Silīcija karbīda nesējpaplāteis a taustiņukomponents, ko izmanto dažādos pusvadītāju ražošanas procesos.Mēs izmantojam mūsu patentēto tehnoloģiju, lai izgatavotu silīcija karbīda nesēju arārkārtīgi augsta tīrības pakāpe,labipārklājumsviendabīgumsun lielisks kalpošanas laiks, kā arīaugsta ķīmiskā izturība un termiskās stabilitātes īpašības.
PIA enerģija ir uzīsts pielāgotu grafīta un silīcija karbīda izstrādājumu ražotājs ar CVD pārklājumu,var piegādātdažādipielāgotas detaļas pusvadītāju un fotoelementu rūpniecībai. Ojūsu tehniskā komanda nāk no labākajām vietējām pētniecības iestādēm, un tā var nodrošināt profesionālākus materiālu risinājumuspriekš jums.
Mēs nepārtraukti attīstām progresīvus procesus, lai nodrošinātu modernākus materiālus,unir izstrādājuši ekskluzīvu patentētu tehnoloģiju, kas var padarīt savienojumu starp pārklājumu un pamatni ciešāku un mazāk pakļautu atdalīšanai.
Fmūsu produktu īpašības:
1. Augstas temperatūras oksidācijas izturība līdz 1700℃.
2. Augstas tīrības untermiskā vienmērība
3. Lieliska izturība pret koroziju: skābes, sārmi, sāls un organiskie reaģenti.
4. Augsta cietība, kompakta virsma, smalkas daļiņas.
5. Ilgāks kalpošanas laiks un izturīgāks
| CVD SiC薄膜基本物理性能 CVD SiC galvenās fizikālās īpašībaspārklājums | |
| 性质 / Īpašums | 典型数值 / Tipiskā vērtība |
| 晶体结构 / Kristālu struktūra | FCC β fāze多晶，主要为（111）取向 |
| 密度 / Blīvums | 3,21 g/cm³ |
| 硬度 / Cietība | 2500 维氏硬度 (500 g krava) |
| 晶粒大小 / Graudu izmērs | 2 ~ 10 μm |
| 纯度 / Ķīmiskā tīrība | 99,99995% |
| 热容 / Siltuma jauda | 640 J·kg-1·K-1 |
| 升华温度 / Sublimācijas temperatūra | 2700 ℃ |
| 抗弯强度 / Flexural Strength | 415 MPa RT 4 punktu |
| 杨氏模量 / Young's Modulus | 430 Gpa 4pt līkums, 1300 ℃ |
| 导热系数 / ThermalVadītspēja | 300 W·m-1·K-1 |
| 热膨胀系数 / Termiskā izplešanās (CTE) | 4,5 × 10-6K-1 |
Laipni lūdzam apmeklēt mūsu rūpnīcu, apspriedīsimies tālāk!
