Металл-органикалық химиялық буларды тұндыру (MOCVD) - жоғары сапалы жартылай өткізгішті материалдарды дайындау үшін жартылай өткізгіш пластинкалардың бетіне көп қабатты пленкаларды тұндыру үшін қолданылатын жартылай өткізгіш эпитаксияның жиі қолданылатын әдісі. MOCVD эпитаксиалды компоненттері жартылай өткізгіштер өнеркәсібінде маңызды рөл атқарады және оптоэлектрондық құрылғыларда, оптикалық байланыстарда, фотоэлектрлік электр энергиясын өндіруде және жартылай өткізгіш лазерлерде кеңінен қолданылады.
MOCVD эпитаксиалды компоненттерінің негізгі қолдануларының бірі оптоэлектронды құрылғыларды дайындау болып табылады. Жартылай өткізгішті пластинкаларға әртүрлі материалдардың көп қабатты пленкаларын салу арқылы оптикалық диодтар (LED), лазерлік диодтар (LD) және фотодетекторлар сияқты құрылғыларды дайындауға болады. MOCVD эпитаксиалды құрамдастары тамаша материалдың біркелкілігі мен интерфейс сапасын бақылау мүмкіндіктеріне ие, олар тиімді фотоэлектрлік түрлендіруді жүзеге асыра алады, жарық тиімділігі мен құрылғының жұмыс тұрақтылығын жақсартады.
Сонымен қатар, MOCVD эпитаксиалды компоненттері оптикалық байланыс саласында да кеңінен қолданылады. Әртүрлі материалдардың эпитаксиалды қабаттарын орналастыру арқылы жоғары жылдамдықты және тиімді жартылай өткізгішті оптикалық күшейткіштер мен оптикалық модуляторларды дайындауға болады. Оптикалық байланыс саласында MOCVD эпитаксиалды құрамдастарын қолдану деректерді тасымалдауға өсіп келе жатқан сұранысты қанағаттандыру үшін оптикалық талшықты байланыстың беру жылдамдығы мен сыйымдылығын жақсартуға көмектеседі.
Сонымен қатар, MOCVD эпитаксиалды компоненттері фотоэлектрлік электр энергиясын өндіру саласында да қолданылады. Белгілі бір жолақ құрылымдары бар көп қабатты пленкаларды қою арқылы тиімді күн батареяларын дайындауға болады. MOCVD эпитаксиалды компоненттері фотоэлектрлік түрлендіру тиімділігін және күн батареяларының ұзақ мерзімді тұрақтылығын жақсартуға көмектесетін жоғары сапалы, жоғары торға сәйкес келетін эпитаксиалды қабаттарды қамтамасыз ете алады.
Ақырында, MOCVD эпитаксиалды компоненттері жартылай өткізгіш лазерлерді дайындауда маңызды рөл атқарады. Материалдық құрамын және эпитаксиалды қабаттың қалыңдығын бақылау арқылы әртүрлі толқын ұзындығының жартылай өткізгіш лазерлерін жасауға болады. MOCVD эпитаксиалды компоненттері жақсы оптикалық өнімділікті және төмен ішкі шығындарды қамтамасыз ету үшін жоғары сапалы эпитаксиалды қабаттарды қамтамасыз етеді.
Қысқаша айтқанда, MOCVD эпитаксиалды компоненттері жартылай өткізгіштер өнеркәсібінде кең ауқымды қолданбаларға ие. Олар оптоэлектрондық құрылғыларға, оптикалық байланыстарға, фотоэлектрлік электр энергиясын өндіруге және жартылай өткізгіш лазерлерге арналған негізгі материалдарды қамтамасыз ететін жоғары сапалы көп қабатты пленкаларды дайындауға қабілетті. MOCVD технологиясының үздіксіз дамуы мен жетілдірілуімен эпитаксиалды бөліктерді дайындау процесі жартылай өткізгіш қолданбаларға көбірек инновациялар мен серпілістерді әкелетін оңтайландыруды жалғастырады.
Жіберу уақыты: 18 желтоқсан 2023 ж