Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptorminangka piranti dhukungan lan pemanas sing dirancang khusus kanggo nahan lan panas substrat semikonduktor sajrone proses manufaktur kaya proses Deposition utawa Epitaxy.

Struktur kasebut kalebu biasane bentuke silinder utawa rada tong minyak, permukaan nduweni macem-macem kanthong utawa platform kanggo nempatake wafer, bisa dadi desain padhet utawa kothong, gumantung saka cara pemanasan.

Fungsi utama susceptor barel epitaxial:

- Dhukungan substrat: kanthi aman nahan macem-macem wafer semikonduktor;
-Sumber panas: nyedhiyakake suhu dhuwur sing dibutuhake kanggo tuwuh liwat pemanasan;
-Seragam suhu: njamin pemanasan seragam saka substrat;
-Rotasi: biasane muter sak wutah kanggo nambah suhu lan seragam distribusi gas.

Prinsip kerja susceptor tong grafit Epi:
- Ing reaktor epitaxial, susceptor tong minyak digawe panas nganti suhu sing dibutuhake (biasane 1000 ℃ -1200 ℃ kanggo epitaksi silikon);
-Susceptor tong minyak muter kanggo mesthekake distribusi suhu seragam lan aliran gas;
-Gas reaksi decompose ing suhu dhuwur, mbentuk lapisan epitaxial ing lumahing substrat.

Aplikasi:
-Utamane digunakake kanggo wutah epitaxial silikon
-Uga ditrapake kanggo epitaksi bahan semikonduktor liyane kaya GaAs, InP, lsp.

VET Energy nggunakake grafit kemurnian dhuwur kanthi lapisan CVD-SiC kanggo nambah stabilitas kimia:

Kaluwihan saka VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

- stabilitas suhu dhuwur;
- Keseragaman termal sing apik;
- Bisa ngolah macem-macem substrat bebarengan, ningkatake efisiensi produksi;
-Chemically inert, njaga lingkungan wutah-kemurnian dhuwur.