ქიმიური ორთქლის დეპონირება (CVD) ეხება სილიკონის ზედაპირზე მყარი ფირის დეპონირების პროცესსვაფლიაირის ნარევის ქიმიური რეაქციის გზით. რეაქციის სხვადასხვა პირობების მიხედვით (წნევა, წინამორბედი), ის შეიძლება დაიყოს სხვადასხვა აღჭურვილობის მოდელებად.
რა პროცესებისთვის გამოიყენება ეს ორი მოწყობილობა?
PECVD(Plasma Enhanced) აღჭურვილობა არის ყველაზე მრავალრიცხოვანი და ყველაზე ხშირად გამოყენებული, გამოიყენება OX, Nitride, ლითონის კარიბჭე, ამორფული ნახშირბადის და ა.შ.; LPCVD (დაბალი სიმძლავრე) ჩვეულებრივ გამოიყენება Nitride, poly, TEOS.
რა არის პრინციპი?
PECVD - პროცესი, რომელიც სრულყოფილად აერთიანებს პლაზმის ენერგიას და CVD-ს. PECVD ტექნოლოგია იყენებს დაბალ ტემპერატურულ პლაზმას, რათა გამოიწვიოს სიკაშკაშის გამონადენი პროცესის კამერის კათოდზე (ანუ ნიმუშის უჯრა) დაბალი წნევის ქვეშ. ამ მბზინავ გამონადენს ან სხვა გამათბობელ მოწყობილობას შეუძლია გაზარდოს ნიმუშის ტემპერატურა წინასწარ განსაზღვრულ დონემდე და შემდეგ შემოიღოს პროცესის გაზის კონტროლირებადი რაოდენობა. ეს გაზი გადის ქიმიურ და პლაზმური რეაქციების სერიას და საბოლოოდ ქმნის მყარ ფენას ნიმუშის ზედაპირზე.
LPCVD - დაბალი წნევის ქიმიური ორთქლის დეპონირება (LPCVD) შექმნილია რეაქტორში რეაქტიული აირის ოპერაციული წნევის შესამცირებლად დაახლოებით 133 Pa-მდე ან ნაკლები.
რა მახასიათებლები აქვს თითოეულს?
PECVD - პროცესი, რომელიც სრულყოფილად აერთიანებს პლაზმის ენერგიასა და CVD-ს: 1) მუშაობა დაბალ ტემპერატურაზე (აღჭურვილობის მაღალი ტემპერატურის დაზიანების თავიდან აცილება); 2) ფილმის სწრაფი ზრდა; 3) მასალების მიმართ არჩევითი არ არის, OX, ნიტრიდი, ლითონის კარიბჭე, ამორფული ნახშირბადი შეიძლება გაიზარდოს; 4) არსებობს ადგილზე მონიტორინგის სისტემა, რომელსაც შეუძლია რეცეპტის რეგულირება იონის პარამეტრების, გაზის ნაკადის სიჩქარის, ტემპერატურისა და ფირის სისქის მეშვეობით.
LPCVD - LPCVD-ის მიერ დეპონირებულ თხელ ფენებს ექნება უკეთესი საფეხურების დაფარვა, კარგი შემადგენლობისა და სტრუქტურის კონტროლი, დეპონირების მაღალი სიჩქარე და გამომავალი. გარდა ამისა, LPCVD არ საჭიროებს გადამზიდავ გაზს, ამიტომ ის მნიშვნელოვნად ამცირებს ნაწილაკების დაბინძურების წყაროს და ფართოდ გამოიყენება მაღალი დამატებული ღირებულების ნახევარგამტარულ ინდუსტრიებში თხელი ფირის დეპონირებისთვის.
მოგესალმებით ნებისმიერ მომხმარებელს მთელი მსოფლიოდან, რომ გვეწვიონ შემდგომი დისკუსიისთვის!
https://www.vet-china.com/
https://www.vet-china.com/cvd-coating/
https://www.vet-china.com/silicon-carbide-sic-ceramic/
გამოქვეყნების დრო: ივლის-24-2024