Baki Grafit Deposisi Baki Pemuatan PECVD

Deskripsi Singkat:

Baki Pemuatan PECVD VET Energy dirancang untuk memberikan dukungan yang aman dan merata pada wafer selama pengendapan, meningkatkan konsistensi dan kualitas proses pengendapan. Dengan ketahanan panas yang sangat baik, Baki Grafit membantu menjaga lingkungan terkendali di dalam ruang PECVD, mengurangi risiko kontaminasi dan memastikan efisiensi proses yang tinggi.

Kirim email ke kami Unduh sebagai PDF

Detail Produk

Label Produk

Baki pemuatan PECVD Energi VET adalah pembawa presisi yang dirancang untuk proses PECVD (pengendapan uap kimia yang ditingkatkan plasma). Baki grafit deposisi berkualitas tinggi ini terbuat dari bahan grafit dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi. Ini memiliki ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan korosi, stabilitas dimensi dan karakteristik lainnya. Ini dapat menyediakan platform pembawa yang stabil untuk proses PECVD dan memastikan keseragaman dan kerataan deposisi film.

Baki pemuatan VET Energy PECVD banyak digunakan di bidang semikonduktor, fotovoltaik, LED, dan lainnya. Misalnya:

▪ Semikonduktor: Proses PECVD untuk bahan semikonduktor seperti wafer silikon dan wafer epitaksi.

▪ Fotovoltaik: Proses PECVD untuk film tipis sel surya.

▪ LED: Proses PECVD untuk chip LED.

Keunggulan Produk

▪Meningkatkan kualitas film:Pastikan deposisi film seragam dan tingkatkan kualitas film.

▪Memperpanjang umur peralatan:Ketahanan korosi yang sangat baik, memperpanjang masa pakai peralatan PECVD.

▪Mengurangi biaya produksi:Baki grafit berkualitas tinggi dapat mengurangi tingkat kerusakan dan mengurangi biaya produksi.

Bahan grafit dari SGL:

Parameter khas: R6510
Indeks	Standar tes	Nilai	Satuan
Ukuran butir rata-rata	ISO 13320	10	m
Kepadatan massal	DIN IEC 60413/204	1.83	gram/cm³
Porositas terbuka	DIN66133	10	%
Ukuran pori sedang	DIN66133	1.8	m
Permeabilitas	DIN 51935	0,06	cm²/detik
Kekerasan Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistivitas listrik spesifik	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Kekuatan lentur	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kekuatan tekan	DIN 51910	130	MPa
modulus Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Ekspansi termal (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Konduktivitas termal (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Ini dirancang khusus untuk pembuatan sel surya efisiensi tinggi, mendukung pemrosesan wafer ukuran besar G12. Desain kapal induk yang dioptimalkan secara signifikan meningkatkan hasil, memungkinkan tingkat hasil yang lebih tinggi dan biaya produksi yang lebih rendah.

Barang	Jenis	Pembawa wafer nomor
Perahu Grephite PEVCD - Seri 156	156-13 perahu grefit	144
	156-19 perahu grefit	216
	156-21 perahu grefit	240
	156-23 perahu grafit	308
Perahu Grephite PEVCD - Seri 125	125-15 perahu grefit	196
	125-19 perahu grefit	252
	125-21 perahu grfit	280