반도체 흑연 선택의 세 가지 주요 지표

반도체 산업은 신흥 과학 기술 산업으로 최근 몇 년 동안 큰 주목을 받고 있으며 점점 더 많은 기업이 반도체 산업에 진출하기 시작했으며 흑연은 반도체 산업 발전에 없어서는 안될 재료 중 하나가되었습니다. 반도체는 흑연의 전기 전도성을 사용해야 합니다. 흑연의 탄소 함량이 높을수록 전기 전도성이 좋아지기 때문에 일반적으로 입자 크기, 내열성, 순도 등의 지표를 고려해야 합니다.

입자 크기는 다양한 메시 번호에 해당하며 사양은 메시 번호로 표시됩니다. 메시 수는 구멍의 수, 즉 평방 인치당 구멍의 수입니다. 일반적으로 메쉬 수 * 조리개(미크론) = 15000입니다. 전도성 흑연의 메쉬 수가 클수록 입자 크기가 작을수록 윤활 성능이 향상되어 윤활 재료 생산 분야에서 사용될 수 있습니다. 반도체 산업에 사용되는 입자 크기는 가공 정밀도, 높은 압축 강도 및 상대적으로 작은 손실을 달성하기 쉽기 때문에 매우 미세해야 하며, 특히 높은 가공 정확도가 요구되는 소결 금형의 경우 더욱 그렇습니다.

입자 크기 분포: 20 메쉬, 40 메쉬, 80 메쉬, 100 메쉬, 200 메쉬, 320 메쉬, 500 메쉬, 800 메쉬, 1200 메쉬, 2000 메쉬, 3000 메쉬, 5000 메쉬, 8000 메쉬, 12500 메쉬, 가장 미세한 것은 15,000 메쉬일 수 있습니다.

반도체 산업의 많은 제품은 장치의 수명을 연장하기 위해 지속적으로 가열되어야 합니다. 이를 위해서는 전도성 흑연이 우수한 신뢰성과 고온 충격 저항이라는 특성을 가져야 합니다.

반도체 산업에서 흑연 생산에 대한 요구 사항은 다음과 같습니다. 순도가 높을수록 좋습니다. 특히 둘 사이에 닿는 흑연 장치에 불순물이 너무 많으면 반도체 재료를 오염시킬 수 있습니다. 따라서 전도성 흑연의 순도를 엄격하게 제어해야 하며, 계조를 최소화하기 위해 고온 흑연화 처리도 필요합니다.

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게시 시간: 2023년 6월 8일
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