Kemurnian bubuk SiC bakal langsung mengaruhi kualitas lan kinerja kristal tunggal SiC sing ditanam kanthi metode PVT, lan bahan mentah kanggo nyiapake bubuk SiC yaiku bubuk Si kemurnian dhuwur lan bubuk C kemurnian dhuwur, lan kemurnian bubuk C bakal langsung mengaruhi kemurnian bubuk SiC.
Bahan mentah sing digunakake ing produksi toner biasane kalebu grafit serpihan, coke petroleum lan tinta watu microcrystalline. Sing luwih dhuwur kemurnian grafit, luwih dhuwur nilai panggunaan. Cara pemurnian grafit bisa dipérang dadi cara fisik lan cara kimia. Cara pemurnian fisik kalebu flotasi lan pemurnian suhu dhuwur, lan metode pemurnian kimia kalebu metode asam-basa, metode asam hidrofluorat lan metode pemanggangan klorida. Antarane wong-wong mau, cara dimurnèkaké suhu dhuwur bisa nggawe nggunakake titik leleh dhuwur (3773K) lan titik didih grafit kanggo entuk 4N5 lan kemurnian luwih, kang melu penguapan lan emisi impurities karo titik didih kurang, supaya minangka kanggo entuk tujuan saka purifikasi [6]. Teknologi utama toner kemurnian dhuwur yaiku mbusak rereged tilak. Digabungake karo karakteristik pemurnian kimia lan pemurnian suhu dhuwur, proses pemurnian termokimia suhu dhuwur gabungan segmen unik diadopsi kanggo entuk pemurnian bahan toner kemurnian dhuwur, lan kemurnian produk bisa luwih saka 6N.
Kinerja lan fitur produk:
1, kemurnian produk≥99,9999% (6N);
2, stabilitas wêdakakêna karbon kemurnian dhuwur, tingkat dhuwur saka graphitization, kurang impurities;
3, granularity lan jinis bisa disesuaikan miturut pangguna.
Panggunaan utama produk:
■ Sintesis bubuk SiC kemurnian dhuwur lan bahan karbida sintetik fase padhet liyane
■ Tuwuh inten
■ Bahan konduktivitas termal anyar kanggo produk elektronik
■ Bahan katoda baterei lithium high-end
■ Senyawa logam mulia uga minangka bahan mentah
