CVD-SiCжабын біркелкі құрылымды, ықшам материалды, жоғары температураға төзімділікті, тотығуға төзімділікті, жоғары тазалықты, қышқылға және сілтіге төзімділікті және тұрақты физикалық және химиялық қасиеттері бар органикалық реагентті сипаттайды.

Тазалығы жоғары графиттік материалдармен салыстырғанда, графит 400С-та тотыға бастайды, бұл тотығу салдарынан ұнтақтың жоғалуына әкеледі, нәтижесінде перифериялық құрылғылар мен вакуумдық камералар қоршаған ортаның ластануына әкеледі және жоғары тазалықтағы ортаның қоспаларын арттырады.

Дегенмен, SiC жабыны физикалық және химиялық тұрақтылықты 1600 градуста сақтай алады, ол қазіргі заманғы өнеркәсіпте, әсіресе жартылай өткізгіш өнеркәсібінде кеңінен қолданылады.

Біздің компания графит, керамика және басқа да материалдардың бетіне CVD әдісімен SiC жабынымен жабу процесін қамтамасыз етеді, осылайша көміртегі мен кремнийі бар арнайы газдар жоғары температурада әрекеттеседі, жоғары таза SiC молекулаларын, қапталған материалдардың бетіне тұндырылған молекулаларды, SIC қорғаныс қабатын құрайды.Түзілген SIC графит негізіне мықтап жабысып, графит негізіне ерекше қасиеттер береді, осылайша графиттің бетін ықшам, кеуектіліксіз, жоғары температураға төзімді, коррозияға және тотығуға төзімді етеді.

Негізгі ерекшеліктері:

1. Жоғары температурадағы тотығуға төзімділігі:

температура 1600 C дейін жоғары болған кезде тотығуға төзімділік әлі де өте жақсы.

2. Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.

3. Эрозияға төзімділік: жоғары қаттылық, ықшам беті, ұсақ бөлшектер.

4. Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.

CVD-SIC жабындарының негізгі сипаттамалары: