តើអ្វីជាភាពខុសគ្នារវាង PECVD និង LPCVD នៅក្នុងឧបករណ៍ semiconductor CVD?

ការបញ្ចេញចំហាយគីមី (CVD) សំដៅលើដំណើរការនៃការដាក់ខ្សែភាពយន្តរឹងនៅលើផ្ទៃស៊ីលីកុនwaferតាមរយៈប្រតិកម្មគីមីនៃល្បាយឧស្ម័ន។ យោងទៅតាមលក្ខខណ្ឌប្រតិកម្មផ្សេងៗគ្នា (សម្ពាធ, មុនគេ) វាអាចត្រូវបានបែងចែកទៅជាគំរូឧបករណ៍ផ្សេងៗ។

តើឧបករណ៍ទាំងពីរនេះប្រើសម្រាប់ដំណើរការអ្វីខ្លះ?

PECVDបរិក្ខារ (ប្លាស្មា) ជាគ្រឿងបរិក្ខារច្រើន និងប្រើជាទូទៅបំផុត ប្រើក្នុង OX, Nitride, metal gate, amorphous carbon, etc.; LPCVD (ថាមពលទាប) ជាធម្មតាត្រូវបានគេប្រើនៅក្នុង Nitride, poly, TEOS ។
តើអ្វីជាគោលការណ៍?
PECVD- ដំណើរការដែលរួមបញ្ចូលគ្នាយ៉ាងល្អឥតខ្ចោះនូវថាមពលប្លាស្មា និង CVD ។ បច្ចេកវិជ្ជា PECVD ប្រើប្លាស្មាដែលមានសីតុណ្ហភាពទាប ដើម្បីបញ្ចេញការបញ្ចេញពន្លឺនៅ cathode នៃអង្គជំនុំជម្រះដំណើរការ (ឧទាហរណ៍ ថាសគំរូ) ក្រោមសម្ពាធទាប។ ការបញ្ចេញពន្លឺនេះ ឬឧបករណ៍កំដៅផ្សេងទៀតអាចបង្កើនសីតុណ្ហភាពនៃគំរូដល់កម្រិតដែលបានកំណត់ទុកជាមុន ហើយបន្ទាប់មកណែនាំបរិមាណឧស្ម័នដំណើរការ។ ឧស្ម័ននេះឆ្លងកាត់ប្រតិកម្មគីមី និងប្លាស្មាជាបន្តបន្ទាប់ ហើយទីបំផុតបង្កើតបានជាខ្សែភាពយន្តរឹងមួយនៅលើផ្ទៃនៃគំរូ។

LPCVD - ការបញ្ចេញចំហាយគីមីសម្ពាធទាប (LPCVD) ត្រូវបានរចនាឡើងដើម្បីកាត់បន្ថយសម្ពាធប្រតិបត្តិការនៃឧស្ម័នប្រតិកម្មនៅក្នុងរ៉េអាក់ទ័រទៅប្រហែល 133Pa ឬតិចជាងនេះ។

តើលក្ខណៈនីមួយៗមានអ្វីខ្លះ?

PECVD - ដំណើរការដែលរួមបញ្ចូលគ្នាយ៉ាងល្អឥតខ្ចោះនូវថាមពលប្លាស្មានិង CVD: 1) ប្រតិបត្តិការសីតុណ្ហភាពទាប (ជៀសវាងការខូចខាតសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ចំពោះឧបករណ៍); 2) កំណើនខ្សែភាពយន្តលឿន; 3) មិនរើសអើងអំពីវត្ថុធាតុដើម OX, Nitride, ទ្វារដែក, កាបូនអាម៉ូញ៉ូមអាចលូតលាស់បានទាំងអស់។ 4) មានប្រព័ន្ធត្រួតពិនិត្យនៅក្នុងកន្លែង ដែលអាចកែសម្រួលរូបមន្តតាមរយៈប៉ារ៉ាម៉ែត្រអ៊ីយ៉ុង អត្រាលំហូរឧស្ម័ន សីតុណ្ហភាព និងកម្រាស់ខ្សែភាពយន្ត។
LPCVD - ខ្សែភាពយន្តស្តើងដែលដាក់ដោយ LPCVD នឹងមានការគ្របដណ្តប់ជំហានកាន់តែប្រសើរ ការគ្រប់គ្រងសមាសភាព និងរចនាសម្ព័ន្ធល្អ អត្រានៃការដាក់ប្រាក់ខ្ពស់ និងទិន្នផល។ លើសពីនេះ LPCVD មិនតម្រូវឱ្យមានឧស្ម័នដឹកជញ្ជូនទេ ដូច្នេះវាជួយកាត់បន្ថយប្រភពនៃការបំពុលភាគល្អិតយ៉ាងច្រើន ហើយត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្ម semiconductor ដែលមានតម្លៃបន្ថែមខ្ពស់សម្រាប់ការដាក់ស្រទាប់ខ្សែភាពយន្តស្តើង។