ആർടിപി/ആർടിഎയ്‌ക്കായുള്ള SiC കോട്ടിംഗ് കാരിയർ റാപ്പിഡ് തെർമൽ പ്രോസസ്സിംഗ് & അനീലിംഗ് എന്ന് വിളിക്കുന്ന അർദ്ധചാലക നിർമ്മാണ പ്രക്രിയകളിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഒരു പ്രധാന ഘടകമാണ്, സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് കാരിയർ വളരെ ഉയർന്ന പരിശുദ്ധി, നല്ല കോട്ടിംഗ് ഏകീകൃതത, മികച്ച സേവന ജീവിതം എന്നിവ നിർമ്മിക്കുന്നതിന് ഞങ്ങൾ ഞങ്ങളുടെ പേറ്റൻ്റ് സാങ്കേതികവിദ്യ ഉപയോഗിക്കുന്നു. അതുപോലെ ഉയർന്ന രാസ പ്രതിരോധവും താപ സ്ഥിരത ഗുണങ്ങളും.
ഞങ്ങളുടെ ഉൽപ്പന്നങ്ങളുടെ സവിശേഷതകൾ:
1. 1700℃ വരെ ഉയർന്ന താപനില ഓക്സിഡേഷൻ പ്രതിരോധം.
2. ഉയർന്ന പരിശുദ്ധിയും താപ ഏകീകൃതതയും
3. മികച്ച നാശ പ്രതിരോധം: ആസിഡ്, ആൽക്കലി, ഉപ്പ്, ഓർഗാനിക് റിയാഗൻ്റുകൾ.
4. ഉയർന്ന കാഠിന്യം, ഒതുക്കമുള്ള ഉപരിതലം, സൂക്ഷ്മ കണങ്ങൾ.
5. ദൈർഘ്യമേറിയ സേവന ജീവിതവും കൂടുതൽ മോടിയുള്ളതും
| സി.വി.ഡി SiC薄膜基本物理性能 CVD SiC യുടെ അടിസ്ഥാന ഭൗതിക സവിശേഷതകൾപൂശുന്നു | |
| 性质 / സ്വത്ത് | 典型数值 / സാധാരണ മൂല്യം |
| 晶体结构 / ക്രിസ്റ്റൽ ഘടന | FCC β ഘട്ടം多晶，主要为（111）取向 |
| 密度 / സാന്ദ്രത | 3.21 g/cm³ |
| 硬度 / കാഠിന്യം | 2500 维氏硬度 (500g ലോഡ്) |
| 晶粒大小 / ധാന്യം വലിപ്പം | 2~10μm |
| 纯度 / കെമിക്കൽ പ്യൂരിറ്റി | 99.99995% |
| 热容 / താപ ശേഷി | 640 J·kg-1·കെ-1 |
| 升华温度 / സബ്ലിമേഷൻ താപനില | 2700℃ |
| 抗弯强度 / ഫ്ലെക്സറൽ ശക്തി | 415 MPa RT 4-പോയിൻ്റ് |
| 杨氏模量 / യങ്ങിൻ്റെ മോഡുലസ് | 430 Gpa 4pt ബെൻഡ്, 1300℃ |
| 导热系数 / തെർമഎൽചാലകത | 300W·m-1·കെ-1 |
| 热膨胀系数 / തെർമൽ എക്സ്പാൻഷൻ(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
SiC കോട്ടിംഗ്, TaC കോട്ടിംഗ്, ഗ്ലാസി കാർബൺ കോട്ടിംഗ്, പൈറോലൈറ്റിക് കാർബൺ കോട്ടിംഗ് മുതലായ വ്യത്യസ്ത കോട്ടിംഗുകളുള്ള ഇഷ്‌ടാനുസൃതമാക്കിയ ഗ്രാഫൈറ്റ്, സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് ഉൽപ്പന്നങ്ങളുടെ യഥാർത്ഥ നിർമ്മാതാവാണ് VET എനർജി, അർദ്ധചാലകത്തിനും ഫോട്ടോവോൾട്ടെയ്‌ക് വ്യവസായത്തിനും വിവിധ ഇഷ്‌ടാനുസൃത ഭാഗങ്ങൾ വിതരണം ചെയ്യാൻ കഴിയും.
ഞങ്ങളുടെ സാങ്കേതിക ടീം മികച്ച ആഭ്യന്തര ഗവേഷണ സ്ഥാപനങ്ങളിൽ നിന്നാണ് വരുന്നത്, നിങ്ങൾക്ക് കൂടുതൽ പ്രൊഫഷണൽ മെറ്റീരിയൽ സൊല്യൂഷനുകൾ നൽകാൻ കഴിയും.
കൂടുതൽ നൂതനമായ സാമഗ്രികൾ നൽകുന്നതിനായി ഞങ്ങൾ തുടർച്ചയായി വിപുലമായ പ്രക്രിയകൾ വികസിപ്പിക്കുന്നു, കൂടാതെ ഒരു പ്രത്യേക പേറ്റൻ്റ് സാങ്കേതിക വിദ്യ വികസിപ്പിച്ചെടുത്തിട്ടുണ്ട്, ഇത് കോട്ടിംഗും സബ്‌സ്‌ട്രേറ്റും തമ്മിലുള്ള ബന്ധം കൂടുതൽ ഇറുകിയതും വേർപിരിയാനുള്ള സാധ്യത കുറയ്ക്കുന്നതുമാണ്.
ഞങ്ങളുടെ ഫാക്ടറി സന്ദർശിക്കാൻ നിങ്ങളെ സ്നേഹപൂർവ്വം സ്വാഗതം ചെയ്യുക, നമുക്ക് കൂടുതൽ ചർച്ചകൾ നടത്താം!
