, produk aluminium dan bahagian bersalut.
04 Bahan penebat grafit dan lain-lain
Bahan penebat haba yang digunakan dalam peralatan pengeluaran semikonduktor termasuk rasa keras grafit, rasa lembut, kerajang grafit, kertas grafit dan tali grafit.
Semua bahan mentah kami adalah grafit yang diimport, yang boleh dipotong mengikut saiz tertentu keperluan pelanggan atau dijual secara keseluruhan.
Dulang karbon-karbon digunakan sebagai pembawa untuk salutan filem dalam proses pengeluaran silikon monohablur suria dan sel silikon polihabluran. Prinsip kerjanya ialah: masukkan cip silikon ke dalam dulang CFC dan hantar ke dalam tiub relau untuk memproses salutan filem.
