Durante il processo di epitassia in fase vapore (VPE), il ruolo del piedistallo è quello di supportare il substrato e garantire un riscaldamento uniforme durante il processo di crescita. Diversi tipi di piedistalli sono adatti a diverse condizioni di crescita e sistemi di materiali. Di seguito sono riportati alcuni dei tipi di piedistallo comunemente utilizzati in fase vaporeepitassia:
Piedistallo a botte
I piedistalli a botte sono comunemente usati nei sistemi di epitassia in fase vapore orizzontali o inclinati. Possono trattenere il substrato e consentire al gas di fluire sopra il substrato, il che aiuta a ottenere una crescita epitassiale uniforme.
Piedistallo a forma di disco (piedistallo verticale)
I piedistalli a forma di disco sono adatti per sistemi di epitassia verticale in fase vapore, in cui il substrato è posizionato verticalmente. Questo design aiuta a ridurre l'area di contatto tra il substrato e il suscettore, riducendo così la perdita di calore e la potenziale contaminazione.
Suscettore orizzontale
I suscettori orizzontali sono meno comuni nell'epitassia in fase vapore, ma possono essere utilizzati in alcuni sistemi di crescita specifici per consentire la crescita epitassiale in direzione orizzontale.
Suscettore di reazione epitassiale monolitico
Il suscettore di reazione epitassiale monolitico è progettato per un singolo substrato, che può fornire un controllo della temperatura più preciso e un migliore isolamento termico, adatto alla crescita di strati epitassiali di alta qualità.
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Orario di pubblicazione: 30 luglio 2024