Myndun kísildíoxíðs á yfirborði kísils er kölluð oxun og sköpun stöðugs og sterklega viðloðandi kísildíoxíðs leiddi til fæðingar kísilsamþættra hringrásar planar tækni. Þó að það séu margar leiðir til að rækta kísildíoxíð beint á yfirborði kísils, er það venjulega gert með varmaoxun, sem er að útsetja kísilinn fyrir háhitaoxandi umhverfi (súrefni, vatn). Hitaoxunaraðferðir geta stjórnað filmuþykktinni og kísil/kísildíoxíð tengieinkennum við gerð kísildíoxíðfilma. Aðrar aðferðir til að rækta kísildíoxíð eru plasma anodization og blaut anodization, en hvorug þessara aðferða hefur verið mikið notuð í VLSI ferlum.
Kísill sýnir tilhneigingu til að mynda stöðugt kísildíoxíð. Ef nýkljúfur kísill verður fyrir oxandi umhverfi (svo sem súrefni, vatni) myndar það mjög þunnt oxíðlag (<20Å) jafnvel við stofuhita. Þegar kísill verður fyrir oxandi umhverfi við háan hita myndast þykkara oxíðlag á hraðari hraða. Grunnaðferðin við myndun kísildíoxíðs úr sílikoni er vel skilin. Deal og Grove þróuðu stærðfræðilegt líkan sem lýsir nákvæmlega vaxtarvirkni oxíðfilma sem eru þykkari en 300Å. Þeir lögðu til að oxun fari fram á eftirfarandi hátt, það er að oxunarefnið (vatnssameindir og súrefnissameindir) dreifist í gegnum núverandi oxíðlag að Si/SiO2 tenginu, þar sem oxunarefnið hvarfast við sílikon og myndar kísildíoxíð. Helstu hvarfinu til að mynda kísildíoxíð er lýst sem hér segir:
Oxunarhvarfið á sér stað við Si/SiO2 tengið, þannig að þegar oxíðlagið vex er sílikon stöðugt neytt og tengið fer smám saman inn í sílikon. Samkvæmt samsvarandi þéttleika og mólþunga kísils og kísildíoxíðs má komast að því að kísillinn sem neytt er fyrir þykkt lokaoxíðlagsins er 44%. Á þennan hátt, ef oxíðlagið vex 10.000Å, mun 4400Å af sílikoni neytt. Þetta samband er mikilvægt til að reikna út hæð þrepanna sem myndast ásílikonskífa. Skrefin eru afleiðing mismunandi oxunarhraða á mismunandi stöðum á yfirborði kísilskífunnar.
Við seljum einnig háhreint grafít og kísilkarbíð vörur, sem eru mikið notaðar í oblátavinnslu eins og oxun, dreifingu og glæðingu.
Verið velkomin viðskiptavinum frá öllum heimshornum til að heimsækja okkur til frekari umræðu!
https://www.vet-china.com/
Birtingartími: 13. nóvember 2024